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Diener P30 聚对二甲苯涂层系统
品牌:德国Diener
型号:P30
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P-300F,P-300BV 生产型原子层沉积机
品牌:芬兰Picosun
型号:P-300F,P-300BV
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PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机
品牌:德国Sentech
型号:PE-ALD
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
品牌:芬兰Picosun
型号:PICOSUN ALD R-300
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
品牌:美国Forge Nano
型号:PANDORA
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ald原子层沉积 NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(ICPA)
- 产地:美国
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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台式三维原子层沉积系统ALD
- 品牌:美国ARRADIANCE
- 型号: GEMStar XT
- 产地:美国
美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可zui 多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03% 以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上实现膜厚的不均匀性优于99%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500: 1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
- 品牌:美国Forge Nano
- 型号: P 系列
- 产地:美国
粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该方法包覆均匀性较差,性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点,采用流化床技术实现粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末实现充分的接触。P 系列是 Forge Nano 针对工业包覆研发的粉末 ALD 负载系统,可实现 kg 级粉末批量包覆,是工业生产前最理想的研发工具。
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
- 品牌:美国Forge Nano
- 型号: PANDORA
- 产地:美国
PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统,可摆放在实验室的任意角落,采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散,有更高的兼容性。对于平面样品,则可快速插入平面反应台,实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率,使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。
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THEIA 超快平面原子层沉积系统
- 品牌:美国Forge Nano
- 型号: THEIA
- 产地:美国
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
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美Nano-master 大基片清洗机 LSC-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: LSC-4000
- 产地:美国
美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000 是一款独立式清洗机,使用计算机控制,最大可支持外径21”的基片。
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美NANO-MASTER RTP快速退火炉NRT-3500, NRT-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NRT-3500, NRT-4000
- 产地:美国
美NANO-MASTER RTP快速退火炉 NRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式大批量RTP系统
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美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NDT-4000
- 产地:美国
美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000,是一款器件测试系统,俗称“热真空系统”,可以用于极真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。
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美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统NRR-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NRR-4000, NRE-4000, NDR-4000
- 产地:美国
美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统 NRR-4000 独立式双RIE或ICP刻蚀系统 NRE-4000 独立式RIE或ICP系统 NRE-3000 台式RIE系统 NDR-4000 深硅刻蚀系统
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美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积系统NLD-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000
- 产地:美国
美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积: NLD-4000 独立式ALD系统 NLD-3500 紧凑型独立式ALD系统 NLD-3000 台式ALD系统
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美Nano-master等离子清洗/灰化系统NPC-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NPC-4000,NPC-3500,NPC-3000
- 产地:美国
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独 一 无 二 的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。
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美Nano-master IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统NIE-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,
- 产地:美国
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统: NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统 NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统
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美NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NEE-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000,可通过样片掩膜实现组合蒸镀,并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升级支持自动上下片,以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的E-Beam电子束蒸镀系统,也可以跟磁控溅射和热蒸镀系统等集成,另外也可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它怎空系统实现双系统的组合。
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NANO-MASTER的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000
- 产地:美国
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统: NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统 NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统 NANO-MASTER那诺-马斯特的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构
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美NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NPE-4000,NRP-4000,NSP-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆,可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压,可通过热电阻或者红外灯加热到800°C。
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磁控溅射系统NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC
- 产地:美国
磁控溅射系统: NSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展 NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。 NSC-3000可支持最多4个靶的DC溅射或RF溅射 NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射
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美Nano-master热蒸镀系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000
- 产地:美国
美Nano-master热蒸镀系统:NTE-4000 独立式电子束蒸镀,NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀,NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统,NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
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Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NOC-4000
- 产地:美国
Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000,提供zuixian极n的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。
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美国 Nano-master ALD/PEALD原子层沉积机 NLD-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NLD-4000
- 产地:美国
大面积过滤器用于捕捉未反应的前驱体; 高深宽比结构的涂覆; 全自动计算机控制,菜单驱动; LabVIEW友好用户界面; EMO和安全互锁; 占地面积仅24”x44”带封闭面板的柜体对超净间很理想。
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美国Angstrom Dep II 原子层沉积系统(ALD)
- 品牌:美国Angstrom Advanced
- 型号: Dep II
- 产地:美国
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),也称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE),或原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition,ALCVD)。
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AdNaNotek 电子束蒸发 EBS-150
- 品牌:深圳科时达
- 型号: EBS-150
- 产地:美国
AdNaNotek 电子束蒸发 EBS-150.
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AdNaNotek 脉冲激光沉积系统 PLD-12L/18L
- 品牌:深圳科时达
- 型号: PLD-12L/18L
- 产地:美国
脉冲激光沉积是一种真空镀膜技术。
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ALD原子层沉积设备-SVT
- 品牌:美国SVT Associates
- 型号: ALD-05
- 产地:美国
美国SVT公司ALD原子层沉积系统自1990年来薄膜淀积设备ding级制造商。拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。提供广泛的服务,包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制设备制造和工艺技术的高度结合,为客户提供可靠的技术服务实验室7台应用淀积设备生长出的材料多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场在薄膜淀积领域拥有超过120台设备的ding级供应商。NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多
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等离子体增强原子层沉积系统
- 品牌:美国Rocky Mountain
- 型号: PEALD
- 产地:美国
沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度,是制作纳米结构从而形成纳米器件的工具。
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ald原子层沉积 NLD-3000原子层沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-3000
- 产地:美国
NLD-3000原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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ald原子层沉积设备 NLD-4000(M)原子层沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(M)
- 产地:美国
NLD-4000(M)原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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ald原子层沉积 NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(ICPA)
- 产地:美国
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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原子层沉积设备 NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(A)
- 产地:美国
NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-3500(A)
- 产地:美国
ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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原子层沉积 NLD-4000(ICPM)PEALD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(ICPM)
- 产地:美国
ALD原子层沉积可以满足准确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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等离子体辅助原子层沉积系统 PEALD
- 品牌:美国ANRIC
- 型号: AT-400
- 产地:美国
※ 广泛应用于光学薄膜、铜互连、MEMS、TSV、高k介质 层、金属栅电极(metal gate)等应用。 ※ 原子级别的薄膜沉积。 ※ 沉积参数高度可控性:厚度、成分和结构。 ※ 优异的薄膜均匀性和一致性。 ※ 薄膜台阶覆盖率高
- 原子层沉积系统
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