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OAI 2000SM边缘曝光系统OAI 2000AF曝光系统
品牌:美国OAI
型号:OAI 2000SM/OAI 2000AF
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SPS 光刻机 POLOS µ
品牌:德国SPS-保罗
型号:POLOS µ
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URE-2000S/35L(A)型紫外双面光刻机
品牌:光电所
型号:URE-2000S/35L(A)
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美国恩科优N&Q系列光刻机4008
品牌:美国恩科优
型号:N&Q4008
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EVG HERCULES集成光刻跟踪系统
品牌:奥地利EVG
型号: HERCULES
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美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴
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美国OAI光刻机及光功率计
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200/Model 800MBA
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴
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美OAI光刻机Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200, 800MBA, 5000, 2000
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机:Model 200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model 2000 全自动边缘曝光系统,生产型Model 5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器,采用经过行业验证的组件,使OAI成为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器,需要最小的洁净室空间。它为研发,或有限规模,试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴
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OAI 紫外光刻机 Model 200 型
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 200
- 产地:美国
美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统,完全手工操作,输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线,Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm
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OAI Model 212 型紫外光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI Model 212
- 产地:美国
OAI Model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm
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OAI Model 800E 紫外光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI Model 800E
- 产地:美国
OAI Model 800E 型掩模对准系统,各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm), I(365nm)和310nm线,Hg-Xe灯:260nm和220nm
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OAI 掩膜光刻机 Model 6000型
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 6000
- 产地:美国
OAI 掩膜光刻机 Model 6000型,高吞吐量180 wph,灵活处理基板从2“平方到12”平方
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OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S
- 品牌:美国OAI
- 型号: Model 6020S
- 产地:美国
OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加工.
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OAI UV光源
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI
- 产地:美国
紫外光源OAI UV光源是大面积准直光源。 该器件的输出功率高达10KW。 利用准直镜,UV光源重型是一种高效的紫外光源,适用于各种大规模应用。UV Light Source GrandeThe OAI UV Light Source Grande is a large area collimatedlight source. The device is available with output power up to 10KW. Utilizingcollimating mirrors, the UV
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OAI 2012SM 自动化边缘曝光系统
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 2012SM
- 产地:美国
2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片,该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现,从而增加该生产工具的通用性和高产量。Automated Edge-Bead Exposure SystemModel 2012SMThe Model 2012SM Automated Edge-bead Exposure Systemprovides a cost-effective method for edge
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OAI 2000SM边缘曝光系统OAI 2000AF曝光系统
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 2000SM/OAI 2000AF
- 产地:美国
OAI 2000型曝光系统可以配置为边缘曝光系统(2000SM)或曝光系统(2000AF);这两种配置都基于OAI经过验证的,经过时间测试的平台。两种型号的2000型曝光系统包括UV光源,强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 UV光源提供发散半角<2.0%的可调强度光束。电源从200W到2,000W。强度控制器传感器直接连接到光源,用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的,并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。阴影掩模能力使得用户能够在保持非常接近掩模的同时对衬底的顶部进行图案化。在
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OAI 800FSA 光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 800FSA
- 产地:美国
800FSA型掩模对准器可以配置多种OAI光源,功率高达2KW。
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OAI 5000E 光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 5000E
- 产地:美国
OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,ding级,亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材(圆形或方形)上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近,中,或深紫外范围的光刻胶,并具有计算机控制的LED显微镜照明,在不太理想的观察环境中观察。
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OAI 6000 FSA 全自动上侧后侧光刻机
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 6000 FSA
- 产地:美国
•全自动 •侧面对齐 •可选:底部对齐 UV到NUV •集群工具集成 •自定义软件
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OAI 800型光学正面和背面光刻机系统
- 品牌:美国OAI
- 型号: OAI 800
- 产地:美国
800型光学正面和背面光刻机系统OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供极其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。模型800光刻机配置了各种各样的的OAI紫外线光源,在权力范围2千瓦。光刻机工具可以容纳基质8英寸广场,以及晶片卡盘定位允许方便装卸。这个划算的光刻机还包括机动背后焦点,电动汽车水准和汽车差距设置。建立在隔振平台,固定器总成担保的固
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光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)
- 品牌:深圳科时达
- 型号: MPS-150
- 产地:美国
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,紫外曝光机等;美国公司为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。
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美国恩科优N&Q系列光刻机4008
- 品牌:美国恩科优
- 型号: N&Q4008
- 产地:美国
品牌:恩科优(N&Q)型号:NXQ400-8产地:美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的。
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美国恩科优N&Q系列光刻机8006
- 品牌:美国恩科优
- 型号: N&Q8006
- 产地:美国
品牌:恩科优(N&Q)型号:NXQ800-6产地:美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代先进的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的。
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M系列光束笔尖阵列光刻系统
- 品牌:美国Tera print
- 型号: M
- 产地:加拿大
聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率,可应用于纳米粒子合成,蛋白阵列,单细胞排布,纳米电路构造、生物芯片、化学检测、微尺度催化反应、分子马达等领域。此设备在国际上属于基于聚合物笔光刻(PPL)技术的纳米制造系统,PPL技术是美国Tera-print公司独有的技术。
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[公开招标]预算289.62万元 中国海洋大学采购拉曼光学显微镜
中国海洋大学公开招标拉曼光学显微镜、MEMS扫描镜,光谱仪、近红外探测器、高精度高斯计,4.4GHz射频信号发生器、光学平台,紫外光刻机、光束轮廓仪,项目编号:HYHAQD2024-0113
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[公开招标]预算710万元 南京大学采购感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统
南京大学公开招标感应耦合等离子体刻蚀机,感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统,项目编号:ZH2024020038(JSHC-2023121039A1)
- 激光刻蚀机
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