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等离子清洗机

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等离子清洗机
等离子清洗机概述

等离子清洗机也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。容易采用数控技术,自动化程度高;具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高;正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证;由于是在真空中进行,不污染环境,保证清洗表面不被二次污染。

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CPC-A型等离子清洗机

CPC-A型等离子清洗机

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-A
  • 产地:美国
  • 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠; 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确; 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定; 弧形电极板设计,清洗更完全; 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈; 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换; 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单; 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程; 无需任何耗材,使用成本低; 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可; 整机保修一年。

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美国CIF等离子清洗机CPC-A-13.56

美国CIF等离子清洗机CPC-A-13.56

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-A-13.56
  • 产地:北京
  • v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠; v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确; v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定; v 专利的弧形电极板设计,清洗更完全; v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈; v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换; v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单; v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程; v 无需任何耗材,使用成本低; v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可; v 整机保修一年。

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美国赛福等离子清洗机CPC-B-13.56

美国赛福等离子清洗机CPC-B-13.56

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-B-13.56
  • 产地:北京
  • 等离子清洗机CPC-B-13.56美国CIF公司所生产的等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。等离子清洗机CPC-B-13.56清洗原理:    等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。    等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机CPC-B-13.56应用领域:    等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学  生物学等不同领域,主要用于以下实验:v 表面清洁  v 表面活化 v 键合 v 去胶 v 金属还原 v 简单刻蚀 v 器械的消毒v 去除表面有机物 v 疏水实验v 镀膜前处理等等离子清洗与传统湿法清洗九大优势:v 等离子体清洗技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗;v 等离子清洗是干性清洗,无需再次干燥处理,处理效率高;v 等离子清洗有效避免三氯乙烷等有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗对样品的损坏;v 等离子清洗不会产生有害污染物,绿色环保无污染;v 等离子清洗更完全,不会因为清洗样品的形状和角度清洗不干净;v 等离子清洗效率高,几分钟内即可完成;v 等离子清洗设备成本低,由于不使用价格昂贵的有机溶剂,所以整体成本低于传统的湿法清洗;v 等离子清洗清洁卫生,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施;v 等离子体清洗可改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等。等离子清洗机CPC-B-13.56产品特点:v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠;v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确;v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定;v 弧形电极板设计,清洗更完全;v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈;v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换;v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单;v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程;v 无需任何耗材,使用成本低;v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;v 整机保修一年。等离子清洗机CPC-B-13.56技术参数:序号型号CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.561舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm2舱体容积2.6L5.2L2.6L5.2L3射频频率40KHz13.56MHz4射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调5电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ6电 流1.2A1.2A7时间设定1-99分59秒1-99分59秒8气体稳定时间1分钟1分钟9真空度100pa以内100pa以内10激发方式电容式电容式11外形尺寸L*W*H 460X580X220mm520X580X285mm460X580X220mm520X580X285mm12整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg ​

