仪器网

欢迎您: 免费注册 仪器双拼网址:www.yiqi.com
首页-资讯-资料-产品-求购-招标-品牌-展会-行业应用-社区-供应商手机版
官方微信
仪器网-专业分析仪器,检测仪器平台,实验室仪器设备交易网 产品导购
VIP企业会员服务升级
仪器/ 产品中心/ 实验室常用设备/ 制样/消解设备/ 原子层沉积系统/ Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备
收藏  

Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备

联系方式:廖敬强0755-81776600

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!

为您推荐
详细介绍


该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。


具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术, PlasmalabSystem100可以有很多的配置,详情如下。


主要特点


· 可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力

· 选择单晶片/批处理或盒式进样,采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中,采用ZY机械手传送晶片,生产工艺中采用全片盒到片盒晶片传送. 采用一系列的电极进行衬底温度控制,其温度范围为-150 ° C至700° C

· 用于终端检测的激光干涉和/或光发射谱可安装在Plasmalab System100以加强刻蚀控制

· 选的6 或12路气箱为工艺流程和工艺气体提供了选择上的灵活性,并可以放置在远端,远离主要工艺设备


工艺

一些使用Plasmalab System100等离子刻蚀与沉积设备的例子:

· 低温硅刻蚀,深硅刻蚀和SOI工艺,应用于MEMS ,微流体技术和光子技术

· 用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺,通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用,材料范围广泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等)

·  GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺,比如HBLED和其它功率器件的刻蚀

· 高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件

· 金属(Nb, W)刻蚀


产品优势
Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。
具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。
可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力。
厂商相关其他产品
X您尚未登录
账号登录
X您尚未登录
手机动态密码登录
X您尚未登录
扫码登录
在线留言
官方微信

仪器网微信服务号

扫码获取最新信息


仪器网官方订阅号

扫码获取最新信息

在线客服

咨询客服

在线客服
工作日:  9:00-18:00
联系客服 企业专属客服
电话客服:  400-822-6768
工作日:  9:00-18:00
订阅商机

仪采招微信公众号

采购信息一键获取海量商机轻松掌控