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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
品牌:德国iplas
型号:iplas CYRANNUS
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超高真空多腔室物理气相沉积系统
品牌:美国PVD
型号:4000
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NLD-3500 (A) ,全自动原子层沉积系统
品牌:美国Nano-Master
型号:NLD-3500(A),
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德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-16" 915MHz 系统
品牌:德国iplas
型号:Cyrannus 1-16" 915MHz 系统
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德国IPLAS 微波等离子化学气相沉积系统CYRANNUS
品牌:德国iplas
型号:iplas 微波等离子化学气相沉积系统
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plasma设备 NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPE-3000
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,具有分形气流分布优势.样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
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PECVD镀膜设备 NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPE-3500
- 产地:美国
NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求,无论是等离子强度、均匀度,还是要分别激活某些活性组份,这样系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。
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PECVD设备 NPE-4000(ICPM)ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPE-4000(ICPM)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
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PECVD设备 NPE-4000(ICPA)自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NPE-4000(ICPA)
- 产地:美国
NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可达6" 基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
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CVD设备 微波等离子化学气相沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: PECVD
- 产地:美国
NM的微波PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源,样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵,真空可低至10-7 torr。标准配置含1路惰性气体、3路活性气体和4个MFC。
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上海微行PECVD型等离子增强化学气相沉积系统
- 品牌:上海微行
- 型号: PECVD型等离子增强化学气相沉积系统
- 产地:苏州
价格有优势,而且服务效率,质量上面好而且有保证。
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那诺-马斯特 NMC-4000 MOVPE设备
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NMC-4000
- 产地:美国
针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、 250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制,完全的安全
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MOCVD设备 NMC-4000(A)全自动PAMOCVD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NMC-4000(A)
- 产地:美国
针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10-7Torr极限真空)、PC全自动控制。
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卧式低压化学气相沉积炉管
- 品牌:北京华测
- 型号: SVCS
- 产地:海淀区
卧式低压化学气相沉积炉管用于沉积高品质的n型掺杂或非掺杂的多晶硅或非晶硅;用于沉积高品质的低应力氮化硅或氮氧化硅。
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成都纽曼和瑞微波等离子体CVD设备hmps-2060sp
- 品牌:成都纽曼和瑞
- 型号: hmps-2060sp
- 产地:成都
性能先进,安全、可靠性强、重现性好,操作简便。 多参数实时监测、采集与记录,PLC屏幕控制,多重联锁保护
- 气相沉积系统
- 仪器网导购专场为您提供气相沉积系统功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选气相沉积系统的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。
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