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钙钛矿镀膜机
品牌:沈阳科晶
型号:钙钛矿镀膜机
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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4
品牌:英国Oxford Vacuum
型号:Vapour Station
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徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200
品牌:徕卡显微系统
型号:Leica EM ACE200
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Obducat纳米压印EITRE® 3
品牌:瑞典Obducat
型号:EITRE®
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Oxford镀膜机PlasmaLab System100
品牌:牛津仪器
型号:PlasmaLab System100
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徕卡显微系统美国MVSystems奥匹维特北京博远微纳美国Trion美国ANRIC美国AGS Plasma上海实贝美国VAC美国Gatan英国Cressington德国普发真空美国泰德派勒沈阳科晶韩国ECOPIA上海三研美国Denton Vacuum白罗斯MTM美国Veeco 英国Ossila北京莱普特日本Advance Riko英国HHV法国Plassys日本SDI牛津仪器英国Oxford Vacuum丹麦Stensborg上海埃飞北京维意韩国DCN德国relyon plasma美国Rocky Mountain北京伊特克斯英国Agar Scientific上海程造瑞典Obducat德国布鲁克美国化仪深圳科时达美国那诺-马斯特郑州科探成都超迈光电
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Fiji G2 Plasma ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma &a
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金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V HP
- 产地:美国
产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。在本文中,我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度,在真空蒸发室中的单个旋转平板架上,并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。&
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美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V
- 产地:美国
蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。 在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。
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MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-NFES-4
- 产地:美国
产品简介MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统是一个完整的纳米纤维制备系统,或者说是一个完整的静电纺丝涂覆系统(或电喷镀)。具有操作软件友好、设计以任务作业为基准、易于操作、优越的性价比等优点,因此领xian于市场其他同类产品。可生产直径20nm-1000nm的超细纳米纤维,也可用于在基底上进行电喷雾涂层材料,相比于电纺丝,电喷雾涂层需要一个低粘度解决方案和更高的电压。主要特点1、友好的操作软件界面,使得计算机能够帮助管理和控制各种参数,如旋转心轴速度、旋转时间、注射泵流量、XY方向运动等。2、采用
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Phoenix G2 ALD System
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal b
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Fiji G2 Plasma ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma &a
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Savannah G2 ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal
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粉末原子层沉积系统ALD
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Angstrom-dep
- 产地:美国
原子层沉积系统 Atomic Layer Deposition System 产地:美国Angstrom; 型号:Angstrom Dep II, Angstrom Dep III; 原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术,它可以沉积均匀一致、厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的技术,其优势决定了它具有巨大的发展潜力和更加广阔的应用空间。
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美国 NBM PLD脉冲激光沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PLD-300
- 产地:美国
脉冲激光沉积系统-PLD 型号:AP-PLD230 脉冲激光沉积系统(PLD)是将脉冲激光导入真空腔内照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态,然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成薄膜材料。 我们PLD系统拥有最好的性能价比, 用户用最少的钱买到研究级高性能的纯进口PLD系统。
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Firebird
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。Firebird Batc
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金/碳镀膜机
- 品牌:美国Denton Vacuum
- 型号: Desk V HP
- 产地:美国
产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。在本文中,我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度,在真空蒸发室中的单个旋转平板架上,并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生**厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。&
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PECVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS-PECVD
- 产地:美国
薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项ZL,包括:多腔室PECVD沉积系统 主要产
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化仪 HL 200/201热贴合机 镀膜机
- 品牌:美国化仪
- 型号: HL 200/201
- 产地:美国
热轧层压机足够紧凑,可以放置在实验室工作台上,但又足够耐用,可以始终如一地复制准备用于测试或小规模生产的热层压产品样品。通过灵活的控制,热辊层压机可以层压多种材料,包括纸张,薄膜,箔纸和许多其他材料。加热层压系统的用途非常广泛,可以进行多种变化的修改。
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磁控溅射仪 NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NSC-4000
- 产地:美国
先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关,RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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多功能镀膜系统
- 品牌:美国Rocky Mountain
- 型号: DGN
- 产地:美国
多功能镀膜系统,适用于科学研究,技术开发,占地空间小,适应性强
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派瑞林镀膜设备
- 品牌:美国Rocky Mountain
- 型号: PRL
- 产地:美国
派瑞林镀膜设备
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682.400斜面切割工具
- 品牌:美国Gatan
- 型号: 682.400
- 产地:美国
仪器简介:可选配斜面切割工具 型号682.40000斜面切割工具(SC-Tool)- 提供均质/非均质材料横截面可组合切割并最小化减少其机械变形或损坏。 规格: 离子源 离子枪 一个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 5mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀范围 根据离子
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精密刻蚀镀膜仪
- 品牌:美国Gatan
- 型号: 682
- 产地:美国
仪器简介:型号682精密刻蚀镀膜仪(PECS) 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蚀镀膜系统 PECS是一台理想的具有斜面切割,样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器,其刻蚀和溅射镀膜系统中duyi无二的离子束能够形成镀膜范围大、干净以及可视的样品满足扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM)以及光学显微镜(LM)的需求。PECS中duyi无二的设计结构使其成为非常通用的仪器,可选配型号682.40000的斜面切割工具,它是用于切割横截面部分的独特工具。技术参数:规格:
