-
-
AT-400 原子层沉积
- 品牌:美国ANRIC
- 型号: AT-400
- 产地:美国
- 供应商报价: 面议
- 德国韦氏纳米系统(香港)有限公司
-
企业性质
入驻年限第10年
营业执照
- 同类产品
-
为您推荐
- 详细介绍
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。