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P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机
品牌:芬兰Picosun
型号:P-300F,P-300BV
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P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机
品牌:芬兰Picosun
型号:P-200S Pro
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P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机
品牌:芬兰Picosun
型号:P-300B Advanced
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NANO-MASTER的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统
品牌:美国Nano-Master
型号:NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000
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美Nano-master等离子清洗/灰化系统NPC-4000
品牌:美国Nano-Master
型号:NPC-4000,NPC-3500,NPC-3000
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PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300B
- 产地:芬兰
PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距),200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)
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PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300S
- 产地:芬兰
PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD ,最 大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现 ,
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PICOSUN 原子沉积机 P-300F ,P-300BV
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN P-300F ,P-300BV
- 产地:芬兰
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
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PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-200S
- 产地:芬兰
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD ,由两台PICOSUN P-200S ALD设备组成,带等离子体源PICOPLASMA。
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德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500 D
- 产地:德国
德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机,具有特殊的等离子体特性,如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。
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Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备
- 品牌:牛津仪器
- 型号: Oxford System 100
- 产地:英国
Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。 可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力。
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德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
- 品牌:德国Sentech
- 型号: PE-ALD
- 产地:德国
德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积,SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验,包括专有的PTSA技术,推出**台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪,使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。
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芬兰 Picosun R-200 高级型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: Picosun R-200
- 产地:芬兰
。气动升降(手动装载) 。预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) 。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现
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Diener P30 聚对二甲苯涂层系统
- 品牌:德国Diener
- 型号: P30
- 产地:德国
聚对二甲苯是聚对二甲苯聚合物基团的简称。聚合物由被不同物质取代的对二甲苯组成。涂层的基础是二聚体。这是由两个相同的亚基,即所谓的单体组成的分子复合物。特性和优点:完全合规:即也适用于复杂的基材轮廓,例如锋利的边缘、钻孔或盲孔从层厚度约为 0.5 µm 时起就已经无针孔 (“pinhole-free”)。化学不可溶并且耐抗诸多化学物质。对湿气和化学物质具有非常好的阻隔特性。具有较高的介电击穿强度。具有干润滑特性(较低的 摩擦系数)。具有疏水性:H2O 的接触角介于 92 ° 和 98°
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Diener P300 聚对二甲苯涂层系统
- 品牌:德国Diener
- 型号: P300
- 产地:德国
简介:聚对二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里纶(Parylene),是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称,它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性,主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二甲苯)和 Parylene D(聚二氯对二甲苯)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基,再导入成膜室
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德国Sentech ALD实时监测仪
- 品牌:德国Sentech
- 型号: RTM
- 产地:德国
SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具,是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特性(生长速率,厚度,折射率),在短时间内开发新工艺、实时研究ALD循环中的反应机理是SENTECH ALD实时监测仪的主要应用。
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PlasmaPro 80 PECVD牛津等离子沉积机
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaPro 80 PECVD
- 产地:英国
· 小尺寸系统——易于安置 · 优化了的电极冷却——衬底温度控制 · 高导通的径向(轴对称)抽气结构—— 确保提升了工艺均匀性和速率 · 增加了<500毫秒的数据记录功能——可追溯腔室和工艺条件的历史记录 · 近距离耦合涡轮泵——提供优越的泵送速度加快气体的流动速度 · 关键部件容易触及——系统维护变得直接简单 · X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力, 并且可以实现更快更可重复的匹配 · 通过前端软件进行设备故障诊断——故障诊断速度快 · 用干涉法进行激光终点监测——在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界 · 用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测—— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测
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PECVD Depolab 200 等离子体沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: Depolab 200
- 产地:德国
PECVD Depolab 200 等离子体沉积机,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。depolab200可以升级为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。
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SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500
- 产地:德国
SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统,感应耦合等离子刻蚀机台,低损伤纳米结构刻蚀,高速率刻蚀,内置ICP等离子源,动态温控。
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德国 Sentech SI 500 PPD等离子沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500 PPD
- 产地:德国
德国 Sentech SI 500 PPD等离子沉积机,使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺,a- si在室温到350℃之间。真空loadlock SI 500 PPD的特点是真空加载锁定和干燥. 抽油机适用于无油、高产量和沉积过程的清洁度。
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PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: PE-ALD
- 产地:德国
原子层沉积(ALD)是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。
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Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