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CPC-B美国CIF等离子清洗机

CPC-B美国CIF等离子清洗机

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-B
  • 产地:美国
  • 等离子清洗机等离子清洗机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体柔柔冲洗被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子清洗机的清洗分类:  反应类型分类        等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应(离子轰击)和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面zui终被真空泵吸走;化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空泵吸走挥发性的物质。        以物理反应为主的等离子体清洗,也叫做溅射腐蚀(SPE)或离子铣(IM),其优点在于本身不发生化学反应,清洁表面不会留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化学纯净性,腐蚀作用各向异性;缺点就是对表面产生了很大的损害,会产生很大的热效应,对被清洗表面的各种不同物质选择性差,腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效,缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较,化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同,物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”,从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用,即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀,两种清洗可以互相促进,离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态,容易吸收反应剂,离子碰撞使被清洗物加热,使之更容易产生反应;其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性,又有较好的方向性。        典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体,等离子体的氩气不和表面发生反应,而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,从而去除表面的污染物。  激发频率分类  等离子态的密度和激发频率有如下关系:  nc=1.2425×108v2  其中nc为等离子态密度(cm-3),v为激发频率(Hz)。  常用的等离子体激发频率有三种:激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体,13.56MHz的等离子体为射频等离子体,2.45GHz的等离子体为微波等离子体。  不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右,射频等离子体的自偏压为250V左右,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏,而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响zui大,因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。等离子清洗机应用领域:      包装行业:专业针对UV OPP PP PET金银卡 磨光,覆膜纸盒或纸箱上胶前的表面处理,经等离子处理后,可增加糊盒的牢固性,摆脱开胶烦恼。并可减少胶水使用量,有效降低成本。  印刷及喷码行业:塑料 玻璃 金属 复合材料等表面丝印,移印前等离子预处理,可提高材料表面对油墨的吸附力,渗透力。IC卡 标签,日化用品容器。电线喷码前等离子预处理,提高油墨吸附力。  塑料行业:塑料与塑料,橡胶,金属,玻璃等粘结前预处理,可提高表面的粘结性能。手机电脑玩具等塑料外壳喷漆前预处理,提高油漆的附着力,防止掉漆。  日用品及家电行业:日用主家电产品在生产过程中的涂装,粘接等工艺,使用等离子预处理提高材料表面的加工性能,提高粘接和涂装的品质,别外等离子清洗作用使溶剂清洗不再需要,即环保又节省了大量的清洗干燥时间。  汽车行业: 1、EPDM胶条在喷涂润滑涂层或植绒胶水以前的预处理工艺,借助等离子技术,胶条的预处理过程变得更加稳定高效,而且没有磨损。 2、汽车车灯粘接,刹车片,雨刮,引擎控制器盖,汽车仪表,汽车保险杠等等都可使用等离子表面处理,清洁,活化部件的表面,增强表面的粘结力,吸附力。 3、汽车部件喷漆前的表面活化,使用等离子处理,水性涂装体系都可以做到无需底漆。 4、电子行业:电子元器件加工的等离子预处理,PCB的清洗,去静电,LED支架,晶圆,IC等的清洁或是粘结等作用。 5、其它行业:化纤 纺织,航天航空,卷材涂装等等。  电子行业:半导体材料光刻  胶清洗:光学材料镀膜,加硬前清洗。  LCD玻璃印刷,贴合,封装前清洗,LED点银胶,引线键合,封胶前清洗,可提升产品质量。  PCB电路板孔化,除渣,绑定处理,可提升镀铜结合力和焊接成功率。  橡胶塑料行业:提高材料粘接强度以及印刷油墨,涂层,镀层附着力。  纤维纺织行业:生产电池用无纺布隔膜,水处理用中空纤维及各种天然纤维,合成纤维经等离子处理可改善和提高其渗透性,亲水性,印染性等多种功能。精密仪器,机械及电器制造:继电器触点氧化层去除,精密零件表面油污,助焊剂等有机物清洗。电子点火器线圈骨架灌封环氧树脂前处理提高其粘接性及结合力。  生物医用材料:聚笨乙稀酶标板经等离子接枝处理,引入醛基,氨基,环氧基等活性官能团,可把酶牢牢地固定在载体上面,提高酶的固定;细胞培养皿,经等离子处理后,大大提高了贴壁培养细胞的能力。 生物传感器的电极碳膜经过等离子活化,提高了酶和抗体固定的稳定性,实现电极重复使用。 血液过滤器的内壁和滤芯都需要等离子体的抗血凝处理,以提高其过滤能力和使用寿命。CPC-B美国CIF等离子清洗机产品特点:v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠;v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确;v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定;v 弧形电极板设计,清洗更完全;v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈;v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换;v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单;v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程;v 无需任何耗材,使用成本低;v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;v 整机保修一年。CPC-B美国CIF等离子清洗机技术参数:

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美国HARRICK等离子清洗机PDC-32G-2

美国HARRICK等离子清洗机PDC-32G-2

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-32G-2
  • 产地:美国
  • 自2017年5月起,迈可诺技术有限公司是美国Harrick Plasma等离子清洗系统唯一合法的中国独家代理商,全权负责美国Harrick Plasma等离子清洗系统在中国地区的销售与售后服务,并且只为从正规途径购买的用户提供售后服务。 购买HARRICK等离子清洗机设备时,请认准MYCRO迈可诺公司

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美国harrick等离子清洗机PDC-002

美国harrick等离子清洗机PDC-002

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002
  • 产地:美国
  • 热烈祝贺迈可诺公司成为美国HARRICK等离子清洗机亚洲区唯一独家代理 迈可诺技术有限公司是美国Harrick Plasma等离子清洗系统唯一合法的中国独家代理商,全权负责美国Harrick Plasma等离子清洗系统在中国地区的销售与售后服务,并且只为从正规途径购买的用户提供售后服务。

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HARRICK等离子清洗机PDC-002-HP

HARRICK等离子清洗机PDC-002-HP

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002-HP
  • 产地:美国
  • Harrick Plasma是国际一流的等离子清洗器生产商,在业内已经有三十多年的经验。Harrick Plasma所生产的小型等离子清洗器结构紧凑、质量可靠、价格合理;广泛地被大中院校、科研机构、企业研发机构和实验室采用。

