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光刻胶

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光刻胶

光刻胶

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。光刻胶根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶;反之,对某些溶剂是不可溶的,经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
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SU-8 2000 永 久性环氧负性光刻胶

SU-8 2000 永 久性环氧负性光刻胶

  • 品牌: 美国MicroChem
  • 型号: SU-8
  • 产地:美国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶,适用于微加工和其他微电子应用领域,需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方,多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度,更极性的溶剂体系,可改善涂层质量,提高工艺吞吐量。SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。

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