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EMPro 多入射角激光椭偏仪
- 品牌：赛凡
- 型号： EMPro
- 产地：北京
- 供应商报价： 面议
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北京赛凡光电仪器有限公司
更新时间：2023-06-15 14:44:44 -
企业性质
入驻年限第4年
营业执照
- 同类产品椭偏仪及配件(11件)
联系方式：刘经理010-80885970
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- 详细介绍
EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。
EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。
EMPro采用了量拓科技多项ZL技术。特点：
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原子层量级的极高灵敏度
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百毫秒量级的快速测量
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简单方便的仪器操作
应用：EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。技术指标：
项目
技术指标
仪器型号
EMPro31
激光波长
632.8nm (He-Ne Laser)
（1）膜层厚度精度
0.01nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
（1）折射率精度
1x10-4(对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
单次测量时间
与测量设置相关，典型0.6s
结构
PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）
激光光束直径
1mm
入射角度
40°-90°可手动调节，步进5°
样品方位调整
- Z轴高度调节：±6.5mm
- 二维俯仰调节：±4°
- 样品对准：光学自准直和显微对准系统
样品台尺寸
平面样品直径可达Φ170mm
最大的膜层范围
- 透明薄膜可达4000nm
- 吸收薄膜则与材料性质相关
最大外形尺寸
887 x 332 x 552mm (入射角为90时)
仪器重量（净重）
25Kg
选配件
- 水平XY轴调节平移台
- 真空吸附泵
软件
ETEM软件：
- 中英文界面可选；
- l多个预设项目供快捷操作使用；
- l单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；
- 方便的数据显示、编辑和输出
- 丰富的模型和材料数据库支持
注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。
性能保证：
- 高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度
- 高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
- 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
- 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
- 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
- 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用
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- 技术资料
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