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Harrick等离子清洗机PDC-002

Harrick等离子清洗机PDC-002

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002
  • 产地:美国
  • Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵,工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 Harrick 等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走,这款等离子体表面处理仪的清洗程度达到分子级。Harrick等离子体表面处理仪除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:等离子体表面处理仪的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。 Harrick 等离子体表面处理仪对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。 Harrick 等离子体表面处理仪广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。 Harrick等离子体表面处理仪的应用范围:* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体表面处理仪的产品特征:* 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。* 功率为低、中、高三档可调。* 两种型号:基本型:PDC-32G-2清洗舱:长6.5英寸,直径3英寸;舱盖可拆卸。 整机尺寸:H216×W254×D200mm扩展型:PDC-002清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm扩展型:PDC-002-HP清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm我们还提供以下配件选项:PDC-FMG-2 PlasmaFlo气流混合器(230伏)PDC-VP-2 豪华版的真空泵230V (包含管子,管夹,进油转接头,中套环和变压管夹)PDC-VP-OIL 豪华版真空泵用油 PDC-VPE-2 基础型真空泵230V (包含管子和管夹)PDC-VPE-OIL 基础型真空泵用油 PDC-32T 石英样片(适用于PDC-32G-2 基础型等离子清洗机)PDC-00Q石英样片(适用于PDC-002扩展型等离子清洗机)PDC-32Q 石英舱体(适用于PDC-32G-2 基础型等离子清洗机) PDC-191-420可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-002扩展型等离子清洗机)PDC-191-105可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-32G-2扩展型等离子清洗机)PDC-191-111 可替换的前盖装置(适用于PDC-32G-2扩展型等离子清洗机)PDC-FLB 可替换的荧光灯泡 (适用于射频检测)注:我们的设备配有115V和230V两种电压类型,缺省为230V电压,如果客户需要115V电压,请订购时特别注明。等离子体表面处理仪的功能:1.对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 (如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。2.改变某些材料表面的性能。3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。4.清除金属材料表面的氧化层。5.对被清洗物进行消毒、杀菌。等离子体表面处理仪的优点:  1.完全彻底地清除表面有机污染物。2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。5.常温条件下清洗,被清洗物的温度变化微小。6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。

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美国PIE等离子清洗机

美国PIE等离子清洗机

  • 品牌: 美国PIE
  • 型号: Tergeo
  • 产地:美国
  • 一、Tergeo系列等离子清洗机应用等离子清洗机清除样品表面的污染物,去除光阻胶:产生表面活性功能组;清洗提高材料表面亲水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS;表面活化:渲染表面的亲水性或疏水性,键合和沉积前的表面预处理表面聚合:沉积带官能分子团的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面;表面改性:在材料表面产生官能分子团,高分子材料表面修饰;去除表面残留微生物,医疗器械的消毒和杀菌;二、Tergeo系列等离子清洗机的特点1、13.56MHz高频射频发生器;2、7英寸触摸屏控制界面,全自动操作;3、标配75W版本,可选150W版本;4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。三、技术参数1、控制系统1)操作界面:7英寸电阻触摸屏操作界面,支持多种工作方式。 2)程序控制:可编程,总共有20个程序,每个程序有3个清洁步骤。2、反应腔体1)腔体材质:圆柱形石英玻璃舱;2)腔体容积:2.6L; 3)腔体尺寸:内径:110毫米,深度:280毫米。 3、射频电源 1)射频频率:13.56MHz;2)射频功率:标配0~75W;从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调,可选0~150W;。4、等离子源1)等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2)外置电极设计,高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1)气路控制:标配一路MFC;可选配三路MFC; 2)质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量; 3)一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。

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美国Tergeo-Plus 等离子清洗机

美国Tergeo-Plus 等离子清洗机

  • 品牌: 美国PIE
  • 型号: Tergeo-Plus
  • 产地:美国
  • 一、Tergeo系列等离子清洗机应用等离子清洗机清除样品表面的污染物,去除光阻胶:产生表面活性功能组;清洗提高材料表面亲水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS;表面活化:渲染表面的亲水性或疏水性,键合和沉积前的表面预处理表面聚合:沉积带官能分子团的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面;表面改性:在材料表面产生官能分子团,高分子材料表面修饰;去除表面残留微生物,医疗器械的消毒和杀菌;二、Tergeo系列等离子清洗机的特点1、13.56MHz高频射频发生器;2、7英寸触摸屏控制界面,全自动操作;3、标配75W版本,可选150W版本;4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。三、技术参数1、控制系统1)操作界面:7英寸电阻触摸屏操作界面,支持多种工作方式。 2)程序控制:可编程,总共有20个程序,每个程序有3个清洁步骤。2、反应腔体1)腔体材质:圆柱形石英玻璃舱;2)腔体容积:5.6L; 3)腔体尺寸:内径:160毫米,深度:280毫米。 3、射频电源 1)射频频率:13.56MHz;2)射频功率:标配0~75W;从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调,可选0~150W;。4、等离子源1)等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2)外置电极设计,高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1)气路控制:标配一路MFC;可选配三路MFC; 2)质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量; 3)一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。

