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德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机
品牌:德国Sentech
型号:德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机 PE-ALD
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SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
品牌:德国Sentech
型号: SI 500
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AdNaNotek 脉冲激光沉积系统 PLD-12L/18L
品牌:深圳科时达
型号: PLD-12L/18L
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Beneq P400A & P800 原子层沉积系统
品牌:深圳科时达
型号:P400A & P800
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美Nano-master等离子清洗/灰化系统NPC-4000
品牌:美国Nano-Master
型号:NPC-4000,NPC-3500,NPC-3000
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ald原子层沉积 NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统 那诺-马斯特
- 品牌:美国那诺-马斯特
- 型号: NLD-4000(ICPA)
- 产地:美国
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统:ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。这使得ALD原子层沉积膜保持高度的光滑、连续以及无孔的特性,可以提供优异的薄膜性能。ALD原子层工艺也可以实现到大基片上。
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
- 品牌:美国Forge Nano
- 型号: P 系列
- 产地:美国
粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该方法包覆均匀性较差,性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点,采用流化床技术实现粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末实现充分的接触。P 系列是 Forge Nano 针对工业包覆研发的粉末 ALD 负载系统,可实现 kg 级粉末批量包覆,是工业生产前最理想的研发工具。
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PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300B
- 产地:芬兰
PICOSUN 高级原子沉积机 P-300B Advanced ALD,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距),200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)
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PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-300S
- 产地:芬兰
PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD ,最 大300mm晶圆/单片,25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™ 300集群系统实现 ,
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PICOSUN 原子沉积机 P-300F ,P-300BV
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: PICOSUN P-300F ,P-300BV
- 产地:芬兰
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距) 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距) 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
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PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: P-200S
- 产地:芬兰
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-200S Pro ALD ,由两台PICOSUN P-200S ALD设备组成,带等离子体源PICOPLASMA。
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台式三维原子层沉积系统ALD
- 品牌:美国ARRADIANCE
- 型号: GEMStar XT
- 产地:美国
美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可zui 多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03% 以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上实现膜厚的不均匀性优于99%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500: 1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。
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德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500 D
- 产地:德国
德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机,具有特殊的等离子体特性,如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。
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Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备
- 品牌:牛津仪器
- 型号: Oxford System 100
- 产地:英国
Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术。 可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力。
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德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
- 品牌:德国Sentech
- 型号: PE-ALD
- 产地:德国
德国Sentech PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积,SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验,包括专有的PTSA技术,推出**台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪,使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。
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芬兰 Picosun R-200 高级型原子层沉积机
- 品牌:芬兰Picosun
- 型号: Picosun R-200
- 产地:芬兰
。气动升降(手动装载) 。预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) 。半自动装载,用PICOPLATFORM™200集群系统实现
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
- 品牌:美国Forge Nano
- 型号: PANDORA
- 产地:美国
PANDORA 是高度集成的台式原子层沉积系统,可摆放在实验室的任意角落,采用旋转式反应腔实现对粉末材料的分散,有更高的兼容性。对于平面样品,则可快速插入平面反应台,实现样品的切换。PANDORA 高度集成的特点提高了使用效率,使用者甚至在安装的第一天便可以开始 ALD 实验。
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THEIA 超快平面原子层沉积系统
- 品牌:美国Forge Nano
- 型号: THEIA
- 产地:美国
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
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Diener P30 聚对二甲苯涂层系统
- 品牌:德国Diener
- 型号: P30
- 产地:德国
聚对二甲苯是聚对二甲苯聚合物基团的简称。聚合物由被不同物质取代的对二甲苯组成。涂层的基础是二聚体。这是由两个相同的亚基,即所谓的单体组成的分子复合物。特性和优点:完全合规:即也适用于复杂的基材轮廓,例如锋利的边缘、钻孔或盲孔从层厚度约为 0.5 µm 时起就已经无针孔 (“pinhole-free”)。化学不可溶并且耐抗诸多化学物质。对湿气和化学物质具有非常好的阻隔特性。具有较高的介电击穿强度。具有干润滑特性(较低的 摩擦系数)。具有疏水性:H2O 的接触角介于 92 ° 和 98°
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Diener P300 聚对二甲苯涂层系统
- 品牌:德国Diener
- 型号: P300
- 产地:德国
简介:聚对二甲苯(Poly-p-xylene),商品名帕里纶(Parylene),是通过化学气相沉积法制备的具有聚二甲撑苯撑结构的聚合物薄膜的统称,它有极其优良的电性能、耐热性、耐候性和化学稳定性,主要有 Parylene N(聚对二甲苯)、Parylene C(聚一氯对二甲苯)和 Parylene D(聚二氯对二甲苯)三种。它是采用真空热解气相堆积工艺制备,可制成极薄的薄膜,主要用作薄膜和涂层,用于电子元器件的电绝缘介质、保护性涂料和包封材料等。工作原理:将该二聚体进行高温裂解产生双自由基,再导入成膜室
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美Nano-master 大基片清洗机 LSC-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: LSC-4000
- 产地:美国
美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000 是一款独立式清洗机,使用计算机控制,最大可支持外径21”的基片。
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美NANO-MASTER RTP快速退火炉NRT-3500, NRT-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NRT-3500, NRT-4000
- 产地:美国
美NANO-MASTER RTP快速退火炉 NRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式全自动RTP系统 NRT-4000 独立式大批量RTP系统
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美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NDT-4000
- 产地:美国
美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000,是一款器件测试系统,俗称“热真空系统”,可以用于极真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。
