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HORIBA GD-Profiler 2 脉冲式射频辉光放电光谱仪
- 品牌:日本堀场
- 型号: GD-Profiler 2
- 产地:法国
GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪用辉光放电光谱仪去发现一个崭新的信息世界GD-Profiler 2™ 可以快速、同时分析所有感兴趣的元素,包括气体元素N、O、H和Cl,是薄膜和厚膜表征和工艺研究的理想工具。GD-Profiler 2™ 配备的射频源可在脉冲模式下对易碎样品进行测试,广泛应用于高校以及工业研究实验室,其应用范围有腐蚀研究、PVD 涂层工艺控制、PV 薄膜开发以及LED 质量控制等。射频发生器是 E 类标准,对稳定性和溅射坑形状都进行了优化以满足实时表面分析。射频源可以分析传统和
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射频辉光放电光谱仪 GD-Profiler 2
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: GD-Profiler 2
- 产地:法国
仪器简介: GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到150微米的深度,深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外,还采用了多项ZL技术,如高动态检测器(HDD)可测试ppm-100%的浓度范围,Z
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射频辉光放电光谱仪 GD-Profiler HR
- 品牌:日本堀场
- 型号: GD-Profiler HR
- 产地:法国
仪器简介: GD-Profiler HR拥有duyi无二的超高光谱分辨率,为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。 详细指标参数可访问http://www.horiba.com/cn/scientific/products技术参数: 1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。 2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。 3、Polyscan多
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HORIBA JY 射频辉光放电光谱仪
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: Profiler HR
- 产地:法国
GD-Profiler HR拥有duyi无二的超高光谱分辨率,为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数:1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大
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HORIBA JY射频辉光放电光谱仪
- 品牌:法国HORIBA JY
- 型号: Profiler 2
- 产地:法国
GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度,深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外,还采用了多项ZL技术,如高动态检测器(HDD)可测试ppm-100%的浓度范围,ZLPolysca
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射频辉光放电光谱仪
- 品牌:日本堀场
- 型号: Profiler HR
- 产地:法国
GD-Profiler HR拥有duyi无二的超高光谱分辨率,为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数:1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大
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射频辉光放电光谱仪
- 品牌:日本堀场
- 型号: Profiler 2
- 产地:法国
解密镀层工艺、解析镀层结构Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。GD-Profiler 2作为超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体和非导体复合镀层的分析,操作简单、便于维护,是镀层材料研发、质控的理想工具。 使用脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。 采用
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辉光放电光谱仪
- 品牌:德国斯派克
- 型号: SPECTRO GDA750
- 产地:德国
在金属分析领域中,辉光放电分析是浓度分析和表面分析最理想的手段。表面处理工艺过程,如表面渗碳硬化或渗碳热处理等,都可以通过分析被处理材料的表面和近表层区域实现质量控制。采用浓度分布分析功能可以精确地测量涂(镀)层厚度及化学成分。 对于传统的分析方法不能解决的材料分析问题,辉光放电光谱技术可以作为优先选用的方法。采用可选的射频光源(GDA750辉光放电光谱仪)可以分析非导体材料和涂层,如玻璃,陶瓷,釉质和油漆涂层。 GDA750可以配备60个以上的分析通道,并且能充分地满足高分辨率和高精度的分析要求。涂
- 辉光放电光谱仪
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