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美国Harrick等离子清洗机PDC-32G-2

美国Harrick等离子清洗机PDC-32G-2

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-32G-2
  • 产地:美国
  • Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵,工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 Harrick 等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走,这款等离子体表面处理仪的清洗程度达到分子级。Harrick等离子体表面处理仪除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:等离子体表面处理仪的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。 Harrick 等离子体表面处理仪对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。 Harrick 等离子体表面处理仪广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。 Harrick等离子体表面处理仪的应用范围: * 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体表面处理仪的产品特征:* 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。* 功率为低、中、高三档可调。* 两种型号:基本型:PDC-32G-2清洗舱:长6.5英寸,直径3英寸;舱盖可拆卸。 整机尺寸:H216×W254×D200mm扩展型:PDC-002清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm扩展型:PDC-002-HP清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm我们还提供以下配件选项:PDC-FMG-2 PlasmaFlo气流混合器(230伏)PDC-VP-2 豪华版的真空泵230V (包含管子,管夹,进油转接头,中套环和变压管夹)PDC-VP-OIL 豪华版真空泵用油 PDC-VPE-2 基础型真空泵230V (包含管子和管夹)PDC-VPE-OIL 基础型真空泵用油 PDC-32T 石英样片(适用于PDC-32G-2 基础型等离子清洗机)PDC-00Q石英样片(适用于PDC-002扩展型等离子清洗机)PDC-32Q 石英舱体(适用于PDC-32G-2 基础型等离子清洗机) PDC-191-420可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-002扩展型等离子清洗机)PDC-191-105可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-32G-2扩展型等离子清洗机)PDC-191-111 可替换的前盖装置(适用于PDC-32G-2扩展型等离子清洗机)PDC-FLB 可替换的荧光灯泡 (适用于射频检测)注:我们的设备配有115V和230V两种电压类型,缺省为230V电压,如果客户需要115V电压,请订购时特别注明。等离子体表面处理仪的功能:1.对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 (如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。2.改变某些材料表面的性能。3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。4.清除金属材料表面的氧化层。5.对被清洗物进行消毒、杀菌。等离子体表面处理仪的优点:  1.完全彻底地清除表面有机污染物。2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。5.常温条件下清洗,被清洗物的温度变化微小。6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。

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美国Harrick等离子清洗机PDC-002-HP

美国Harrick等离子清洗机PDC-002-HP

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002-HP
  • 产地:美国
  • Harrick等离子体清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:Harrick等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。Harrick等离子体清洗机对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。Harrick等离子体清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。Harrick等离子体清洗机的应用范围:* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体清洗机的产品特征:* 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。* 功率为低、中、高三档可调。基本型:PDC-32G-2清洗舱:长6.5英寸,直径3英寸;舱盖可拆卸。 整机尺寸:H216×W254×D200mm扩展型:PDC-002清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm扩展型:PDC-002-HP清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm等离子体清洗机除了PDC-32G-2 基础型和PDC-002 扩展型 两种常规机型的等离子体清洗机以外,我们还提供以下配件选项:PDC-FMG-2 PlasmaFlo气体混合器(230 V) PDC-VP-2 豪华版的真空泵230V (包含管子,管夹,进油转接头,中套环和变压管夹)PDC-VP-OIL 豪华版真空泵用油 PDC-VPE-2 基础型真空泵230V (包含管子和管夹) PDC-VPE-OIL 基础型真空泵用油 PDC-32T 石英样片(适用于PDC-32G-2 基础型等离子体清洗机)PDC-00Q石英样片(适用于PDC-002扩展型等离子体清洗机)PDC-32Q 石英舱体(适用于PDC-32G-2 基础型等离子体清洗机) PDC-191-420 可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-002扩展型等离子体清洗机)PDC-191-105可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-32G-2扩展型等离子体清洗机)PDC-191-111 可替换的前盖装置(适用于PDC-32G-2扩展型等离子体清洗机)PDC-FLB 可替换的荧光灯泡 (适用于射频检测)注:我们的设备配有115V和230V两种电压类型,缺省为230V电压,如果客户需要115V电压,请订购时特别注明。等离子体清洗机的功能:1.对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 (如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。2.改变某些材料表面的性能。3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。4.清除金属材料表面的氧化层。5.对被清洗物进行消毒、杀菌。等离子体清洗机的优点:  1.完全彻底地清除表面有机污染物。2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。5.常温条件下清洗,被清洗物的温度变化微小。6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。

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SEMI-KLEEN 等离子清洗仪

SEMI-KLEEN 等离子清洗仪

  • 品牌: 美国PIE
  • 型号: SEMI-KLEEN
  • 产地:美国
  • 美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜,深紫外光刻机,电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频(RF)等离子源组成,远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室,有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM),聚焦离子系统(FIB),离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。特有功能优越的等离子技术,可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快,更均匀,对电子枪和分子泵更安全;即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉;带气压计的自动气体流量控制;等离子探针实时测量等离子强度,用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方;自动射频匹配实时保证最优化射频耦合,即使用户调节清洗配方;专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel,台积电,三星等半导体用户的严格颗粒污染要求;带LCD触摸屏的直观操作界面;微电脑控制器带可修改的智能清洗计划,设好就自动清洗您的系统;支持清洗配方,一键开始,自动射频匹配,自动控制气体流量;微电脑控制器记录所有信息状态,便于系统维护。技术指标 等离子源真空接口: NW/KF40 法兰; 提供转接法兰;标配等离子强度传感器;等离子源最低点火起辉气压:<0.1毫托;等离子源最高工作气压: >1.0 托;漏气率: <0.005sccm;射频输出: 0~100瓦,连续可调节;具有射频自动匹配功能

