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JBX-3200MV 电子束光刻系统
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-3200MV
- 产地:日本
- 供应商报价: 面议
- 捷欧路(北京)科贸有限公司 更新时间:2021-08-11 16:01:30
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企业性质生产商
入驻年限第6年
营业执照已审核
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- 详细介绍
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
zuixianjin的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
- 产品优势
- JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。