- Nature子刊!小型无掩膜光刻助力光电运动检测传感器实现全天候检测
- JACS重要成果!超精准可调节温度控制助力钙钛矿相变的光致发光成像!
- 重磅!Alliance iS Bio HPLC System新品发布会,开启“大”道至简的生物分离新时代
- 天勤鑫圣与沃特世共建“药物安全性评价生物分析技术合作平台”,助力生物分析新技术发展
- 善时仪器邀您共赴重庆国际电池技术展览会 CIBF 2024
- 环境检测 “离”不开你—Inuvion 高压离子色谱助力环境检测
- 以自研科技出海,瑞沃德在德国 analytica 2024 中尽展国产力量
- 持续活跃!瑞沃德诚邀您参加温州&深圳两地会议
- 融合创新,质领未来 | 青源峰达“THz+ & IC+”双生态亮相2024第十七届中国科学仪器发展年会
- 电热恒温培养箱
- 同惠TH2690静电计在100G贴片大电阻测试方案
- 2024年度赛默飞色谱质谱工业技术全国巡演
- 乘势开拓谱新篇!瑞沃德惊艳亮相中国细胞生物学学会2024年全国学术大会!
- 来源:内容来源于网络 浏览量:1431次
- 【导读】全自动磁控溅射系统是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀...
全自动磁控溅射系统是物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年代发展起来的全自动磁控溅射系统法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。全自动磁控溅射系统通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
直流溅射法要求靶材能够将从离子轰击过程中得到的正电荷传递给与其紧密接触的阴极,从而该方法只能溅射导体材料,不适于绝缘材料,因为轰击绝缘靶材时表面的离子电荷无法中和,这将导致靶面电位升高,外加电压几乎都加在靶上,两极间的离子加速与电离的机会将变小,甚至不能电离,导致不能连续放电甚至放电停止,溅射停止。故对于绝缘靶材或导电性很差的非金属靶材,须用射频溅射法(RF)。
溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种能量传递过程:首先,入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞,入射粒子的一部分动能会传给靶材原子,某些靶材原子的动能超过由其周围存在的其它原子所形成的势垒(对于金属是5-10eV),从而从晶格点阵中被碰撞出来,产生离位原子,并进一步和附近的原子依次反复碰撞,产生碰撞级联。当这种碰撞级联到达靶材表面时,如果靠近靶材表面的原子的动能大于表面结合能(对于金属是1-6eV),这些原子就会从靶材表面脱离从而进入真空。
溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。通常,利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成,基片作为阳极,真空室中通入0.1-10Pa的氩气或其它惰性气体,在阴极(靶)1-3KV直流负高压或13.56MHz的射频电压作用下产生辉光放电。电离出的氩离子轰击靶表面,使得靶原子溅出并沉积在基片上,形成薄膜。溅射方法很多,主要有二级溅射、三级或四级溅射、磁控溅射、对靶溅射、射频溅射、偏压溅射、非对称交流射频溅射、离子束溅射以及反应溅射等。
由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子的扩散能力,提高沉积组织的致密程度,使制出的薄膜与基片具有强的附着力。
溅射时,气体被电离之后,气体离子在电场作用下飞向接阴极的靶材,电子则飞向接地的壁腔和基片。这样在低电压和低气压下,产生的离子数目少,靶材溅射效率低;而在高电压和高气压下,尽管可以产生较多的离子,但飞向基片的电子携带的能量高,容易使基片发热甚至发生二次溅射,影响制膜质量。另外,靶材原子在飞向基片的过程中与气体分子的碰撞几率也大为增加,因而被散射到整个腔体,既会造成靶材浪费,又会在制备多层膜时造成各层的污染。
为了解决阴极溅射的缺陷,人们在20世纪70年代开发出了全自动磁控溅射技术,它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点,因而获得了迅速发展和广泛应用。