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PIE样品杆清洁等离子清洗机

PIE样品杆清洁等离子清洗机

  • 品牌: 美国PIE
  • 型号: Tergeo EM
  • 产地:美国
  • Tergeo EM型SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪美国PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器,用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是:将半导体和核工程研究中开发的最新等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式(immersion和downstream)能够处理各种不同的样品,从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品,如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。特点:1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面,全自动操作4. 标配75W版本,可选150W版本5. 标配2路气体输入,可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入:通用(110~230V, 50/60Hz)除了Tergeo EM型SEM & TEM样品清洁专用等离子清洁仪,另有Tergeo Basic基本型等离子清洁仪和Tergeo Plus型大腔室等离子清洁仪三、技术参数1、控制系统1)操作界面:7英寸电阻触摸屏操作界面,支持多种工作方式。 2)程序控制:可编程,总共有20个程序,每个程序有3个清洁步骤2、反应腔体1)腔体材质:圆柱形石英玻璃舱。2)腔体尺寸:内径:110毫米,外径:120毫米,深度:280毫米,壁厚:5毫米。 3)前观测窗:前方开口,5毫米厚石英玻璃可视窗口,可观测内腔等离子状态,并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置,有效保护操作的安全性;3、射频电源 1)射频频率:13.56MHz 2)射频功率:标配0~75W;可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调,自动阻抗匹配。3)射频输出可以工作在脉冲方式,脉冲比可以从1/255调到255/255(连续输出)。 4、等离子源1)等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2)电阻耦合电离方式。 3)外置电极设计,高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1)气路控制:标配一路MFC;可选配三路MFC; 2)质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量; 3)一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。 4)自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。 5)高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。 6)6mm气体接口。6、真空系统1)KF25法兰接口用来连接真空泵。 2)真空要求:抽速:>1.7m3/h;3)最低气压:<=200mTorr.

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Plasma Preen等离子清洗机

Plasma Preen等离子清洗机

  • 品牌: 美国Plasma Preen
  • 型号: PLASMA-PREEN II #862
  • 产地:美国
  • PPC等离子清洗/去胶系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子去胶机融合了下面的特点,并在众多的应用领域中得到肯定。产品特色   负载循环控制,模拟功率控制处理机存储水冷底座减少污水排放安全保护设计操作简便 维护方便应用范围:混合电路板制造中基片的清洗打线工艺前清洗电子部件,提高其可靠性锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗清洗半导体元器件光刻胶去胶上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备镀膜前对光学器件清洗清洗石英、蓝宝石及其它材料适用工艺:打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫;去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物;清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件;    塑胶密封剂去除--失效模式分析型号PLASMA-PREEN II #862PLASMA-PREEN II #973反应舱尺寸(H*W*D)203mm x 152 mm x 50mm229 x 178 x 76 mm冷却面(H*W)203 mm x 152 mm229 mm x 178 mm反应舱方形舱体方形舱体反应舱材质派热克斯玻璃&铝材派热克斯玻璃&铝材水冷式水冷装置水冷装置负载比10%至连续性10%至连续性标准流量5cu-ft./Hr.@STP5cu-ft./Hr.@STP频率(GHz)2.45 GHz2.45 GHz功率(Watts)100至750之间调节100至750之间调节重量 (Kg)29.5kg38.5kg

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PlasmaEtch等离子清洗机PE-25

PlasmaEtch等离子清洗机PE-25

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-25等离子清洗机
  • 产地:美国
  •        等离子体清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:PE-25等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。设备型号:PE-251.处理腔体1.1腔内尺寸:圆柱形腔体,内径5英寸(127mm)x深度8英寸(200mm);1.2腔体材质:6061-T6 航空特种铝材;1.3腔体外配有观察视窗(View port) ,可监视工艺处理状况;1.4等离子体导入以平面多孔设计,以达等离子体均匀分布;1.5 腔体容积: 2.7升;2.电极装置2.1水平处理电极,宽度89x 深度178mm;3.射频电源3.1射频频率:50KHz;3.2射频功率:0-400W可调;4.真空泵浦4.1采用JB双头真空油泵,抽气速率:8 m3/hr;4.2可处理氧气,氩气,氮气,空气等气体;5.流量控制5.1真空范围: 1~2000mTorr;5.2一路旋转浮子流量计,流量范围:0-25 cc/min;5.3  PLC控制系统:键盘用户界面,数显控制。选配:1、150W,50KHz;2、125W,13.56 MHz;(自动匹配网络);3、300W,13.56 MHz;(自动匹配网络);4、Venus PC控制功能,可以通过MFC控制气体;

