MicroChem / Nippon Kayaku - 光刻胶

•  SU-8 2000 and 3000 series Resists

10µm features in 50µm SU-8 3000 (contact expose)
Source: MicroChem

Material uses:

• MEMS
  

• DRIE
  

• Electroplating
  

• Permanent Structures
  

Material attributes:

• High aspect ratio with vertical sidewalls
  

• High chemical and plasma resistance
  

• Greater than 100 µm film thickness in a single coat
  

• Excellent adhesion to metals
  

• Wet strips in conventional strippers
  

• Excellent dry etch resistance

PMGI與LOR去阻，可提高生產量。金屬剝離處理中的各種從數據存儲和無線芯片的應用，以微機電系統。使用下面的雙層堆疊光致抗蝕劑，PMGI和LOR延伸剝離處理的限制之外，其中單層抗蝕策略可以達到。這包括非常高的分辨率金屬（4µm微米）的金屬化。這些獨特的材料，可在各種處方，以滿足幾乎所有客戶的需求。

PMGI与LOR抵抗使产量高，金属剥离处理中的各种从数据存储和无线芯片的应用，以微机电系统。使用下面的双层堆叠光致抗蚀剂，PMGI和LOR延伸剥离处理的限制之外，其中单层抗蚀策略可以达到。这包括非常高的分辨率金属（4µm微米）的金属化。这些独特的材料，可在各种，以满足几乎所有客户的需求。

• 高分辨，可用于 <0.25 μm Lift-off 工艺

• undercut 结构可控，溶解速率易于调节

• 在Si，NiFe，GaAs，nP和其它III-V材料上有良好的粘附力

• 与 g-， h-，i-line，DUV，193 nm 和 E-beam 光刻胶等兼容

• 良好的耐热稳定性

• 去胶容易，剥离干净

Bi-Layer Lift-Off Process                                                          Lift-Off: An enab领, additive lithographic process

GaAs Modulator with Al airbridge
Source: Nortel

PMGI used as a sacrificial layer on which the airbridge was built. The PMGI layer was subsequently removed with conventional resist removal processing.

• 电子束抗蚀剂：可用于电子束，X线，DUV曝光

•  特征尺寸：<0.1μm，多种分子量和固含量可选

• 与多数基底的粘附力非常好，亦适合多层涂覆工艺

• 分子量大小：495K,950K，其它可选

• 溶剂： 苯甲醚A或氯苯C
  

• 固含量：2%~11%，或其它可选。

PMMA & Copolymer Resists:

PMMA Resist Data Sheet

LightLink Optical Waveguide Materials 光波导材料
Licensed from the Dow Chemical Company (陶氏化学授权)   

• 多模传输(830-860 nm)    

• 单模传输 (1300-1500 nm, 短路徑)     

• 板级光互连        

材料特色:  

• 相容於目前制程设备

• 可使用微影定义图形, 水系显影剂, 支援1:1深宽比和10um解析力

• 对可见光及进红外光有高穿透性

• 低光损达 0.05 dB/cm at 850 nm

• 低双折 射<0.0001 at 850 nm

• 优越的环境及湿度可靠性

• 高机械强度                                          

PriElex®是一个新的具有功能性油墨的高分子材料，可用喷墨印刷的方式来制作电子元件。PriElx聚合油墨设计及喷墨特性的优化，可适用於无光罩式微影、快速成型、和乾净非接触式印刷。比起其它一般光阻材料PriElx更为了喷墨性能，例如粘度、蒸发速率、表面张力、等待时间，耐热稳定性等来做特别开发。

MicroChem目前可提供XPPriElx SU-8 1.0，是一种可喷墨式的SU-8光阻材料，可用喷墨方式来制作单层或多层的结构。配合FUJIFILM Dimatix 材料喷墨机使用，可应用在微结构制造上。

目前还有其它功能性喷墨材料在研发中。

PriElex® SU-8 Direct Write: 5 passes, linear scan
Source: MicroChem Corp

Via pattern created with additive inkjet process
Source: MicroChem Corp