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Durham Microwriter ML3 无掩膜光刻机
- 品牌:英国Durham Magneto Optic
- 型号: ML3
- 产地:英国
- 供应商报价: 面议
- 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 更新时间:2024-03-27 08:51:09
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企业性质生产商
入驻年限第6年
营业执照已审核
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联系方式:廖敬强0755-81776600
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- 详细介绍
Durham Microwriter ML3 小型台式无掩膜光刻系统
小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。
Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
产品特点
Focus Lock自动对焦功能
Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。
光学轮廓仪
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向zui高精度100 nm,方便快捷。
标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。
别直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与有结构重合,保证直写准确。
简单的直写软件
MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
Clewin 掩模图形设计软件
•可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
•可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
•书写范围只由基片尺寸决定
产品参数
Microwriter ML3 基本型 增强型 旗舰型
最大样品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm
最大直写面积 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 适用于SU-8(365+405nm双光源可选)
直写分辨率 1μm 1μm and 5μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直写速度 20mm2/min @ 1μ m 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm 25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
对准显微镜镜头 x10 x3 and x10 自动切换 x3, x5, x10, x20 自动切换
多层套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
最小栅格精度 200nm 200nm 100nm
样品台最小步长 100nm 100nm 50nm
光学轮廓Z分辨率 无(可升级) 300nm 100nm
样品表面自动对焦 是 是 是
灰度直写(255级) 是 是 是
自动晶片检查工具 无(可升级) 有 有
温控样品腔室 无 (可升级) 无 (可升级) 有
虚拟模板校准工具 无(可升级) 无(可升级) 有
气动减震光学平台 无(可升级) 无(可升级) 有
应用案例
直写分辨率1μm
直写分辨率0.6μm
微电极制备
微结构制备
微流通道制备
- 产品优势
- Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向zui高精度100 nm,方便快捷。