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钙钛矿镀膜机
品牌:沈阳科晶
型号:钙钛矿镀膜机
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PTL-OV6P 6工位提拉涂膜机
品牌:沈阳科晶
型号:PTL-OV6P
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MSK-AFA-II-VC自动涂布机
品牌:沈阳科晶
型号:MSK-AFA-II-VC
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Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机
品牌:北京莱普特
型号:Easy-200
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英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300 英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,
品牌:英国HHV
型号:BT150,BT300
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MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-NFES-4
- 产地:美国
产品简介MSK-NFES-4静电纺丝纳米纤维制备系统是一个完整的纳米纤维制备系统,或者说是一个完整的静电纺丝涂覆系统(或电喷镀)。具有操作软件友好、设计以任务作业为基准、易于操作、优越的性价比等优点,因此领xian于市场其他同类产品。可生产直径20nm-1000nm的超细纳米纤维,也可用于在基底上进行电喷雾涂层材料,相比于电纺丝,电喷雾涂层需要一个低粘度解决方案和更高的电压。主要特点1、友好的操作软件界面,使得计算机能够帮助管理和控制各种参数,如旋转心轴速度、旋转时间、注射泵流量、XY方向运动等。2、采用
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MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-SP-04-LD
- 产地:
MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数,采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动,以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制,以满足实验需要。主要特点喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-16-3HD
- 产地:
VTC-16-3HD3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片最大尺寸2″,放置样品的直径为Φ50mm,加热温度达500℃。本机可溅射金、银、铜三种靶材,并采用旋转式样品台,能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜。主要特点1、PLC控制面板,4.3″触摸屏,PID控温方式。2、可控参数包括真空度、电流、靶材位置、基片加热温度。3、可与真空泵、不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍连用。4、已通过CE认证。技术参数1、输入功率:110V/220V通用 2000W(含真空
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GSL-1100X-SPC-12H加热型等离子薄膜溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-12H
- 产地:
产品简介:GSL-1100X-SPC-12H加热型等离子薄膜溅射仪专门为在基底上镀金属膜(如金、铂、铟、银等)而设计,最大放置样品尺寸直径为40mm,膜厚可达300?,特别适用于为SEM样品镀金而作为导电极。主要特点1、配有2L/s双旋片机械泵,出气口装有立式油雾过滤器,过滤真空泵工作时产生的油烟,减少泵的损耗,保护环境和人体健康。2、已经过CE认证。技术参数1、输入电源:208V-240V 50Hz/60Hz <3000W2、石英腔体:Φ100mm×130mm 3、样品台:Φ60mm,高度可调节
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-2HD
- 产地:
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zuixin研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。主要特点1、配置两个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜。2、可制备多种薄膜,应用广泛。3、体积小,操作简便。技术参数1、电源电压:220V 50Hz
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-3HD
- 产地:
产品简介VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是zuixin研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。主要特点1、配置三个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个为配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。(靶枪可以根据客户需要任意调换)2、可制备多种薄膜,应用广泛。3、体积小,操作简便。4、整
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MSK-AFA-L800流延涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-L800
- 产地:
MSK-AFA-L800流延涂布机是利用真空吸盘和无油真空泵吸附固定基片,配合微米级可调式制膜器制备长度可达800mm的薄膜。设有独特的自动推进装置,可以在宽250mm、长800mm的范围内的任何材料上制备光滑的涂层,是低成本研发及制作18650电池电极材料的理想工具。主要特点1、采用横向推杆配合微米级制膜器。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片。4、涂覆速度可调。技术参数1、电源:110V/220V 50/60Hz2、功率:150W 3、涂覆速度:1-100mm/s可调4、涂覆行程
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MSK-AFA-IV小型涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-IV
- 产地:
MSK-AFA-IV小型涂布机采用电气控制和机械的有机结合,可大量节省原料,改进工艺技术,方便在不同的基底上精确的涂布,减小以及消除了由于涂布速度、压力不同等人为因素造成的误差。主要用于胶类、纸类,薄膜类生产试验,也可用于其他相关的涂布、涂装行业。主要特点1、通过更换涂辊调节涂布厚度。2、通过旋钮调节涂布速度。3、采用进口零部件。4、均匀涂布。技术参数1、电源: 220V 50Hz2、功率: 50W 3、涂布速度:1-1200mm/min可调4、涂覆面积:420mm×350mm5、涂膜厚度:12μm-20
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MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-III
- 产地:
MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜,能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。本机通过匀速推动精密制膜器,达到平滑、均匀的涂覆效果。采用真空吸附来固定基片,使得涂布过程中基片无褶皱现象,从而使得涂布更加顺畅。涂布后,上盖可对薄膜进行加热烘干,控温精度为±1℃。特别适合于固态电解质和锂电池极片的制备。主要特点1、设有自动烘干功能。2、采用真空吸附来固定基片。3、均匀涂布。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1
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MSK-AFA-II-VC自动涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-II-VC
- 产地:
产品简介MSK-AFA-II-VC自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。主要特点1、均匀涂布。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s3、涂布行程:550mm4、真空板:600mm×300mm×20mm5、制膜器可调范围:0.02mm-5mm产品规格尺寸:805mm×430mm×223mm重量:45kg可选配件1、真空泵2、制膜器
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MSK-AFA-II玻璃涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-II
