-
MSK-AFA-L800流延涂布机
品牌:沈阳科晶
型号:MSK-AFA-L800
-
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪
品牌:沈阳科晶
型号:GSL-1100X-SPC-16C
-
SDI提拉式镀膜机MD-0408-S7
品牌:日本SDI
型号:SDI MD-0408-S7
-
日本SDI浸渍提拉镀膜机
品牌:日本SDI
型号:ND-0407-S5
-
Oxford镀膜机PlasmaLab System100
品牌:牛津仪器
型号:PlasmaLab System100
- 产品品牌
- 不限
-
更多品牌
- 所有品牌
- A
- B
- C
- D
- E
- G
- H
- K
- L
- M
- O
- P
- R
- S
- T
- V
- W
- Z
徕卡显微系统美国MVSystems奥匹维特北京博远微纳美国Trion美国ANRIC美国AGS Plasma上海实贝美国VAC美国Gatan英国Cressington德国普发真空美国泰德派勒沈阳科晶韩国ECOPIA上海三研美国Denton Vacuum白罗斯MTM美国Veeco 英国Ossila北京莱普特日本Advance Riko英国HHV法国Plassys日本SDI牛津仪器英国Oxford Vacuum丹麦Stensborg上海埃飞北京维意韩国DCN德国relyon plasma美国Rocky Mountain北京伊特克斯英国Agar Scientific上海程造瑞典Obducat德国布鲁克美国化仪深圳科时达美国那诺-马斯特郑州科探成都超迈光电
- >
-
VTC-100PA真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PA
- 产地:
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件,操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。4、设有12组程序,每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数1、电机功率:50W/24V2、速度范围:500-10000rpm3、程序运行:可储存12组程序,每组程序包含6
-
VTC-100PA真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PA
- 产地:
VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件,操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。4、设有12组程序,每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数1、电机功率:50W/24V2、速度范围:500-10000rpm3、程序运行:可储存12组程序,每组程序包含6
-
VTC-100PA真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-100PA
- 产地:沈阳
1、真空吸附方式固定样件,操作简便。 2、真空度可以达到-0.08MPa。 3、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。 4、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。 5、电机采用24V直流无刷电机,可靠性高,适应性强,维修与保养简单,噪音低,震动小,运转平稳,启动快速稳定,加速后运行平稳,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。 6、采用无油双杠真空泵,体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。 7、腔体采用聚丙烯材质,使用寿命更长,提高耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能;机身采用铸铝结构,结实耐用且质轻。 8、可在惰性气体气氛(如Ar、N2)下进行涂层。 9、全英文操作系统。 10、具有开盖保护功能,当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止。 11、控制界面采用液晶显示屏+单板机控制系统,数值显示更直观可靠。
-
GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-12
- 产地:
GSL-1100X-SPC-12等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜(如金、铂、铟、银等)而设计,最大放置样品尺寸直径为40mm,膜厚可达300?,特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、可以调节电流大小,可设置溅射时间。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源:208V-240V 50Hz/60Hz2、样品台:Φ60mm,高度可调节3、石英腔体:Φ100mm×130mm4、进气口:内部装有阀门,可以向腔体内通入各种气体5、靶材:纯度为4N的金靶,Φ57mm×0.12mm 产
-
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-15E-LD
- 产地:
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪特别适合蒸镀一些轻金属,如、Al、Mg、和Li等;同时也可对样品进行镀碳处理,最大可处理的样品直径为50mm。主要特点1、配有直连式双旋机械泵(装有油污过滤器和防回油装置),可使真空腔体真空度达到10-2torr。2、配有KF25波纹管和卡箍。3、可进行镀碳处理。4、已通过CE认证。技术参数1、输入电压:AC208V-240V 50/60Hz2、功率:<2000W3、真空腔体:熔融玻璃管,Φ160mm×110mm4、载物台:Φ50mm5、最大蒸镀区域
-
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16M
- 产地:沈阳
GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体,以获得**镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离特性,采
-
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16C
- 产地:
GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。本机能够满足扫描电子显微镜样品的制备和非导体材料实验电极的制作,也可以用于材料研究中各种新材料性能的实验。主要特点配备了热蒸发附件,可以蒸发碳丝或者其他材料,如铝、不锈钢等材料,同时具有溅射和蒸发的功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜样品的制备。技术参数1、靶:Φ50mm2、样品台:Φ50mm3、真空室:Φ160mm×110mm4
-
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16-3
- 产地:
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。主要特点1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体,以获得**镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩
