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英国Oxford 等离子增强化学气相沉积 Plasmalab System100
品牌:牛津仪器
型号:Plasmalab System100
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NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
品牌:美国Nano-Master
型号:NPE-3500PECVD
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
品牌:美国Neocera
型号:Pioneer180MAPLEPLD
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PEALD 原子层沉积系统
品牌:深圳科时达
型号:PEALD
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NLD-3500 (A) ,全自动原子层沉积系统
品牌:美国Nano-Master
型号:NLD-3500(A),
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德国IPLAS 微波等离子化学气相沉积系统CYRANNUS
- 品牌:德国iplas
- 型号: iplas 微波等离子化学气相沉积系统
- 产地:德国
德国IPLAS MPCVD CYRANNUS® 专 利技术微波等离子化学气相沉积系统,广泛应用于第四代半导体,射频器件,散热器件,光学窗口等高科技令域。晶圆生长金刚石膜,是第四代半导体材料。
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德国iplas微波等离子化学气相沉积 iplas Mpcvd 915MHz 系统
- 品牌:德国iplas
- 型号: iplas Mpcvd 915MHz
- 产地:德国
德国iplas微波等离子化学气相沉积 iplas Mpcvd 915MHz 系统,德国 iplas公司的独家专利多天线耦合微波等离子技术(CYRANNUS®),可在反应腔中实现极高的 SP3 键转化率,使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团,从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积质量得到改善,这正是获取优质金刚石的技术基础。
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德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-6" 2.45GHz系统
- 品牌:德国iplas
- 型号: Cyrannus 1-6" 2.45GHz系统
- 产地:德国
德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-6" 2.45GHz系统,德国 iplas公司的独 家 专 利多天线耦合微波等离子技术(CYRANNUS®),可在反应腔中实现极高的 SP3 键转化率,使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团,从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积质量得到改善。
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德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-16" 915MHz 系统
- 品牌:德国iplas
- 型号: Cyrannus 1-16" 915MHz 系统
- 产地:德国
德国iplas微波等离子化学气相沉积 Cyrannus 1-16" 915MHz 系统,德国 iplas公司的独 家专 利多天线耦合微波等离子技术(CYRANNUS®),可在反应腔中实现极高的 SP3 键转化率,使得腔体中充满过饱和原子氢和含碳基团,从而有效地提高了沉积速率并且使得金刚石的沉积质量得到改善,这正是获取优质金刚石的技术基础。
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Plasma Stripper (Asher) 等离子去胶机(灰化)
- 品牌:牛津仪器
- 型号: Plasma Stripper (Asher)
- 产地:英国
。开放式设计,可快速加载和卸载晶圆。 。基片放置在石英上,以避免溅射/再沉积电极材料 。通过顶部电极上的“莲蓬头”进气口将气体注入工艺室 。电感耦合等离子体(ICP)和电极的独立射频发生器提供对离子能量和离子密度的独立控制 。高电导泵浦端口提供高的气体吞吐量,以zui快的腐蚀速率 。使用等离子体源,生成单原子反应种。氧是zui常见的反应物质。
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德 Iplas 微波等离子化学气相沉积
- 品牌:德国iplas
- 型号: Iplas
- 产地:德国
德 Iplas 微波等离子化学气相沉积技术,通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
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英国Oxford 等离子增强化学气相沉积 Plasmalab System100
- 品牌:牛津仪器
- 型号: Plasmalab System100
- 产地:英国
·可蒸发不同厚度的SiO2 和SiNx薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域; ·沉积薄膜种类:SiO2,SiNx,SiONx。
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
- 品牌:德国iplas
- 型号: iplas CYRANNUS
- 产地:德国
1. CYRANNUS®技术无需在样品腔内安装内部电极,在沉积腔内,没有工作气体以外的任何物质,洁净,无污染源。等离子发生器可以保持长寿命,并可以确保腔内的等离子体的均匀分布,进一步生成晶体的纯净度和生长周期。 2. CYRANNUS®技术的腔外多电极设置,确保等离子团稳定生成于腔内ZX位置,对腔壁、窗口等无侵蚀作用,减少杂质来源,提高晶体纯度。由CYRANNUS®系统合成的金刚石,纯度均在VVS级别以上。
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微波等离子化学气相沉积系统
- 品牌:德国iplas
- 型号: CYRANNUS
- 产地:德国
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD 宝石级大尺寸单晶金刚石制备系统 微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。 MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司ZL的 CYRANNUS 等离子技术解决了传统等离子技术的局限,可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团,大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体
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德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备 TETRA240
- 品牌:德国Diener
- 型号: DienerPECVDTETRA240
- 产地:德国
德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。
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原子层沉积系统 R系列
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: R
- 产地:芬兰
PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD技术,是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALDZL。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。技术参
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电子束蒸发源
- 品牌:德国tectra
- 型号: DZSZFY
- 产地:德国
对于使用常用热蒸发技术非常难蒸发的材料,电子束蒸发是一种有效的蒸发手段.通过高能电子束射向靶材来升高靶材温度.相比于通常辐射或间接电阻加热方式,使用这种方式来达到温度没有本质的限制。
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热舟蒸发源 / K Cell
- 品牌:德国tectra
- 型号: K Cell
- 产地:德国
我司提供的这款热舟蒸发源是由高质量,完全与高真空兼容材料构成,并且可以烘烤至250℃。
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[公开招标]预算165万元 中山大学采购氢化物气相外延沉积系统
中山大学公开招标氢化物气相外延沉积系统,项目编号:中大招(货)[2023]243号
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[公开招标]预算710万元 南京大学采购感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统
南京大学公开招标感应耦合等离子体刻蚀机,感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统,项目编号:ZH2024020038(JSHC-2023121039A1)
- 气相沉积系统
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