-
-
反射式膜厚测量仪
- 品牌:日本HalfMoon
- 型号:
- 产地:日本
- 供应商报价: 面议
- 上海瞬渺光电技术有限公司 更新时间:2022-01-12 15:50:35
-
企业性质
入驻年限第10年
营业执照
- 同类产品半导体研发测试(9件)
-
为您推荐
- 详细介绍
产品特点:
?非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。
?高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。
?宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)
?薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)
?对应显微镜下的微距测量口径。
产品规格:
标准型
厚膜专用型
膜存测量范围 1nm~40μm
0.8μm~250μm
波长测量范围
190~1100nm
750~850nm
感光元件 PDA512ch(电子制冷)
CCD512ch(电子制冷)
PDA512ch(电子制冷)
光源规格 D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)
12(可见光)
电源规格 AC100V±10V750VA(自动样品台规格)
尺寸 4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)
重量 约96kg(自动样品台规格之主体部分)
应用范围:
FPD
-LCD、TFT、OLED(有机EL)
半导体、复合半导体
-矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料
资料储存
-DVD、磁头薄膜、磁性材料
光学材料
-滤光片、抗反射膜
平面显示器
-液晶显示器、膜膜电晶体、OLED
薄膜
-AR膜
其他
-建筑用材料
测量范围:
玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析