- 产地:
MSK-AFA-II玻璃涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。主要特点1、均匀涂布。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s3、涂布行程:550mm4、玻璃板:600mm×300mm×20mm5、制膜器可调范围:0.02mm-5mm产品规格尺寸:805mm×430mm×223mm重量:42kg可选配件真空铝板(600mm×300mm×30mm)
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MSK-AFA-I自动涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-I
- 产地:
MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜,能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。主要特点1、涂覆速度可调,并设有数字显示。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片,可快速取放基片。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、功率:350W 3、涂覆速度:1mm/s-100mm/s可调4、涂覆行程:10mm-250mm5、真空铝板:365mm×200mm×30mm6、制膜器:150mm可调式,调整范围0.02mm-5
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PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-NMB
- 产地:
PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机是以纳米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制系统,以彩色触摸屏为数据输入输出端,显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、间隔时间等参数。主要特点1、采用彩色触摸屏,界面清晰,方便参数设置。2、提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行,有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠,简单易懂。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、提拉速度:1-500nm/s3、速度稳定性:±0.05%4、温度:RT-100℃5、样件
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PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MMB02
- 产地:
PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机是专门为在液相中提拉涂膜而设计的。在恒温环境下,通过垂直提拉液相中的样件生长薄膜。主要特点1、采用PLC程序控制,控制界面简单清晰。2、在恒温环境下进行提拉涂膜,有利于薄膜形成及固化。3、操作简单,安全可靠。4、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度:1-200mm/min2、速度稳定性:±0.05% 3、温度:RT-100℃4、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:450mm×500mm×970mm标准配件1、涂膜卡具2、料杯3、提拉丝
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钙钛矿镀膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: 钙钛矿镀膜机
- 产地:
钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁
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MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-USP-04C
- 产地:
MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动,以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制,以满足实验需要。主要特点喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太阳能电池中得广泛应用。技术参数1、电源:220V 50Hz/60H
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徕卡高真空镀膜仪-Leica EM ACE600
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM ACE600
- 产地:德国
Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪,真空度可达2x10-6mbar,真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵,无油真空系统。镀膜细腻均匀,内置石英膜厚检测器,可准确控制镀膜厚度。全自动电脑控制,自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程,一键操作。采用触摸屏控制,简单方便。 突出特点: ► 离子溅射镀金属膜,满足高分辨场发射扫描电镜(FESEM)需求 ► 碳丝蒸发镀碳膜,用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜 ► 电子束蒸发方式镀膜,获得非常细腻的金属膜与碳膜,可用于DNA投影等特殊用途
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Ossila浸渍提拉镀膜机
- 品牌:英国Ossila
- 型号: L2006
- 产地:英国
Ossila浸胶机性能zhuo越,内置软件操作简单,价格经济,是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。 浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度,从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila浸胶机使用高精度电机,可以极ng准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度,保证良好重复性。 Ossila浸胶机通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台,保证平台活动的高极ng准性,产生优质膜片,重复性好-每次都能如您所愿。本产品提供为期2年的质保,为使用者提供更高的保障。
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SDI提拉式镀膜仪ND-0407-S5
- 品牌:日本SDI
- 型号: SDI ND-0407-S5
- 产地:日本
1.可以提供超低速的常规垂直镀膜 2.可以通过调整θ角来获取提拉角度 3.可以采用不同的液体(例如交替吸附等)进行镀膜 4.独立运动和复合运动均可操作(在两个轴上) 5.具有可以连续点运行的新功能
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法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150
- 品牌:法国Plassys
- 型号: SSDR 150
- 产地:法国
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统 SSDR 150 ,专门用于合成 CVD 金刚石薄膜,能够制备高纯单晶(需高纯气源)、厚单晶、大单晶、多晶薄膜、光学级窗口。SSDR150 不断优化的微波及等离子体设计,是一款可靠的、稳定的、长时间运行的金刚石薄膜生长系统,能够wan美地适用于高校科研和企业生产。
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英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4
- 品牌:英国Oxford Vacuum
- 型号: Vapour Station
- 产地:英国
英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4,该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有 气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能, 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究。
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法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机 MEB550SL3
