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瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机

品牌：瑞士Swisslitho AG
型号： NanoFrazor 3D
产地：瑞士
供应商报价：面议

深圳市蓝星宇电子科技有限公司更新时间：2024-04-10 09:45:03

企业性质生产商

入驻年限第6年

营业执照已审核

同类产品瑞士 Nano Frazor(1件)

联系方式：廖敬强0755-81776600

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详细介绍

NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机

源自IBMzui新研发成果

    NanoFrazor纳米3D结构直写机的问世，源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的zui新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机第一次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。

    NanoFrazor采用直径为5nm的探针，通过静电力精确控制实现直写3D高精度直写，并通过悬臂一侧的热传感器实现实时的形貌探测。相对于其他制备技术如电子束曝光/光刻技术(EBL), 聚焦离子束刻蚀(FIB)有以下特点：
   ■   3D纳米直写能力
         高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
         高速直写 20 mm/s 与EBL媲美
   ■   无需显影，实时观察直写效果
         形貌感知灵敏度0.1nm
         样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 5nm
   ■   无临近效应
         高分辨，高密度纳米结构
   ■   无电子/离子损伤
         高性能二维材料器件
   ■   区域热加工和化学反应
         多元化纳米结构改性
   ■   大样品台
         100mm X 100mm

新产品发布：NEW！！ NanoFrazor Scholar --小面积直写
   ■   3D纳米直写能力
         高直写精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)
         高速直写 10 mm/s
   ■   无需显影，实时观察直写效果
         形貌感知灵敏度0.1nm
         样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 10 nm
   ■   无临近效应
         高分辨，高密度纳米结构
   ■   无电子/离子损伤
         高性能二维材料器件
   ■   区域热加工和化学反应
         多元化纳米结构改性
   ■   小样品台
         30mm X 30mm

该技术自问世以来已经多次刷新了世界上最小3D立体结构的尺寸，创造了世界上最小的马特洪峰模型，最小立体世界地图，最小刊物封面等世界记录。

独特的直写与反馈流程

PPA(聚苯二醛) 直写胶涂敷在样品表面。

背热式直写探针，微区电阻式加热针尖。与针尖接近的PPA受热瞬间分解，周围部分由于PPA热导率低而不受影响。

热针震动模式直写，直写时探针加热，每次下针幅度受静电力控制，垂直精度 1 nm，从而写出3D图形。

冷针接触模式扫描，回程扫描时探针冷却，由侧壁的热感应器探测样品高度变化(精度0.1nm), 获得样品形貌。反馈数据修正下一行直写。

独有的直写针尖设计

普通的AFM针尖无法满足上述NanoFrazor直写流程的需求，因此NanoFrazor所用针尖是由IBM专门研发设计的。该针尖具有两个电阻加热区域，针尖上方的加热区域可以加热到1000oC。第二处加热区域作为热导率传感器位于侧臂处，其能感知针尖与样品距离的变化，精度高达0.1 nm。因此在每行直写进程结束后的回扫结构时，并不是通过针尖起伏反馈形貌信息，而是通过热导率传感器感应形貌变化，从而实现了比AFM快1000余倍的扫描速度，同避免了针尖的快速磨损消耗。

NanoFrazor技术特点

其他功能

● 纳米颗粒有序定位排列

● 纳米局部化学反应诱导

● 表面化学图案、结构生成

纳米颗粒有序定位排列

氧化石墨烯的定位还原

图形转移

通过NanoFrazor3D纳米结构直写机获得的纳米图形结构，可以通过传统成熟的工艺技术，如干法刻蚀，电镀、注射成型法等进行图形转移。

应用领域
	快速原型设计开发 ● 衍射透镜，全息图 ● 非球面微透镜阵列 ● 波导纤维、光子晶体 ● MEMS/NEMS ● 表面等离子激元，超材料 ● 纳米磁学 ● 纳米电子器件 ● 生物细胞研究 ● 纳米流体控制 ● 反物质物理学	微纳结构 ● 防伪标识 ● DFB 激光、 ● ASICs 的关键部位加工模板加工 ● 光掩模板 ● 纳米压印印章 ● 注射成型模具

产品优势

■ 3D纳米直写能力
高直写精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
高速直写 20 mm/s 与EBL媲美
■ 无需显影，实时观察直写效果
形貌感知灵敏度0.1nm
样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 5nm
■ 无临近效应
高分辨，高密度纳米结构
■ 无电子/离子损伤
高性能二维材料器件
■ 区域热加工和化学反应
多元化纳米结构改性
■ 大样品台
100mm X 100mm

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