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PE-50等离子清洗机

PE-50等离子清洗机

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-50
  • 产地:美国
  •        等离子体清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:PE-50等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子体清洗机的应用范围:* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 设备型号:PE-501.处理腔体1.1腔内尺寸:长度140 x深度178 x高度89mm;1.2腔体材质:6061-T6 航空特种铝材;1.3腔体外配有观察视窗(View port) ,可监视工艺处理状况;1.4等离子体导入以平面多孔设计,以达等离子体均匀分布;1.5 腔体容积:2.7升;2.电极装置2.1水平处理电极,宽度114x 深度152mm;3.射频电源3.1射频频率:13.56MHz;3.2射频功率:0-125W 连续可调;3.3配有自动匹配网络,可自动调谐达到射频匹配最佳输出功率和最小反射功率,该射频发生器可同时显示前向与反射功率;4.真空泵浦4.1采用JB双头真空油泵,抽气速率:8 m3/hr;4.2可处理氧气,氩气,氮气,空气等气体;5.流量控制5.1真空范围: 1~2000mTorr;5.2二套旋转浮子流量计,流量范围:0-25 cc/min;5.3 PLC控制系统:键盘用户界面,数显控制。

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等离子清洗机PE-50XL

等离子清洗机PE-50XL

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-50XL
  • 产地:美国
  •        等离子体清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:PE-50XL等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。设备型号:PE-50XL1.处理腔体1.1腔内尺寸:宽度 190mm x 深度222mm x 高度89mm;1.2腔体材质:6061-T6 航空特种铝材;1.3腔体外配有观察视窗(View port) ,可监视工艺处理状况;1.4等离子体导入以平面多孔设计,以达等离子体均匀分布;1.5 腔体容积:6.29升;2.电极装置2.1水平处理电极,宽度178 x 深度203mm;3.射频电源3.1射频频率:13.56MHz;3.2射频功率:0-125W 连续可调;3.3配有自动匹配网络,可自动调谐达到射频匹配最佳输出功率和最小反射功率,该射频发生器可同时显示前向与反射功率;4.真空泵浦4.1采用JB双头真空油泵,抽气速率:8 m3/hr;4.2可处理氧气,氩气,氮气,空气等气体;5.流量控制5.1真空范围: 1~2000mTorr;5.2二套旋转浮子流量计,流量范围:0-25 cc/min;5.3  PLC控制系统:键盘用户界面,数显控制。选配:1、150W,50KHz;2、400W,50KHz;3、300W,13.56 MHz;(自动匹配网络);4、Venus PC控制功能,可以通过MFC控制气体;

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PE-75等离子体表面处理仪

PE-75等离子体表面处理仪

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-75
  • 产地:美国
  • 仪器简介:等离子体表面处理仪除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。PE-75等离子体清洗机作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性,对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。* 清洗晶体、天然晶体和宝石;* 清洗半导体元件、印刷线路板;* 清洗生物芯片、微流控芯片;* 清洗沉积凝胶的基片;* 高分子材料表面修饰;* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌;* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 设备型号:PE-751.处理腔体1.1腔内尺寸:圆柱形腔体,内径10.75英寸(273mm)x深度10英寸(254mm);1.2腔体材质:6061-T6 航空特种铝材;1.3腔体外配有观察视窗(View port) ,可监视工艺处理状况;1.4等离子体导入以平面多孔设计,以达等离子体均匀分布;1.5 腔体容积:13.8升;2.电极装置2.1水平处理电极,宽度229 x 深度254 mm;3.射频电源3.1射频频率:13.56MHz;3.2射频功率:0-125W 连续可调;3.3配有自动匹配网络,可自动调谐达到射频匹配最佳输出功率和最小反射功率,该射频发生器可同时显示前向与反射功率;4.真空泵浦4.1采用JB双头真空油泵,抽气速率:8 m3/hr;4.2可处理氧气,氩气,氮气,空气等气体;5.流量控制5.1真空范围: 1~2000mTorr;5.2二套旋转浮子流量计,流量范围:0-25 cc/min;5.3  PLC控制系统:键盘用户界面,数显控制。选配:1、150W,50KHz;2、400W,50KHz;3、300W,13.56 MHz;(自动匹配网络);4、Venus PC控制功能,可以通过MFC控制气体;

