- 激光溅射沉积系统简介
- 脉冲激光溅射沉积技术(Pulsed Laser Deposition)发展于1965年,是一种能够制备多种材料的复合层结构薄膜的技术。脉冲激光溅射沉积在理论上是一个非常复杂的物理、化学过程。它不仅存在有固态靶材上高能脉冲激光辐射与材料相互作用的物理过程,而且也包含了高能粒子族等离子体羽辉的形成以及羽辉与被加热的基片表面接触时被烧蚀物质的转移。目前PLD技术在铁电、半导体、金刚石等多种功能薄膜以及生物陶瓷薄膜的制备上显示出广阔的应用前景。
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