脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

BlueWave是一家著 名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

1、脉冲激光沉积系统

产品特点

2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）

3、热化学气相沉积系统（TCVD）

产品特点 •高温石英管反应器设计 •温度范围：室温到1100度 •多路气体精确控制 •标准气压计 •易于操作

•可配机械泵实现低压TCVD •可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 •液体前驱体喷头 •2英寸超大wan美温度均匀区

4、热丝化学气相沉积系统（HFCVD）

产品特点： •水冷不锈钢超高真空腔 •热丝易安装、更换  •4个不同量程气体控制器 •标准气压计 •衬底与热丝距离可调节 •2英寸衬底加热、可旋转  •wan美制备金刚石和石墨烯