-
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16
- 产地:
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300埃,特别适用于SEM样品的镀膜。主要特点1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体,以获得**镀膜效 果。3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。5、根据电场中气体电离
-
GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1800X-ZF4
- 产地:
GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸镀各种氧化物材料。本机设有4个蒸镀加热舟,且每个蒸镀舟都带有挡板。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜,可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求,是一款镀膜效果理想且性价较高的实验设备。主要特点1、真空控制单元全部集合在一个控制盒内。2、采用独立的蒸镀电流控制器,操作方便快捷。3、真空腔体设有1个KF40旁抽阀(直接与前级机械泵相连,方便快速取放样品,提高效率)、1个CF1
-
PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-UMB
- 产地:
PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机是以微米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制系统,以彩色触摸屏为数据输入输出端,显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、间隔时间等参数。主要特点1、采用彩色触摸屏,界面清晰,方便参数设置。2、提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行,有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠,简单易懂。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、提拉速度:1μm/s-500μm /s3、速度稳定性:±0.05%4、温度:RT-100
-
PTL-OV6P 6工位提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-OV6P
- 产地:
PTL-OV6P 6工位提拉涂膜机在相同外界条件下,对多个样件在不同液相中进行提拉涂膜,主要用于纳米材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜。主要特点1、设有6个工位,适合一次多个样件的提拉涂膜。2、采用程控提拉速度、浸没时间、干燥时间。3、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、功率:800W3、提拉速度:1-200mm/min4、温度:RT-100℃5、载料杯:Φ60mm 150ml6、样件尺寸:50mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:450mm×500mm×1060mm重量:40kg标准配件
-
PTL-OV5P全自动5工位恒温提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-OV5P
- 产地:
PTL-OV5P全自动5工位恒温提拉涂膜机用于同一样件在不同液相中的多层涂膜,最多可达到5层。本机广泛用于纳米、化工、金属等材料领域,更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。主要特点1、采用触摸控制屏,根据实际需要设置提拉速度、下降速度、停留时间。2、涂膜全程处在恒温环境中。3、完成一种液相涂层后,自动转入下一工序。4、5工位液相载盘按照程序自动旋转。5、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度:1-200mm/min2、速度稳定性:±0.05% 3、温度:RT-100℃4、样件尺寸:75mm×25mm×2
-
PTL-MMB02-200恒温垂直提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MMB02-200
- 产地:
PTL-MMB02-200恒温垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备,在恒温场内通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统,以及触摸屏参数输入端,实现提拉涂膜全过程的自动控制。主要特点由驱动器细分两相混合式步进电机的步进角度。技术参数1、电源:220V 50Hz2、加热功率:2.3KW3、提拉速度:1-200mm/min4、行程:250mm5、温度:80℃-200℃6、温度精度:±1.5℃7、熔断器:15A8、样件尺寸:407mm×229mm 厚度1-10mm9、提拉负
-
PTL-MMB01恒温提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MMB01
- 产地:
PTL-MMB01恒温提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的,在恒温环境中,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。主要特点1、提供稳定的恒温提拉涂膜环境。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度:1-200mm/min2、速度稳定性:±0.05%3、温度:RT-100℃4、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:450mm×500mm×970mm标准配件1、样件夹具2、载料杯3、提拉丝
-
PTL-MM02-200程控垂直提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MM02-200
- 产地:
PTL-MM02-200程控垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统,以及触摸屏参数输入端,实现提拉涂膜全过程的自动控制。主要特点可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数。技术参数1、电源:220V2、提拉速度:1-200mm/min3、速度稳定性:±0.05%4、行程:270mm5、样件尺寸:310mm×260mm 厚度1-5mm6、提拉负荷:≤5.5kg标准配件1、控制盒2、浸液槽
-
PTL-MM02-8P提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MM02-8P
- 产地:
PTL-MM02-8P提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜,广泛应用于大专院校、科研院所等研究领域。本机采用高精度速度控制系统,以及触摸屏参数输入端,同时实现5个样件提拉涂膜的全自动控制。主要特点1、8个工位可分别设置不同的提拉速度、停留时间、干燥时间2、适用范围广。技术参数1、电源:220V 50Hz2、X轴速度:500-5000mm/min3、Z轴速度:1-200mm/min4、行程:65mm5、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm6、同时提拉样件
