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多功能桌面型等离子清洗机PLUTO-M

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多功能桌面型等离子清洗机PLUTO-M 核心参数
自动化: 手动 样品腔尺寸: φ210mm*230mm
样品腔容积: 约8L 射频功率: 200W
频率: 13.56MHz
详细介绍

Pluto-M多功能等离子表面处理系统

    经过多年技术创新和积累,PLUTO-M创新性将真空式等离子体技术应用于各种不同领域的研究型操作平台,除了实现常规清洁样品和表面改性的功能外,通过添加不同的功能模块,可以实现等离子体镀膜,等离子体合成反应,等离子体纯化等功能,极大的拓展该设备的应用领域。

   

污染物清洗

清洗玻璃、金属、陶瓷、塑料等材料表面的有机物及其他污染物

表面活化

利用等离子体轰击样品表面,改变样品表面张力和活性

镀膜

采用等离子断键功能的专用装置,将镀膜材料以纳米级厚度均匀覆盖样品表面

等离子体刻蚀

对半导体材料、集成电路板、PCB板、塑料制品等材料进行刻蚀

等离子体反应

特别的工艺手段和装置,可以实现等离子体与样品的化学反应,并得到相应物质

粉体处理

粉体专用装置,可实现纳米级颗粒的等离子体均匀处理,实现各项性能


PLUTO-M参数(标准配置)

真空腔尺寸

不锈钢腔体,φ210mm*230mm

电极尺寸

多控自适应平板电极125*125mm

等离子体发生器

RF射频发生器,频率:13.56MHz;自适应阻抗匹配电源

功率

0-200W连续可调,精度1W

真空计

热电偶真空计   0-1000mT

供气

1路气体,6mm国标连接件(软管)

控制方式

4.3寸触摸屏,多级应用菜单,操控简易快捷

抽气装置

飞跃   VRD-8,二级油泵8m3/h

外部尺寸

404*640*615mm

 

     

纯铝腔体

间距可调电极

等离子体发生器

RF 13.56MHz 300W/500W,自动阻抗匹配电源

气体收集装置

用于收集等离子体化学反应后的气体

小型氧气发生器

用于制备氧气,可取代氧气罐

气体混合装置

可根据客户要求进行混气设计

加热电极模块

电极可以加热,室温-200℃可调

光谱仪模块

可增加光谱仪的接口,检测等离子体光谱变化

电极转换模块

可自由变换电极设计,样品可放在射频电极上,也可以放在地电极上,从而实现不同的处理效果





产品优势
PLUTO-M是一种非破坏性的表面处理设备,它是利用能量转换技术,在一定真空负压的状态下,以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体,该等离子体以一定能量作用于样品表面,引起分子结构改变和表面形貌的纳米级变化,从而达到对样品表面进行改性和分解污染物的目的。
PLUTO-M是一款将真空式等离子体技术应用于各种不同领域的研究性操作平台,除了实现常规清洁样品和表面改性的功能外,通过添加不同的功能模块,可以实现等离子体镀膜,等离子体合成反应,等离子体纯化等功能。极大的拓展该设备的应用领域。
等离子表面处理技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。PLUTO-M小型等离子表面处理设备以体积小、成本低、操作简便等特点广泛应用于科研及小批量生产场合。
产品直通车
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