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PE-100 RIE等离子刻蚀机

PE-100 RIE等离子刻蚀机

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-100 RIE
  • 产地:美国
  • 仪器介绍      Plasma Cleaner为单一制程处理腔体,使用先进之平板式电浆技术,与整合型多重电浆源机构所设计的电浆制程机台,适用于各种干式清洁与表面处理制程,以及残留光阻去除等制程应用。在半导体与光电产业之干式电浆制程中提供高驾动率、低营运成本之特性。台式小型机,PLC人机自动控制,简单易用,适用于实验室及小批量工业生产中材料表面清洗、蚀刻、活化等工艺。提供三种功能配置:1. 常规的等离子清洗和等离子刻蚀2. 反应离子刻蚀(RIE)3. 可转换结构(包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺)可拆卸的托盘构造。等离子刻蚀机技术参数:设备型号:PE-100腔体尺寸:长方形腔体,长度305 x深度368 x高度305mm;腔体材质:T-6铝合金一体成型;腔体容积:27升;射频电源:13.56MHz;0~300W自动调节;工作压力范围:1-2000 mT;气体流量控制:0-50cc/min带精密针阀;皮拉尼真空计: 0-1Torr;

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反应离子刻蚀机PE-200

反应离子刻蚀机PE-200

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-200
  • 产地:美国
  • 仪器介绍      Plasma Cleaner为单一制程处理腔体,使用先进之平板式电浆技术,与整合型多重电浆源机构所设计的电浆制程机台,适用于各种干式清洁与表面处理制程,以及残留光阻去除等制程应用。在半导体与光电产业之干式电浆制程中提供高驾动率、低营运成本之特性。台式小型机,PLC人机自动控制,简单易用,适用于实验室及小批量工业生产中材料表面清洗、蚀刻、活化等工艺。提供三种功能配置:1. 常规的等离子清洗和等离子刻蚀2. 反应离子刻蚀(RIE)3. 可转换结构(包含可以进行各向同性和各向异性的等离子工艺)可拆卸的托盘构造。等离子刻蚀机技术参数:设备型号:PE-200腔体尺寸:长方形腔体,长度432 x深度432 x高度356mm;腔体材质:T-6铝合金一体成型;腔体容积:63.6升;射频电源:13.56MHz;0~300W自动调节;工作压力范围:1-2000 mT;气体流量控制:0-200cc/min带精密针阀;皮拉尼真空计: 0-1Torr;可选项1.静电防护2.过程温度控制3.  600W射频发生器 @ 13.56MHz, 带600W自动匹配网络4.  59CFM带氧气供应真空泵(3级)5. 信号灯塔6.  MKS自动节流真空控制器7.  2个质量流量控制器(最多3个)8.  RIE(反应离子蚀刻)配置

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等离子清洗机Plasma Wand

等离子清洗机Plasma Wand

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: Plasma Wand
  • 产地:美国
  •        PE公司成立于1980年,致力于提供电子行业用的等离子设备及相关服务。通过几十年的发展,公司发展成为提供等离子设备方面的专家,可为客户提供专业的产品和解决方案,先后众多知名企业提供等离子处理设备:美国宇航局NASA, 美国波音Boeing,著名的电子保安系统产品制造商美国霍尼韦尔Honeywell,美国摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer,世界军用飞机的领军企业美国洛克希德马丁Lockheed-Martin等等。       Plasma Wand是一款可以握在手中操作的等离子体发生设备,无需外部气体,只需接通电源即可工作运行。PlasmaWand是一款完美的小型设备,适用于研究所,大学的实验室,或者任何需要小型等离子设备的场合。      Plasma Wand手持压电冷等离子发生器,压电技术--基于压电变压器直接放电,同时在元件的输出端直接产生冷等离子,等离子通过电离空气或气体来形成。Plasma Wand非常适合大样品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化处理,是一体化等离子装置,虽然简单却可以提供多种功能的解决方案,同其他等离子系统一样,提供一致的和可重复的结果。 Plasma Wand喷嘴包括:1.标准喷嘴:用于清洗塑料、橡胶和绝缘材料;2.近距离喷嘴:用于清洗金属和导电材料;3.多组分气体喷嘴:使用氩气或氦气作为输入气体。标   准   配   置重量6盎司/170克发生器30w集成电源气体输入空气/氩气/氦气等离子体温度< 50℃工作距离5~10mm处理宽度5~20mm性能特点• 高效激发冷等离子体• PDD®压电技术直接放电,低输入电压、高输出电压• 等离子功率密度高• 产生温度<50°C冷等离子体•不需外部气体供应• 设计精巧,使用简单• 运行可靠• 最佳效率• 可变喷嘴• 免维护低压应用:表面活化:实验室技术、牙科技术、模型建造和精密工程、微观力学和光学、装备工艺和电子产品。减少细菌:微生物学、食品技术、医疗技术、微观流体技术,制药行业,生命科学,空间灭菌,气味中和与减少。自动加工、印刷和贴标签:喷墨打印、微编码、自动化过程的润湿工艺流程。等离子自身温度低于50℃,几乎适合处理任何温度敏感材料的表面。例如汽车内饰织物的表面处理,食品加工和医疗器械的消毒。甚至包括伤口的直接处理等。提高和增强活化性能:胶粘性 疏水性 亲水性 润湿性 吸湿性 阻隔性 阻燃性 低摩擦 防刮擦 防磨损 抗腐蚀 防雾性 防扩散 防脱落 防掉漆 防缩性 防皱性 防静电 防菌 防尘 表面张力 去除氧化物 杀菌消毒