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Bench-Top Plasma Tool
- 品牌:美国AGS Plasma
- 型号: AGS TT-RIE/CVD/PECVD
- 产地:美国
AGS Plasma Systems, Inc.Now Celebrating Our 25th year! 美国AGS公司成立于1991年,在等离子系统领域已有25年的历程,是一家历史悠久的等离子系统供应商,提供的真空等离子系统主要应用于图案转换中薄膜沉积,刻蚀,如微电子,MEMS,光伏,光电,纳米科技等行业领域。2012年Semicon West ,AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150RIE/CVD 系统,非常经济实用,对世界各地大学,研究所来说这样如此特色的RIE和CVD应用是非常wan美
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AT-400 原子层沉积
- 品牌:美国ANRIC
- 型号: AT-400
- 产地:美国
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
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PECVD沉积
- 品牌:美国Trion
- 型号: Minilock-Orion III PECVD
- 产地:美国
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套zuixianjin的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该
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热丝CVD设备HWCVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS
- 产地:美国
热丝薄膜沉积设备MVSystems 公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发,中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验,所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的大学,研究院所和公司。我们公司的工程部门可最大限度地为用户着想, 以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。作为设备销售的一部分,我们还能向用户保证薄膜半导体材料具有*
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蒸发镀膜设备 NTE-3000热蒸发系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NTE-3000
- 产地:美国
1、提供NTS系列的系统(NTS-3000, NTS-4000),具有溅射和蒸发两种能力。通过计算机控制系统,我们可以在同一套系统上提供溅射和蒸发能力,这样可以充分利用溅射和蒸发技术,而无须中断真空。 2、持续性地控制加热器电流,而不是震荡式控制加热器。
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PVD真空镀膜机 NOC-4000光学镀膜设备 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NOC-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER NOC-4000光学镀膜设备提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片功能。
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光学镀膜机 NOC-4000光学镀膜系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NOC-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER NOC-4000光学涂覆系统提供先进的技术,在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片功能。
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光学镀膜 NOC-4000进口光学镀膜机 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NOC-4000
- 产地:美国
NOC-4000产品特点: 射频偏压样品台 膜厚监测仪 极限真空5x10-7Torr 高精度及高重复性 高品质膜层 原子级的洁净表面 原子级清洗和抛光 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制 自动上下载片 两个腔体之间自动传送 菜单驱动,4级密码访问保护 完整的安全联锁 占地面积46”D x 44”W
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108镀膜仪
- 品牌:美国泰德派勒
- 型号: 108Auto
- 产地:美国
技术参数:l自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和**的导电喷镀效果。l通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。l操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。l在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果,l数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和**的镀膜效果。l可使用多种金属靶材:Au,Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。l样品室大小
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多发射极晶体管刻蚀
- 品牌:美国Gatan
- 型号: 683
- 产地:美国
仪器简介:型号683金属刻蚀 离子束刻蚀金相材料的制备 金相刻蚀仪提供一个离子束刻蚀是有多功能的PECS系统的一种功能。其成本经济,价格适宜,且使用新一代仪器制备金相样品时不需要溅射镀膜。典型应用包括扫描电子显微镜(SEM或高分辨率FESEM)和光学显微镜(LM)。高质量样品在一个干净的环境中制备,过程可控且结果可重复。离子束刻蚀技术可以避免湿化学刻蚀所带来的危险及消耗。金相刻蚀仪提供众多独具特色技术比如682.40000斜面切割工具,适用于横截面切割方面的特殊工具。
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高分解离子束镀膜仪
- 品牌:美国Gatan
- 型号: 681
- 产地:美国
仪器简介:型号681离子束镀膜仪 用于扫描电镜和透射电镜的离子束镀膜系统 型号681离子束镀膜仪采用独特的离子溅镀技术得到连续,超薄,无定形像镀膜样品,非常适用场发射扫描电镜(FESEM)和透射电镜(TEM)的需要。与只能得到粗糙喷镀效果的传统镀膜技术如热蒸镀、电磁管或RF溅镀等相比,具有非常明显的优势。 两束离子源能够提供高速的溅镀速率,根据耙材、离子束强度和镀膜厚度的不同,镀膜时间范围从10秒到2分钟不等。 Whisp
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箱式溶剂干燥器
- 品牌:美国VAC
- 型号: 箱式溶剂干燥器
- 产地:美国
箱式溶剂干燥器*根据配置,可在几分钟内干燥多达75 ml溶剂*Karl Fisher试验结果显示在THF中水氧含量小于10PPM*可为特定反应干燥定量溶剂*最大化减少溶剂损失*再生处理之前,一个柱子可运行5次*干燥柱易于开关*干燥介质可用户自行更换*干燥柱可用户自己完成再生*便捷的箱式设计消除了意外泄漏*无需真空泵*无需防火柜*无需惰性气体源*易于安装在任何干燥箱中
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卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: Reel to Reel Cassette System
- 产地:美国
卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时,卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust
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在线式HIT用PECVD MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: HIT-PECVD
- 产地:美国
在线式HIT用PECVDIn-Line PECVD system for HIT junctions用于制备GX异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18 wafers (6”)/cycle产率:18片6硅片/循环
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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: SiNx-PECVD
- 产地:美国
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVSSilicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar CellsThroughput: >475 wafers/hrSiNx uniformity: < ?5%产率:>475硅片/小时。氮化硅膜不均匀性:< 5%。
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R&D Cluster tools 研发用团簇
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: Cluster
- 产地:美国
R&D Cluster tools 研发用团簇PECVD PVDR&D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统30x40cm substrate衬底尺寸为30x40cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行?PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射。
- 镀膜机
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