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双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
- 品牌：合肥科晶
- 型号： VTC-600-2HD
- 产地：安徽
- 供应商报价： 面议
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合肥科晶材料技术有限公司
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企业性质
入驻年限第9年
营业执照
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- 详细介绍
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。
技术参数
结构
（点击图片查看详细资料）输入电源
220VAC50/60Hz,单相
2000W(包括泵)
溅射电源
安装有两个溅射电源
直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜
射频（RF）电源：600W，可制作氧化物和金属膜
同时可选配300W的射频电源
磁控溅射头
仪器中安装有2个磁控溅射头，而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温
其中一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材
靶材尺寸要求：金属靶：直径为50mm,最大厚度1.5mm
陶瓷靶：直径为50mm,最大厚度6mm
仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶
溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）
也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头，订购前需于本公司销售人员联系
真空腔体
真空腔体：300mmDiax300mmh，采用不锈钢制作
观察窗口：100mm
腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易
载样台
载样台尺寸：140mm（最大可放置4"的基底）
载样台可以旋转，其速度为：1-20rpm（可调）
载样台最高可加热温度为500℃，控温精度为+/-1.0°C
气体流量控制器
仪器内部安装有2个质量流量计
量程为：0-200sccm
气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
真空泵系统
配有一套分子泵系统（德国制作），采用一键式操作
薄膜测厚仪
一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10?
LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
外形尺寸
L1300mm×W660mm×H1200mm
重量
160kg
质保期
一年质保期，终生维护
