ACE真空镀膜仪

Leica EM ACE 镀膜仪

全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜.

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。

Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

碳丝蒸发的新纪元

厚达40nm的碳膜可以被精确设定并准确获得，通过脉冲碳丝蒸发，结合连续膜厚监控

（石英片膜厚控制），和独特的软件控制来实现。碳膜因此实现高度可重复性和均匀性。得益于可拆卸式玻璃门，挡板和样品室屏蔽内壁，镀膜源和样品台，样品室内部清洁工作非常简便。

主要特点:

少…

? 操作者干预时间和专业知识

? 投入成本

? 桌面占用面积

? 密封表面-单门式设计

? 清洁工作-可拆卸式玻璃门，样品室屏蔽内壁和挡板

? 操作工作-简易的插入式连接设计-无需借助工具

…即是多

? 直观的触摸屏设计和自动化过程控制

? 可定制硬件配置，软件可升级

? 实验室空间

? 可视化，装样简便，抽真空快速

? 镀膜GX，使您的工作时间更自由

? 镀膜更纯，膜厚更jing准，结果重复性更好

技术指标：

可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

ZL设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

触摸屏控制，简单方便

真空度7×10-3mbar

溅射电流：0-150mA可调

方形样品仓ZL设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

工作距离调节范围：30mm-100mm