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DRC-ICP-MS在半导体超纯材料分析中的应用

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实验/设备条件
样品提取
实验/操作方法
实验结果/结论
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半导体工业的快速发展对超纯材料的分析提出了越来越高的要求,10年前SEMI要求达到10ppb的杂质水平检测就可以满足要求了,现在则必须达到100ppt(国际半导体设备与材料SEMI Grade 4),对H2O2HNO3HF等关键试剂则进一步要求达到SEMI Grade 5所规定的10ppt的水平这是传统的ICP-MS所无法做到的本文介绍了DRC-ICP-MS的基本原理及其在半导体工业的实际应用
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