ETD-3000 小型离子溅射仪

ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；高压输出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。

工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得**镀膜效果。

配有高位定性的飞跃真空泵

ETD-3000高压离子溅射仪参数：

溅射气体：根据实验目的可添加氩气，氮气等多种气体。

溅射靶材：标配靶材为金靶，厚度为50mm*0.1mm。也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。

溅射电流：最大电流50mA,最大工作电流30mA

样品仓尺寸：直径160mm，高120mm

样品台尺寸：样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台

工作电压：220V(可做110V),50HZ

需要镀膜的样品

电子束敏感的样品电子束敏感的样品：

主要包括生物样品， 塑料样品等。S EM 中的电子束具有较高能量， 在与样品的相互作用 过程中，它以热 的形式将部分能量 传递给样品。如果 样品是对电子束敏感 的材料，那这种相 互作用会破坏部分 甚至整个样品结构。 这种情况下，用一种 非电子束敏感材料 制备的表面镀层就 可以起到保护层 的作用，防止此类损伤；

非导电的样品：

由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。

新材料：

非导电材料实验电极制作观察导电特性

ETD系列镀膜仪是一款专为SEM、TEM及薄膜应用设计的真空镀膜仪，对于扫描电镜尤其是高分辨场发射扫描电镜(SEM)样品制备、透射电镜(TEM)及其它非电镜(如材料领域)镀膜应用非常理想。ETD离子溅射仪采用金属压制的标准机箱，此机箱做工精良，结构稳固。飞越牌真空泵抽数快，真空稳定性高。自主设计的微型真空阀能准确的控制好压强，保证了镀膜期间**的真空条件。真空腔室直径为165mm (6.5英寸)的硼硅酸盐玻璃，特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。ETD系列含有电磁阀装置，在工作完毕后缓慢，平稳的进气以确保镀好的膜层尽可能的不被空气中的杂质所污染。ETD系列有七种型号：ETD-900、ETD-800、ETD-900C、ETD-800C、ETD-900M、ETD-3000、ETD-MH、ETD-CH，其中ETD-900C为一款集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式的系统，镀膜头可在数秒内快速完成镀膜。它既可溅射易氧化及不氧化金属（贵金属），标配一块金靶，可选金、银、铂等多种金属靶；用来制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜，对透射电镜（TEM）的应用非常理想。

ETD-900M为一款溅射插入头为磁控系统的溅射仪，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射成膜中的精细颗粒结构；

ETD-3000型为一款针对材料做电极的溅射仪，较高的输出电压能使成膜更加牢固，防止膜层脱落。

仪器特点：

 金属溅射和碳蒸发两者兼备，一体化设计，结构紧凑，节约空间。

 精细颗粒溅射——适合先进的高分辨率场发射扫描电镜和钨灯丝扫描电镜制样的应用。

  定时器控制——快速数据输入，操作简单。采用定时器作为简单的操作核心，即使最不熟练的或偶而使用的操作者，仪器也能使其快速键入自己的处理数据。

  微型真空调节阀让使用者更好调节真空，以适应不同的靶材和材料，形成最更优质的薄膜。

  精细的厚度控制——使用膜厚监控选项。（选配）

  先进的碳纤维夹持上盖——简单操作，重复性好。

  标配高低可调节样品台，可放置多个样品杯。还可定制多种型号样品台。

  自动泄气装备可防止真空泵由于压差原因使油倒灌进样品室，还可避免样品突然暴露在空气中造成膜的污染。

   标准成型机箱——小巧，美观，易维护和易拆装。

特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

部分可选项：

 光纤夹持旋转样平台

 球型旋转台

 显微镜载玻片样品台

 用于高样品的加高腔室

 膜厚监测附件（FTM），用于可重复膜厚控制：到达理想膜厚。

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