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钙钛矿镀膜机
品牌:沈阳科晶
型号:钙钛矿镀膜机
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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4
品牌:英国Oxford Vacuum
型号:Vapour Station
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徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200
品牌:徕卡显微系统
型号:Leica EM ACE200
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Obducat纳米压印EITRE® 3
品牌:瑞典Obducat
型号:EITRE®
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Oxford镀膜机PlasmaLab System100
品牌:牛津仪器
型号:PlasmaLab System100
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PECVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS-PECVD
- 产地:美国
薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项ZL,包括:多腔室PECVD沉积系统 主要产
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热丝CVD设备HWCVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS
- 产地:美国
热丝薄膜沉积设备MVSystems 公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发,中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验,所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的大学,研究院所和公司。我们公司的工程部门可最大限度地为用户着想, 以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。作为设备销售的一部分,我们还能向用户保证薄膜半导体材料具有*
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卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: Reel to Reel Cassette System
- 产地:美国
卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时,卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust
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在线式HIT用PECVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: HIT-PECVD
- 产地:美国
在线式HIT用PECVDIn-Line PECVD system for HIT junctions用于制备GX异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18 wafers (6”)/cycle产率:18片6硅片/循环
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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: SiNx-PECVD
- 产地:美国
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVSSilicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar CellsThroughput: >475 wafers/hrSiNx uniformity: < ?5%产率:>475硅片/小时。氮化硅膜不均匀性:< 5%。
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R&D Cluster tools 研发用团簇
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: Cluster
- 产地:美国
R&D Cluster tools 研发用团簇PECVD PVDR&D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统30x40cm substrate衬底尺寸为30x40cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行?PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射。
- 镀膜机
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