-
PTL-MM02程控提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MM02
- 产地:
PTL-MM02程控提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制,可设定提拉速度、停留时间、入液速度、循环次数。主要特点1、采用彩色触摸屏,方便参数设置及调整。2、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度:1-200mm/min2、速度稳定性:±0.05%3、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:320mm×260mm×560mm重量:17kg标准配件1、样件夹具2、载料杯3、提拉丝
-
PTL-MM01提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MM01
- 产地:
PTL-MM01提拉涂膜机通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用单板机控制,运行平稳准确,是大专院校、研究院所实验室的理想设备。主要特点1、可配用高达200℃恒温箱,提供稳定的恒温环境进行提拉涂膜。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、功率:50W3、提拉速度:1-200mm/min4、速度稳定性:±0.05%5、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:320mm×260mm×560mm重量:18kg标准配件1、防摆动控制座2、样件夹具3、载料杯4、提拉丝可选配件1、快速
-
PTL-HT高温提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-HT
- 产地:
PTL-HT高温提拉涂膜机能够提供温度高达1000℃的提拉涂膜环境,广泛用于各种高温提拉涂膜研究。例如,陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜。本机能够适应未来高温条件下成膜技术的发展需要。主要特点1、普通提拉涂膜机都是提供200℃以下的温度环境,本机可以提供1000℃以下的高温环境,便于特殊材料的涂膜制备。2、可以在氮气、氩气等惰性保护气体气氛中使用,也可以在氧化气氛中使用。3、设有三段温区,且每段提拉速度均为无级调整。4、采用彩色触摸控制屏,方便数据输入,操作简单快捷。5、已通过CE认证。
-
VTC-200P真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200P
- 产地:
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件,操作简便。3、真空度最大可以达到-0.08MPa。4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。5、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。6、电机启动快速稳定,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。7、本机可置于手套箱内使用,但控制部分与真空泵需置于箱外。技术参数1、功率:350W2、转速:500-
-
VTC-200真空旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-200
- 产地:
VTC-200真空旋转涂膜机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中的薄膜形成。本机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件,操作简便。3、采用铸铝结构,运行稳定、噪音低。技术参数1、功率:70W2、转速:500-6000rpm3、时间:1-60s4、真空泵流速:>60L/min产品规格尺寸:500mm×400mm×400mm重量:30kg标准配件1、真空吸盘2、滴液器3、无油真空泵可选配件过滤器(真空泵用)
-
VTC-50PA-DC微型旋涂机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-50PA-DC
- 产地:沈阳
VTC-50PA-DC 微型旋涂机主要适用于液体、胶状体、可流动糊状体等薄膜材料的使用。设备采用不锈钢外壳结构,使产品更轻量化且耐腐蚀,上盖采用透明亚格力材质,可清晰的观察到涂膜整个过程。样品固定采用带槽的聚丙烯样品卡盘配合可随样品形状、大小而自行开槽的模板固定基片,使用方便操作简单,样件取放自如,对基片无损伤。VTC-50PA-DC 微型旋涂机使用更安全的 DC24V 电源供电,可放在手套箱中使用。旋转主轴采用高速直流无刷电机结合抗干扰性高的单片机进行控制,运行旋转速度最高可达到 8000rpm,电机启动快速稳定,加速后运行平稳,能够在瞬间提供可控的高速转数,迅速使液体、胶状体等材料在衬底上均匀地形成薄膜。该设备可储存 6 组程序,每组程序包含 9 个运行阶段。每段运行参数可独立设置,可使设备缓慢提升速度至极限速度,注胶与匀胶过程分段控制,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。VTC-50PA-DC微型旋转涂膜机具有体积小巧、操作简单、清理方便,等优点,因此该设备被广泛应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
-
PTL-MMB02-500恒温垂直提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MMB02-500
- 产地:沈阳
PTL-MMB02-500恒温垂直提拉涂膜机是专为研究液相生长薄膜而设计的精密设备,在恒温场内通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用高精度速度控制系统,以及触摸屏参数输入端,实现提拉涂膜全过程的自动控制。
-
MSK-AFA-W500-AL大型平板涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-W500-AL
- 产地:沈阳
MSK-AFA-W500-AL大型平板涂布机主要用于实验室涂覆液体状或胶体状薄膜使用,设备采用精密级步进齿轮箱电机对涂膜速度进行精确控制,达到均速推进刮刀进行涂膜的目的,滚轮式刮刀采用全不锈钢材质,有效减少了刮刀移动时与真空吸盘的摩擦阻力,可提高涂膜的一致性和均匀性。设备采用底部真空吸附样品,设备带有刮刀限位器,可以任意调整所涂薄膜的长度,滚轮式刮刀达到限位后自动停止。 此款设备专门设计采用涂布方式制备各种薄膜,如锂电池电极膜,各种陶瓷膜和聚合物薄膜等。
-
VTC-600G高真空磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600G
- 产地:沈阳
VTC-600G高真空磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控溅射仪可选配多个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。
-
PTL-MM02-200-4 四工位提拉机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MM02-200-4
- 产地:沈阳