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美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统NRR-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NRR-4000, NRE-4000, NDR-4000
- 产地:美国
美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统 NRR-4000 独立式双RIE或ICP刻蚀系统 NRE-4000 独立式RIE或ICP系统 NRE-3000 台式RIE系统 NDR-4000 深硅刻蚀系统
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美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积系统NLD-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000
- 产地:美国
美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积: NLD-4000 独立式ALD系统 NLD-3500 紧凑型独立式ALD系统 NLD-3000 台式ALD系统
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美Nano-master等离子清洗/灰化系统NPC-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NPC-4000,NPC-3500,NPC-3000
- 产地:美国
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独 一 无 二 的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。
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美Nano-master IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统NIE-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,
- 产地:美国
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统: NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统 NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统
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美NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NEE-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000,可通过样片掩膜实现组合蒸镀,并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升级支持自动上下片,以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的E-Beam电子束蒸镀系统,也可以跟磁控溅射和热蒸镀系统等集成,另外也可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它怎空系统实现双系统的组合。
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NANO-MASTER的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000
- 产地:美国
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统: NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统 NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统 NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统 NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统 NANO-MASTER那诺-马斯特的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构
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美NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NPE-4000,NRP-4000,NSP-4000
- 产地:美国
NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆,可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压,可通过热电阻或者红外灯加热到800°C。
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磁控溅射系统NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC
- 产地:美国
磁控溅射系统: NSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展 NSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。 NSC-3000可支持最多4个靶的DC溅射或RF溅射 NSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射
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美Nano-master热蒸镀系统
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000
- 产地:美国
美Nano-master热蒸镀系统:NTE-4000 独立式电子束蒸镀,NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀,NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统,NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
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德国Sentech ALD实时监测仪
- 品牌:德国Sentech
- 型号: RTM
- 产地:德国
SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具,是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特性(生长速率,厚度,折射率),在短时间内开发新工艺、实时研究ALD循环中的反应机理是SENTECH ALD实时监测仪的主要应用。
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PlasmaPro 80 PECVD牛津等离子沉积机
- 品牌:牛津仪器
- 型号: PlasmaPro 80 PECVD
- 产地:英国
· 小尺寸系统——易于安置 · 优化了的电极冷却——衬底温度控制 · 高导通的径向(轴对称)抽气结构—— 确保提升了工艺均匀性和速率 · 增加了<500毫秒的数据记录功能——可追溯腔室和工艺条件的历史记录 · 近距离耦合涡轮泵——提供优越的泵送速度加快气体的流动速度 · 关键部件容易触及——系统维护变得直接简单 · X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力, 并且可以实现更快更可重复的匹配 · 通过前端软件进行设备故障诊断——故障诊断速度快 · 用干涉法进行激光终点监测——在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界 · 用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测—— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测
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PECVD Depolab 200 等离子体沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: Depolab 200
- 产地:德国
PECVD Depolab 200 等离子体沉积机,将平行板等离子体源设计与直接负载相结合。depolab200可以升级为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。
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SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500
- 产地:德国
SENTECH SI 500 电感耦合等离子体ICP干法刻蚀系统,感应耦合等离子刻蚀机台,低损伤纳米结构刻蚀,高速率刻蚀,内置ICP等离子源,动态温控。
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德国 Sentech SI 500 PPD等离子沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500 PPD
- 产地:德国
德国 Sentech SI 500 PPD等离子沉积机,使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺,a- si在室温到350℃之间。真空loadlock SI 500 PPD的特点是真空加载锁定和干燥. 抽油机适用于无油、高产量和沉积过程的清洁度。
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PE-ALD 德国Sentech 等离子体增强原子层沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: PE-ALD
- 产地:德国
原子层沉积(ALD)是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积(PEALD)是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。
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Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
- 品牌:德国Sentech
- 型号: Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
- 产地:德国
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
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Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000
- 品牌:美国Nano-Master
- 型号: NOC-4000
- 产地:美国
Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000,提供zuixian极n的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。
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德国 Sentech SI 500 D 等离子沉积机
- 品牌:德国Sentech
- 型号: SI 500 D
- 产地:德国
SI 500D 代表了等离子体增强化学气相沉积介电薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等离子体源,反应气体分离气体入口,动态控温基片电极,全控真空系统,采用远程现场总线技术的先进森泰克控制软件,以及一个非常友好的通用用户界面来操作SI 500D。
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