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Chemcut - 湿法蚀刻设备
- 品牌：美国Chemcut
- 型号： Chemcut 2300 系列
- 产地：美国
- 供应商报价： 面议
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香港电子器材有限公司
更新时间：2024-04-16 09:23:55 -
企业性质授权代理商
入驻年限第7年
营业执照已审核
- 同类产品制程(3件)
联系方式：刘小姐021-63813293
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- 详细介绍
产品简介
导线框架(QFN)和BGA背蚀刻和半蚀刻系统 硷性蚀刻： •蚀刻速率：25 - 40 um / min，适用於厚铜(15um以上)蚀刻技术。
•低侧蚀。
•金属(镍/金)镀层无损坏。
酸性蚀刻：
•蚀刻速率：5-10微米/分钟，适用於簿铜(15um以下)蚀刻技术。
•高侧蚀。
•可能会损坏金属(镍/金)电镀。
Chemcut 2300 系列 小批量生产批量和原型系统
Chemcut 2300 是一种紧凑，双面，水平，传送带式，振荡喷射处理系统系列，采用了与大型系统相同的成熟技术和质量。 2300系列非常适用于实验室，原型和小批量印刷电路以及化学机械加工零件，仪表板和铭牌。
本系列湿法设备有多种配置，可用于铜和氯化铁蚀刻，碱性氨蚀刻，抗蚀剂显影，化学清洗和抗蚀剂剥离。该机器的特殊版本可用于专业处理，如使用氢氟酸和硝酸混合物进行蚀刻以及高温蚀刻（最高160°F，71°C）。
适用于：
化学清洗铁蚀刻
铜蚀刻
碱性蚀刻
抗蚀剂显影
抗蚀剥离
宽度15到20英寸
18 X 24功能
应用于：
原型商店小批量商店
开发实验室
研发部门
大学
特殊加工
替代化学品
研磨特殊合金
减少废物
湿式加工设备 CC8000 CC8000 设计用於加工半导体，IC (引线框架和IC基板)，高端HDI PCB / FPC，触控和LCD显示萤幕，太阳能和精密金属零件。其独特的喷涂架设计使其能够达到更高水平的蚀刻品质。自启动以来，已成交并安装了700多个系统。 晶圆图案制作： •乾膜显影
•铜蚀刻
•钛/钨蚀刻
晶圆Bumping湿法工艺：•光阻显影：与Pad制作类似
•光阻剥离：需要高喷洒压力(30 - 40 bars)
•种子层(UBM)蚀刻：使用喷洒或浸渍技术