PTL-MM02-200-4 四工位提拉机一次可提拉二个样件,通过程序控制使样件,在装料烧杯中浸没一定时间后提拉出来进行干燥,浸没时间和干燥时间可以通过程序进行设置。PTL-MM02-200-4四工位提拉机的四个装料烧杯中可以装同一种薄膜材料,也可以分装不同的薄膜材料。装料烧杯放置在磁力搅拌器上,如需要,可实现搅拌液体功能。该机在磁力搅拌器上,设有四个温控表,可在涂膜过程中对装料烧杯进行加热,可以设置相同的温度进行加热,也可以设置不同的温度进行加热,根据烧杯内所装薄膜材料而定。本机适合液体薄膜材料或加热后可熔化成流动的液状的固体薄膜材料的使用。PTL-MM02-200-4四工位提拉机因其具有体积小巧,节省实验室空间;操作简单,适合初学人员使用;清理方便等优点,被广泛应用于各高校、科研院所及企业的实验室中使用。
-
GSL-1800X-ZF6钙钛矿镀膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1800X-ZF6
- 产地:沈阳
GSL-1800X-ZF6钙钛矿镀膜机是一种利用电阻加热使膜材汽化蒸发后凝结在基片上成膜的加热镀膜方法,该方法结构简单、实用,使用可靠,适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作。 适用范围:钙钛矿材料、二维材料、光伏太阳能电池的器件制备等
-
MSM20-7(非自耗式)小型金属熔炼炉
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSM20-7
- 产地:沈阳
1、设有Ø120mm的炉门,方便取放样品。 2、设有前后观察视窗,方便观测起弧熔化状态。 3、真空室、铜坩埚、起弧电极都采用水冷冷却方式。 4、上下移动采用方向盘式设计,操作摇杆转动灵活。 5、为了保证在不破坏气体保护气氛的条件下翻转合金锭进行多次熔炼,熔炼炉中采用了机械手翻转机构。 6、坩埚尺寸小且数量多,可以方便制作多个样品,又可避免样品间的相互污染。 7、操作简单,安全方便,设计小巧,占地面积极少。
-
PTL-6PB六工位提拉机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-6PB
- 产地:沈阳
1、设有6个工位,样件可以进行逆时针旋转。 2、采用程控提拉速度、浸渍时间、干燥时间等。 3、采用高精度步进电机。 4、已通过CE认证。
-
VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-300USS
- 产地:
VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒喷出速度、雾粒大小等参数。采用步进电机和微处理器控制容积泵精确输送溶液(溶液可以选择被加热);超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,且被固定在可摆动的支撑臂上,以确保涂层的均匀性;可吸附基片尺寸最大可达12"(300mm),同时可控制基底温度(选择可加热衬底的烘烤灯),以满足实验需要。安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水:不需要2、电:AC220V 50Hz,必须有良好
-
MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-SP-04-LD
- 产地:
MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数,采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动,以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制,以满足实验需要。主要特点喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太
-
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-16-3HD
- 产地:
VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片最大尺寸2″,放置样品的直径为Φ50mm,加热温度达500℃。本机可溅射金、银、铜三种靶材,并采用旋转式样品台,能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜。主要特点1、PLC控制面板,4.3″触摸屏,PID控温方式。2、可控参数包括真空度、电流、靶材位置、基片加热温度。3、可与真空泵、不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍连用。4、已通过CE认证。技术参数1、输入功率:110V/220V通用 2000W(含真空
-
GSL-1100X-SPC-12H加热型等离子薄膜溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-12H
- 产地:
产品简介:GSL-1100X-SPC-12H加热型等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜(如金、铂、铟、银等)而设计,最大放置样品尺寸直径为40mm,膜厚可达300?,特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、配有2L/s双旋片机械泵,出气口装有立式油雾过滤器,过滤真空泵工作时产生的油烟,减少泵的损耗,保护环境和人体健康。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源:208V-240V 50Hz/60Hz <3000W2、石英腔体:Φ100mm×130mm 3、样品台:Φ60mm,高度可调节
-
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-2HD
- 产地:
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zuixin研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。主要特点1、配置两个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜。2、可制备多种薄膜,应用广泛。3、体积小,操作简便。技术参数1、电源电压:220V 50Hz
-
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-3HD
- 产地:
产品简介VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是zuixin研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。主要特点1、配置三个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个为配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。(靶枪可以根据客户需要任意调换)2、可制备多种薄膜,应用广泛。3、体积小,操作简便。4、整
-
[公开招标]预算500万元 某单位采购高真空多膜层镀膜系统
上海市政府采购公开招标高真空多膜层镀膜系统,项目编号:STC24A061
-
[公开招标]预算1300万元 某单位采购原子层沉积镀膜系统
上海市政府采购公开招标原子层沉积镀膜系统,项目编号:STC24A056
- 镀膜机
- 仪器网导购专场为您提供镀膜机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选镀膜机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。