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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 100

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详细介绍

价格电议

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:

型号

KDC 100

供电

DC magnetic   confinement

 - 阴极灯丝

2

 - 阳极电压

0-100V DC

电子束

OptiBeam™

 - 栅极

专用, 自对准

 -栅极直径

12 cm

中和器

灯丝

电源控制

KSC 1212

配置

-

 - 阴极中和器

Filament,   Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安装

移动或快速法兰

 - 高度

9.25'

 - 直径

7.6'

 - 离子束

聚焦

平行

散设

 -加工材料

金属

电介质

半导体

 -工艺气体

惰性

活性

混合

 -安装距离

8-36”

 - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架


KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域:

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专 利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有,  翻拷必究!


产品优势
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.
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