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日本电子JEOL电子束光刻系统 JBX-3050MV
- 品牌:日本电子
- 型号: JBX-3050MV
- 产地:日本
- 供应商报价: 面议
- 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 更新时间:2024-04-22 10:51:12
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企业性质生产商
入驻年限第6年
营业执照已审核
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- 详细介绍
日本电子JEOL JBX-3050MV 电子束光刻系统:
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zuixianjin的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
产品规格:
拼接精度
≦±3.8 nm
套刻精度
≦±7 nm
产品特点:
· JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
· zuixianjin的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
· 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
· 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
- 产品优势
- 日本电子JEOL JBX-3050MV 电子束光刻系统,用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zuixian极n的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
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