离子束刻蚀系统离子束刻蚀系统也称为离子铣,是指当定向高能离子向固体靶撞击时,能量从入射离子转移到固体表面原子上,如果固体表面原子间结合能低于入射离子能量时,固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。离子束最小直径约10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下,最少的达到10nm,获得最小线宽12nm的加工结果。
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Chemcut - 湿法蚀刻设备
- 品牌:美国Chemcut
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产品简介 导线框架(QFN)和BGA背蚀刻和半蚀刻系统 硷性蚀刻:•蚀刻速率:25 - 40 um / min,适用於厚铜(15um以上)蚀刻技术。•低侧蚀。•金属(镍/金)镀层无损坏。 酸性蚀刻: •蚀刻速率:5-10微米/分钟,适用於簿铜(15um以下)蚀刻技术。•高侧蚀。•可能会损坏金属(镍/金)电镀。 Chemcut
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