使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓
引言铬是一种具有多价态的金属,最常见的有Cr(III)和Cr(VI),其中Cr(VI)毒性是Cr(III)的
四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种广泛用于半导体光刻工艺和液晶显示器(LCD)生产中形成酸性光阻的基本溶剂由于
通常情况下,蚀刻液由硫酸和过氧化氢配制而成由于是与其他化学物质一起使用的,任何金属杂质的引入都将会对IC器件
任何金属杂质的存在都将对IC器件的可靠性产生不利影响在半导体实验室进行其他半导体材料分析时也常常会使用硝酸,
近几年zeta电位的研究在理解和调整表面性能方面已经占据增进的重要地位Zeta电位能灵敏指示表面电荷表面电导
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)一直是分析尿液、血液、血清、唾液等体液以及各类组织中各种痕量元素(如铅
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超纯水(UPW)被广泛地用于半导体器件生产中所有湿法工艺步骤,包括晶片冲洗和化学浴中化合物的稀释。在这些关键