桌面型紫外掩膜对准曝光机UV-KUB 3

桌面型紫外掩膜对准机是全球首kuan装备有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构，对准精度高达3微米，广泛用于光刻掩膜对准曝光，适用于微流体芯片，微电子，光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。

技术参数

• 分辨率：2微米

• 接收掩膜大小：5英寸 （2英寸可选）

• 接收衬底大小：2-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm

• 系统可视分辨率：3微米 （1.5微米可选）

• 掩膜/衬底测量距离分辨率：0.5微米

• theta衬底位移分辨率：5.10-4度

• XYZ衬底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可选）

• 波长：365nm 或 405nm

• 功率密度：35mW/cm^2

• 曝光中衬底升温：<1摄氏度

• 曝光时间：1秒到18小时

• 可编程曝光循环：>100个

• 尺寸：475x475x478mm

• 重量：55kg

• 触摸屏：15.6寸彩色触摸屏

• 电力要求：220V

• 用电功耗：180W