其原理是:在全自动磁控溅射系统中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动,其运动路径变长,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增大,从而全自动磁控溅射系统速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作,降低薄膜污染的倾向;另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。因此全自动磁控溅射系统法具有“高速”、“低温”的优点。该方法的缺点是不能制备绝缘体膜,而且磁控电极中采用的不均匀磁场会使靶材产生显着的不均匀刻蚀,导致靶材利用率低,一般仅为20%-30%。仪器网-专业分析仪器服务平台,实验室仪器设备交易网,仪器行业专业网络宣传媒体。
相关热词:
等离子清洗机,反应釜,旋转蒸发仪,高精度温湿度计,露点仪,高效液相色谱仪价格,霉菌试验箱,跌落试验台,离子色谱仪价格,噪声计,高压灭菌器,集菌仪,接地电阻测试仪型号,柱温箱,旋涡混合仪,电热套,场强仪万能材料试验机价格,洗瓶机,匀浆机,耐候试验箱,熔融指数仪,透射电子显微镜。
- 2004-09-20 09:23:06
- 标签:
- 收藏(0) 赞(0) 踩(0)
- 随时了解更多仪器资讯,求购、招标、中标信息实时更新,厂商招商信息随时看。大量、齐全、专业的仪器信息尽在仪器网(yiqi.com)。扫一扫关注仪器网官方微信,随时随地查看仪器用户采购、招标需求!
-
磁控溅射2007-06-14 09:50:16
阴极)气)高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar磁控溅射一般分为二种
-
智易时代加油站VOC在线监测系统技术方案2004-07-10 09:35:15
智易时代加油站VOC在线监测系统技术方案
-
红外光谱仪联用系统技术参数2004-07-26 09:12:05
红外光谱仪联用系统技术参数:1.气体单元长度/容积:70mm/5.8ml(内部无反射镜,光路稳定);2.检
-
电压降测试系统技术参数2004-08-12 09:23:07
电压降测试系统技术参数:测量项目技术规格精度1.测试电流(选购)0-40A0-60A0-100A0-200A
-
WD-2101A型 脉冲电泳系统 技术参数2004-09-01 09:23:13
WD-2101A型脉冲电泳系统技术参数北京总代理010-59483667热门关键词:WD-2101A型脉冲电
-
脱硫脱硝CEMS烟气连续监测系统使用条件 3.1 分析小屋的要求 3.2 2004-09-09 09:23:05
脱硫脱硝CEMS烟气连续监测系统使用条件1系统使用环境条件TR-9300型脱硫脱硝CEMS烟气连续监测系统正
-
SICK激光扫描测量系统技术文章2004-10-16 09:23:06
SICKBulkscanLMS511激光扫描测量系统技术文章集成处理软件,能够直接计算固体散料体积、重量、质
-
衡器接地系统技术和维护以及防止作弊。2004-11-28 09:23:15
衡器接地系统技术和维护一、概述衡器(电子衡器只是其中的一种,但衡器有其特殊性,大型衡器的承载器大多在露天工作
-
智能化80吨电子汽车衡的系统技术2004-12-02 09:23:14
智能化80吨电子汽车衡的系统技术上海倍微衡器有限公司主要经营电子地磅、电子汽车衡、电子叉车秤、电子吊秤、电子
-
水处理系统技术中自动化仪表的应用2006-07-09 10:26:55
水处理系统技术中自动化仪表的应用 一 自动化仪表在水处理系统中的重要地位 在现代
全自动磁控溅射系统技术分类
-
您可能感兴趣
①本文由仪器网入驻的作者或注册的会员撰写并发布,观点仅代表作者本人,不代表仪器网立场。若内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们立即通知作者,并马上删除。
②凡本网注明"来源:仪器网"的所有作品,版权均属于仪器网,转载时须经本网同意,并请注明仪器网(www.yiqi.com)。
③本网转载并注明来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。
④若本站内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱:hezou_yiqi