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Nd:YAG和Nd:YVO4激光2倍频成分
Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的谐波广泛用于材料加工和测量应用。此外,Nd:YAG激光器的二次谐波通常用作Ti:蓝宝石激光器的泵浦源。在这些页面上,我们引入了532nm的光学器件:双波长反射镜,分离器,薄膜偏振器和非偏振分束器,还包括不同配置的紧凑型二极管泵浦激光器的腔体光学器件。所有设计均按客户要求计算。图1:泵浦波长(808nm)具有高透射率的双波长腔镜的反射光谱(a)和双波长转向镜(b)图2:来自地面波长的2倍频的分离器的反射光谱:(a):HR(0°,1064nm)>99.9%+R(0°,532+808nm)<3%(b):HRs+p(45°,532nm)>99.9%+Rs+p(45°,808+1064nm)<2%图3:532nm的薄膜偏振器(a)和非偏振分光镜(b)的反射光谱,Rs=Rp=50±2%(|Rs-Rp|<3%)用于p偏振光的薄膜偏振器的传输可以通过改进的空腔环形降低设置以高精度测量。图4:二次谐波和地波(a)的三次谐波分离器和355nm和532nm双波长转向镜的反射光谱(b)对于紫外光谱范围内谐波的分离器的常规规格,请参见本网站的表格。请立即与我们联系分离器或具有其他发生角度的镜子。图5:1064nm的HR镜的反射光谱,其也是532nm的输出耦合器:HR(0°,1064nm)>99.9%+R(0°,532nm)=99%非线性光学晶体上的涂层非线性光学晶体是变频的关键要素。LAYERTEC在晶体上提供各种涂层,如KTP和铌酸锂图6:532nm和1064nm的KTP上双重抗反射涂层的反射光谱Nd:YAG和Nd:YVO4激光3倍频成分Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的3倍频在材料加工以及测量应用领域以及作为光参量振荡器的泵浦源方面日益重要。在这些页面上,我们引入了355nm的光学器件:单波长镜和多波长镜,分离器,薄膜偏振器和抗反射涂层。所有设计均按客户要求计算。图1:用于法向入射(a)和转向镜(b)的单波长镜的反射光谱图2:355nm和532nm(a)的双波长转向镜的反射光谱的波长转向镜为355nm,532nm和1064nm(b)图3:来自2倍频和地面波长的3倍频分离器的反射光谱:(a):标准型(b):对于1064nm的低反射率而特别优化的分离器对于紫外光谱范围内谐波的分离器的常规规格,请参见本网站的表格。请立即与我们联系分离器或具有其他发生角度的镜子。图4:2倍频和地面波长3倍频特殊分离器的反射光谱:(a)氟分离器HR(45°,355nm)>95%+Rp(45°,532nm)<2%+Rs,p(45°,1064nm)<2%(b)HR(45°,532nm)>99.8nm+R(45°,355nm)<5%氟分离器在高功率密度下显示出延长的使用寿命。图5:355nm薄膜偏光片的反射光谱:HR(55°,355nm)>99%+Rp(55°,355nm)<5%可以通过角度调整来优化p偏振光的透射。将偏振器倾斜±2°将Rp的Z小值偏移到更长或更短的波长,这可以显着提高偏振率。图6:用于355nm的单波长AR涂层的反射光谱针对AOI=0°-30°(a)和在355nm,532nm和1064nm的熔融二氧化硅上的三重波长抗反射涂层。Nd:YAG和Nd:YVO4激光器高次倍频成分Nd:YAG和Nd:YVO4激光器的倍频广泛用于材料加工和测量应用。在这些页面上,我们为第四(266nm)和第五倍频(213nm)引入双波长镜和隔离器。所有设计均按客户要求计算。图1:266nm和355nm(a)的双波长转向镜的反射反射光谱和来自长波长倍频和地面波长(b)的四次倍频的分离器图2:来自长波长倍频和地面波长(b)的五次倍频(a)转向镜和五次倍频分离器的测量反射光谱;CaF2上的氟化涂层Separator
typeCentre
wavelengthReflectanceatcentre
wavelength[%]Reflectanceatthecorrespondinglonger
Nd:YAGwavelengths[%]266nm
355nm
532nm
1064nm
Rs
Rp
Rs
Rp
Rs
Rp
Rs
Rp
Rs
Rp
3rdharmonic
355nm
>99.7
>99
<5
<2
<10
<2
4thharmonic
266nm
>99.7
>99
<5
<2
<10
<2
<10
<2
5thharmonic
213nm
>97
>93
<5
<2
<10
<2
<10
<2
<10
<2
表1:紫外线倍频分离器的通用规格*CaF2上的氟涂层图3:来自第四倍频的二次倍频的分离器的反射光谱:(a):HR(0°,532nm)>99.5%+R(0°,266nm)<10%(后侧未涂布)(b):HR(0°,532nm)>99.9%+R(0°,266nm)<5%(后侧未涂布)266nm的组件通常通过电子束蒸发产生。这些涂层表现出高的损伤阈值,但可见光谱范围内的反射率限制在>99.5%(见图3a)。Z近关于紫外线溅射涂层的研究结果表明,可以产生在VIS中具有显着改善的反射率的分离器,其在UV中具有相似的性质(参见图3b)。图4:第四和第五倍频分离器的反射光谱:对于非偏振光,HRr(45°,266nm)>98%+Rr(45°,213nm)<10%a)为低杂散损耗而优化的氧化物涂层(背面未涂层)b)氟化物涂层,用于高激光诱发损伤阈值(背面未涂层)因为氧化铝的吸收边缘在这个波长范围内开始,所以在213nm处的五次倍频是氧化物涂层的关键波长。对于高功率应用,我们建议根据ArF准分子激光镜技术生产的氟化钙氟涂层。薄膜偏光镜图5:266nm(a)和213nm(b)的薄膜偏振器的反射光谱:a)HR(56°,266nm)>98%+Rp(56°,266nm)<1%b)HR(56°,213nm)>97%+Rp(56°,213nm)<5%;请注意,由于上述的失血损失,Tp只有75%左右磁控溅射使我们能够为Nd:YAG激光器的第四和第五倍频提供薄膜偏振器。仪器网-专业分析仪器服务平台,实验室仪器设备交易网,仪器行业专业网络宣传媒体。
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- 2004-09-12 09:23:05
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