- 品牌:德国Sentech
- 型号: Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
- 产地:德国
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
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德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500 D
- 产地:德国
SI 500D 代表了等离子体增强化学气相沉积介电薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等离子体源,反应气体分离气体入口,动态控温基片电极,全控真空系统,采用远程现场总线技术的先进森泰克控制软件,以及一个非常友好的通用用户界面来操作SI 500D。
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德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机 PE-ALD
- 产地:德国
PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机,是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。
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PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-1000 Pro
- 产地:芬兰
PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机技术参数:衬底尺寸和类型 。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背) 。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品工艺温度: 50 - 500 °C基片传送选件: 。气动升降(手动装载,带叉车
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P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300 Advanced
- 产地:芬兰
PICOSUN P-300 Advanced ALD 高 级型原子层沉积机衬底尺寸和类型: 。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背) 。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背) 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬 币,医疗植入部件,机械部件等) 。粉末与颗粒 。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm 。多孔,通孔,与高深宽
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P-300B Advanced ALD 高 级原子沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300B Advanced
- 产地:芬兰
液态,固态,气态,臭氧源; 前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务; 4根独立源管线,zui多加载6个前驱体源。
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芬兰 PICOSUN R-200标准型ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: R-200标准型
- 产地:芬兰
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极 佳的均匀性,包括zui具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。
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P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-200S Pro
- 产地:芬兰
PICOSUN P-200S Pro ALD 生产型原子层沉积机 技术参数衬底尺寸和类型: 。50 – 200 mm /单片 。156 mm x 156 mm 太阳能硅片 。150 mm x 150 mm 显示面板工艺温度: 50 - 500 °C , 可选更高温度基片传送选件 : 。气动升降(手动装载) 。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现 。25片晶圆盒对盒式全自动装
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P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300F,P-300BV
- 产地:芬兰
PICOSUN P-300F Pro ALDPICOSUN P-300BV Pro ALD技术参数 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)工艺温度: 50 - 300 °C基片传送选件:。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICO
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P-300S 生产线型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300S
- 产地:芬兰
半自动装载,用单片Load lock与磁力操纵杆实现; 25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现。
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芬兰Picosun ALD原子层沉积系统
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: Picosun ALD
- 产地:芬兰
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Beneq Transform® 沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Transform®
- 产地:芬兰
Beneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。
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Beneq P400A & P800 原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: P400A & P800
- 产地:芬兰
eneq P400A 和 P800 是专为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。该系统经过工业认证,技术成熟可靠。该设计主要基于在严苛的工业应用中连续运行25年(24/7)的丰富经验。
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Beneq Transform® 沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Transform®
- 产地:芬兰
eneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。Beneq Transform™配置多个ALD工艺模块,以满足特定的晶圆产能要求,也可为应对不断增长的产量或新的ALD应用而进行升级
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Beneq P400A & P800 原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: P400A & P800
- 产地:芬兰
适用于大批量生产和厚膜堆叠生产。
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Beneq TFS 200原子沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: TFS 200
- 产地:芬兰
Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的最灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至最低而特别设计的。各种配置选项和升级意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材料,或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。
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Beneq Genesis ALD原子层沉积系统
- 品牌:深圳科时达
- 型号: Genesis ALD
- 产地:芬兰
适用于电池,太阳能和柔性电子产品的功能性ALD镀膜。
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原子层沉积系统ALD
- 品牌:德国爱谱斯
- 型号:
- 产地:德国
ALD可实现从传统的 0D、1D 和 2D 材料到仿生结构和混合材料、多孔模板和具有均匀控制成分和物理化学性质的三维复杂纳米结构。
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PICOSUN™ ALD R-200 Advanced
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN™ R-200 Advanced
- 产地:芬兰
PICOSUN R系列ALD产品能够沉积高质量薄膜,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的沟槽或者纳米颗粒, 沉积的薄膜均匀性也极其优异。Picosun功能强大、易更换的固、液、气态前驱体输运系统确保可以在硅平面基片,3D复杂基片及所有纳米尺度的特征器件上制备无颗粒的薄膜。PICOSUN R系列沉积系统独特的扩展性使得科研成果很容易向生产型的PICOSUN P系列平稳转换。技术参数衬底尺寸和类型50 200 mm /单片最大可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺)特殊选
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PICOSUN™ ALD R-200 Standard
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN™ R-200 Standard
- 产地:芬兰
PICOSUN R系列ALD产品能够沉积高质量薄膜,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的沟槽或者纳米颗粒, 沉积的薄膜均匀性也极其优异。Picosun功能强大、易更换的固、液、气态前驱体输运系统确保可以在硅平面基片,3D复杂基片及所有纳米尺度的特征器件上制备无颗粒的薄膜。PICOSUN R系列沉积系统独特的扩展性使得科研成果很容易向生产型的PICOSUN P系列平稳转换。技术参数衬底尺寸和类型50 200 mm /单片最大可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺)156
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