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精密隔振平台/减振平台
品牌:美国MinusK
型号:WS-4
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徕卡自动载网投入冷冻仪 Leica EM GP
品牌:徕卡显微系统
型号:EM GP
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德国徕卡 水镜自动加水装置 Leica Water Immersion Micro Dispens
品牌:徕卡显微系统
型号:Leica Water Immersion Micro Di
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MHF系列差动分厘卡
品牌:北京卓立汉光
型号:MHF2-13
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徕卡 1200万像素显微镜摄像头 Flexacam C3
品牌:徕卡显微系统
型号:Flexacam C3
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日立质谱检测器 Chromaster5610
- 品牌:日立
- 型号: Chromaster5610
- 产地:日本
1.可轻松获得质谱信息 -该装置与大型质谱分析仪(Mass Spectrometer)不同,为HPLC用户提供了具有全新概念的质谱检测器(MS Dector)。 2.具有台式机尺寸的紧凑设计,可安装于HPLC实验室可使用AC220V电源。 -无需排气管道,对安装环境没有要求,因此无需进行特别安装施工。 -利用节省空间、紧凑的设计,实现了与HPLC系统相同的安装面积。 -成功将N2气体使用量控制在zui小限度(zuida流量3.0L/min),N2气瓶也可使用。 -可与当前使用的HPLC进行连接。
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Hitachi ZoneSEM II 扫描电子显微镜样品清洗仪
- 品牌:日立
- 型号: ZoneSEM II
- 产地:日本
ZONESEMⅡ台式样品清洗器采用基于紫外线的清洗技术,最大限度地减少或消除电子显微镜成像的碳氢化合物污染。 在大气条件下准备、处理或储存样品可能会增加试样上的碳氢化合物堆积,而在电子束的影响下,这些碳氢化合物会在表面形成厚厚的一层。用ZONESEMⅡ清洁样品表面可以去除碳氢化合物,并减少光束引起的污染的可用分子。防止试样表面的污染对电子显微镜的真实观察至关重要。 ZONESEMⅡ利用真空控制的紫外线照射和活性氧,在成像前温和地去除试样表面的碳氢化合物,而无需使用任何化学品或试剂。第二
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Hitachi ZoneTEM II 透射电子显微镜样品清洗仪
- 品牌:日立
- 型号: ZoneTEM II
- 产地:日本
创新的ZONETEM II桌面样品清洗器采用基于紫外线的清洗技术,最大限度地减少或消除电子显微镜成像的碳氢化合物污染。ZONE为分析前的样品准备提供了易于使用的清洁,确保从你的TEM样品中获得最佳数据。 由于样品制备或储存,样品表面不可避免地被碳氢化合物污染。ZONETEM II台式样品清洗器可以轻柔地去除这些污染,从而显示出你的样品的真实表面。 ZONETEM II利用真空控制的紫外线照射,在不使用任何化学品、供应气体或试剂的情况下,在成像前轻轻地、快速地 "清洁 "标本表面。第二代ZONE样品清洗机具
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Hitachi Evactron E50 等离子清洗设备
- 品牌:日立
- 型号: Evactron E50
- 产地:日本
产品介绍:等离子体样品清洗设备Evaction E50主要用于场发射扫描电镜样品和样品室内碳氢化合物、有机物和表面碳污染的清洗。Evaction E50可以安装在电镜交换仓或样品室内,利用等离子体进行清洗,也可以用紫外线进行清洗,无需切换到低真空模式即可使用,射频功率高达50W,清洗效率高。 主要特点:n 清洗效率高(射频功率50W)n 等离子体和紫外线双重清洗n 高真空模式下运行,真空范围大n 无损清洗n&
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Hitachi PP3010 冷冻传输系统
- 品牌:日立
- 型号: PP3010
- 产地:日本
PP3010冷冻传输制备系统(Cryo-SEM/Cryo-FIB )PP3010是一款高度自动化、易于使用、镜筒一体式安装、过冷氮气制冷的冷冻传输制备系统,与市面上大多数主要品牌和型号的普通扫描电镜、场发射扫描电镜和聚焦离子束(FIB ) 双束电镜均可配套。PP3010具备快速冷冻、处理和转移样品所需的所有设施。冷冻制备腔室采用涡轮分子泵抽至高真空,包含用于冷冻断裂、自动升华和溅射镀膜等工郸口装置。处理之后,样品将从制备腔室传输到高度稳定的扫描电镜冷台上进行观察。制备腔室和扫描电镜腔室中的冷阱确保整个过程
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Hitachi Q300T D/T Plus 大型样品仓多靶材料离子溅射仪
- 品牌:日立
- 型号: Q300T D/T Plus
- 产地:日本
电容式触摸屏,灵敏度高,更易触控使用 • 用户界面软件全面更新,使用现代智能手机技术界面 • 全面的文字帮助页面 • USB接口可轻松进行软件更新,也可将配方文件备份/复制到USB存贮器 • log文件格式为.csv,内含日期、时间和工作参数,可导出至Excel或类似软件中分析 • 允许多用户输入和储存镀膜方案,并可根据近期的使用情况来排列每个用户的配方 • 双核ARM处理器,可实现快速响应的显示;带触摸屏按钮的全图形界面,包括近期使用的1000个镀膜日志和维护到期时的提醒等功能 • 可拆卸式玻璃腔室,容易清洁底座和顶板,设有防爆罩。如有必要,用户可以快速更换腔室,以避免敏感样品的交叉污染。高腔室选项可避免样品过热,提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品 • 双头溅射-适用于顺序溅射镀膜;磁控冷溅射,脉冲清洁用于溅射Al(铝) • 可选的双膜厚监控附件(FTM) • 大而多色的LED指示灯,实现可视化状态指示;程序完成后具有音频声音提示
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日立高新磁控溅射器MC1000
- 品牌:日立
- 型号: MC1000
- 产地:日本
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm特点:采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件可处理较厚或较大的样品(选配件)记忆功能可存储常用加工条件规格:
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IM4000型离子研磨系统
- 品牌:日立
- 型号: IM4000
- 产地:日本
Cross section and sample surface polishing ability combined in a single unit The new Hitachi IM4000 Ar ion mil领 system makes two mil领 configurations available in a single instrument. While previously two separate systems were nee
- 电镜附件
- 电镜附件,电镜附件