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快速热化学气相沉积系统(RTCVD)
- 品牌:韩国ECOPIA
- 型号: RTCVD
- 产地:韩国
- 供应商报价: 面议
- 上海载德半导体技术有限公司
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企业性质
入驻年限第8年
营业执照
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- 详细介绍
快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)
生产商:韩国Ecopia
RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。
性能和特点:
- 温度范围:室温 ~ 1500°C;
- 升温速度:200°C/s;
- 气体混合能力(带有质量流量计);
- 真空度:~10-6Torr;