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Nicolet 硅分析系统
- 品牌:赛默飞世尔
- 型号: Nicolet 硅分析系统
- 产地:美国
- 供应商报价: ¥ 333333
- 深圳市瑞盛科技有限公司
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企业性质
入驻年限第9年
营业执照
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- 详细介绍
ThermoScientificNicolet硅分析系统性能,拥有成本低,可靠性高。
Nicolet分析系统可以快速测量间隙碳和间隙氧以及外延薄膜厚度,适用于半导体晶片生产和太阳硅应用。经光伏硅转换太阳能的需求持续显著增长,Nicolet硅分析系统可提供快速、可靠的多功能分析。Nicolet硅分析系统的处理选项包括:1)自动分析300mm(最大)的晶片;2)低成本手动测量单个点。本系统可提供行业趋势变化所需的灵活性,可用于方形晶片和金属片的分析。
具有硅分析选项,可以满足各种预算需求。所有解决方案均包括软件工具,其中包括:碳、氧和外延薄膜(300nm至7500nm)分析
定量算法广泛,扩展了功能,其中包括:线性回归法、经典最小二乘法(CLS)和偏最小二乘法(PLS)
支持ASTM和JEIDA标准,可以测量替代碳和间隙氧
此高级自动分析系统以Nicoletx700光谱仪为基础,可满足要求苛刻的操作环境。此应用软件具有完全自动化的扫描成像平台,所含软件可以实现:
灵活的测量选择:从单点绘制到整个晶片绘制
处理300mm(最大)的晶片
透射与反射能力测量:可以接受的材料和薄膜非常广泛
简便的用户操作
此手动分析系统基于Nicoletx700或NicoletiS10FT-IR光谱仪,适用于要求不太苛刻的QA/QC应用。此系统在样品室中使用手动旋转平台,包括:
单点分析手动定位样品
在样品室中处理晶片
具有透射测量能力,可以接受众多材料和薄膜
推荐应用:测量硅中碳和氧的含量,以便对光伏器件进行过程控制
介电薄膜中掺杂物的浓度级别(BPSG、PSG、FSG等)
氮化硅薄膜中的氢含量
外延薄膜厚度
MEMS器件厚度
硅片中的代位碳和间隙氧含量