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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
- 品牌：合肥科晶
- 型号： VTC-2RF
- 产地：安徽
- 供应商报价： 面议
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合肥科晶材料技术有限公司
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企业性质
入驻年限第9年
营业执照
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- 详细介绍
VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
技术参数输入电源
220VAC50/60Hz,单相
800W(包括真空泵）
等离子源
一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
(点击图片查看详细资料）磁控溅射头
一个2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接
靶材尺寸:直径为50mm,最大厚度6.35mm
一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）
溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）
同时可选配1英寸溅射头
真空腔体
真空腔体：160mmODx150mmIDx250mmH，采用高纯石英制作
密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封
一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体
真空度：10-3Torr（采用双极旋片真空泵）
10-5torr（采涡旋分子泵）
载样台
载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热
载样台尺寸：直径50mm（最大可放置2英寸的基片）
旋转速度：1-20rpm
样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃
控温精度+/-10℃
真空泵
我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售
薄膜测厚仪
一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10?
LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
外形尺寸
质保和质量认证
一年质保期，终生维护
CE认证
使用注意事项
这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度
为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量
请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内
