nanoArch P140/S140 3D打印系统

nanoArch P140是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
 

科研级3D打印系统

nanoArch P140是科研级3D打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。

打印材料：

   。标准型：硬性光敏树脂

   。个性化：405nm固化波段的光敏树脂材料，支持透明树脂，柔性树脂，硬性树脂，纳米颗粒掺杂复合树脂，韧性树脂，生物医疗树脂，需适配不同的工艺和模型（不保证打印性能）。

   。韧性树脂（T-160-50 系列）

   。生物医疗树脂（B-160-50 系列）

  
系统特性：

  。高精度     

  。低层厚   

  。光学监控系统

  。自动对焦功能

  。高打印质量

  。优良的光源稳定性

  。完善的配套设备及组件