- 品牌:法国Plassys
- 型号: MEB550SL3
- 产地:法国
MEB550SL3法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机,电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚,使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件,特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中。
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英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto500/Ats500
- 产地:英国
Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台,主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计,可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺,甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。
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徕卡低真空镀膜仪-Leica EM ACE200
- 品牌:徕卡显微系统
- 型号: Leica EM ACE200
- 产地:德国
Leica EM ACE200低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求,也可用于X-射线能谱及波谱分析,或者TEM铜网镀碳膜。 突出特点: ► 全自动电脑控制,自动完成抽真空、镀膜、放气等全过程,一键操作 ► 采用触摸屏控制,简单方便
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Oxford镀膜机PlasmaLab System100
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaLab System100
- 产地:英国
英国OXFORD镀膜机PlasmaLab System100
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英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300 英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,
- 品牌:英国HHV
- 型号: BT150,BT300
- 产地:英国
英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,新系列小型桌上系统,触摸屏显示控制,适合于SEM及TEM电镜样品制备及常规科研的全功能系统。 咨询购买
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PlasmaPro 80 ICPCVD 英国Oxford 牛津等离子沉积机
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaPro 80 ICPCVD
- 产地:英国
PlasmaPro 80 ICPCVD是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
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TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: TF500/TF600
- 产地:英国
TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统,具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件,以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源,也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室(Load Lock)和样品操纵装置可供选择,以提高真空镀膜效率。
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英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto500,Ats500
- 产地:英国
英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500 适合研究开发需求的多功能系统平台
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TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: TF500/TF600
- 产地:英国
TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统,具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件,以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源,也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室(Load Lock)和样品操纵装置可供选择,以提高真空镀膜效率。
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英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto306
- 产地:英国
Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室,也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度,适用于安装较多的工艺附件。
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英国HHV Auto500GB 适合手套箱集成的真空镀膜系统
- 品牌:英国HHV
- 型号: Auto500GB
- 产地:英国
Auto500GB是专门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备,满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室,可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的前门可竖直滑动开关,嵌入手套箱内,并占用很少的手套箱空间;其后门是铰链扇式开关,能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。
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电弧等离子体沉积系统
- 品牌:日本Advance Riko
- 型号: APD
- 产地:日本
电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量,可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。高能量等离子体可以沉积碳和相关单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管 形成新的纳米颗粒催化剂。
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Phoenix G2 ALD System
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal b
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Fiji G2 Plasma ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Plasma &a
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全自动原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Veeco
- 型号: Savannah G2 ALD
- 产地:美国
Veeco(之前称之为Cambridge Nanotech)已经有15年以上的ALD研发生产经验。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大学,05年搬到Boston并生产出Thermal ALD - Savannah, 之后生产出Plasam ALD - Fuji、批量生产ALD-Phoenix。2017年被Veeco收购,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今为止,Veeco在ALD设备已有15年多的经验,全球已安装五百多台ALD设备。方式: Thermal
- 镀膜机
- 仪器网导购专场为您提供镀膜机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选镀膜机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。