- 离子束刻蚀系统简介
- 离子束刻蚀利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子,氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击,以达到刻蚀的作用。把氩气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体,然后由栅极将离子呈束状引出并加速,具有一定能量的离子束进入工作室,射向固体表面轰击固体表面原子,使材料原子发生溅射,达到刻蚀目的,属纯物理刻蚀。离子束刻蚀技术主要用于各种金属以及氧化物等复杂体系的刻蚀等,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。
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