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反射式膜厚测量仪

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详细介绍

产品特点:

?非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。

?高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。

?宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)

?薄膜到厚膜的膜厚测量范围。1nm~250μm

?对应显微镜下的微距测量口径。


产品规格:


标准型

厚膜专用型

膜存测量范围

1nm~40μm

0.8μm~250μm

波长测量范围

190~1100nm

750~850nm

感光元件

PDA512ch(电子制冷)

CCD512ch(电子制冷)

PDA512ch(电子制冷)

光源规格

D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)

12(可见光)

电源规格

AC100V±10V750VA(自动样品台规格)

尺寸

4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)

重量

约96kg(自动样品台规格之主体部分)


应用范围:

FPD

-LCD、TFT、OLED(有机EL)

半导体、复合半导体

-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料

资料储存

-DVD、磁头薄膜、磁性材料

光学材料

-滤光片、抗反射膜

平面显示器

-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED

薄膜

-AR膜

其他

-建筑用材料


测量范围:

玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析


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