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大气常压等离子清洗机Atmospheric plasma

大气常压等离子清洗机Atmospheric plasma

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: Atmospheric plasma
  • 产地:美国
  •       Atmospheric plasma大气常压等离子清洗机内置的等离子系统具有1000W的清洗功率,完美的内联输送机系统和工业生产设施。该设备产生的等离子通过喷枪的可处理宽度达到1英寸,处理距离可达到1.5英寸。大气等离子清洗机采用喷嘴式等离子发生器对焊接或者印刷样品进行表面活化。该设备可伸缩,且能与机器人及自动化生产线很好的兼容。与其他所有等离子系统一样,大气等离子体系统提供一致的和可重复的结果。        Atmospheric plasma大气常压等离子清洗机喷头的气体连线可长达10米,便于集成到大尺寸的系统。各种不同类型的喷头可可用于任何应用。      PE公司成立于1980年,致力于提供电子行业用的等离子设备及相关服务。通过几十年的发展,公司发展成为提供等离子设备方面的专家,可为客户提供专业的产品和解决方案,先后众多知名企业提供等离子处理设备:美国宇航局NASA, 美国波音Boeing,著名的电子保安系统产品制造商美国霍尼韦尔Honeywell,美国摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer,世界军用飞机的领军企业美国洛克希德马丁Lockheed-Martin等等。标 准 配 置工作距离10-25mm处理宽度15-25mm控制系统笔记本电脑,PLC,手动控制尺寸/重量48*18*43cm/18kg​

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气体等离子系统 IoN Wave 10

气体等离子系统 IoN Wave 10

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: IoN Wave 10
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。IoN Wave 10Gas Plasma System气体等离子系统实验室或中试规模的台式微波系统的理想选择,阻灰化,晶圆清洗和开封的电子设备。

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等离子清洗系统 PS 400, PS 400 H2

等离子清洗系统 PS 400, PS 400 H2

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: PS 400, PS 400 IL, PS 400 H2
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。PS 400微波等离子清洗系统400系列芯片载体清洗PS 400 IL微波等离子体系统的400系列芯片载体清洗PS 400 H2微波等离子体系统的400系列芯片载体与氢气发生器清洗

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等离子清洗系统 GIGA 690

等离子清洗系统 GIGA 690

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: GIGA 690
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 690微波等离子系统芯片载体清洗

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等离子清洗系统 GIGA 80 Plus

等离子清洗系统 GIGA 80 Plus

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: GIGA 80 Plus
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 80 Plus全自动微波等离子清洗机的个别基板。适用嵌入式解决方案或独立的工具产品信息: 80 Plus GIGA HS: PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革产量方面的业界新标准:高收率支持 100x300mm 框架在SEMICON Taiwan 2012展出(基希海姆慕尼黑, 2012年10月19日)-PVA TePla位于基希海姆/慕尼黑的等离子系统事业部在2012年台湾SEMICON公布了下一代的片式处理等离子系统 (支持100x300mm的框架-高速等离子系统, 在产量方面树立了业界的新标准。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利, 对比与其他框架和基板片式处理等离子系统, 该设备是世界上唯一一个单腔体支持片尺寸转换, 运输和处理并提升了3倍UPH的设备。<该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前, 塑封前, 倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。80 Plus支持射频(RF)和微波(MW)技术, 各根据客户的需求提供最佳的工艺解决方案。在半导体微芯片封装中, 引线键合前通过等离子提高焊盘清洁度是必不可少的。通过等离子清洗, 球剪切力和线拉力的改善是非常显著的。等离子清洗和活化作用可应用于提高塑封料的粘合, 消除因为分层引起的收率损失。在倒装片工艺中, 底部填充前微波等离子清洗已经成为提高收率必不可少的工艺。先进的倒装片产品在市场中越来越重要, 微波等离子在处理芯片底部超小空隙上是无与伦比的。

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3”等离子清洗机--PDC-36G

3”等离子清洗机--PDC-36G

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: PDC-36G
  • 产地:
  • PDC-36G等离子清洗机是一种紧凑型、低成本的等离子清洗机。使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染。在射频电源的作用下,去除速率最大每分钟10纳米。在单晶材料外延薄膜生长以前进行预处理,对生长具有显著的作用。技术参数主要特点结构紧凑、桌上型仪器;使用可调射频电源;可以设置功率为低、中、高级别;低成本、环境友好、操作安全。参数输入电压:110/220,50/60Hz,小于100W(请在订货时说明);输出频率:13.56MHz;等离子直流电源:低功率设定:直流680V,10mA,6.8W;中功率设定:直流700V,15mA,10.5W;高功率设定:直流720V,25mA,18W;等离子腔室:直径75mmx长165mm,耐热玻璃前盖可以拆卸。真空泵和阀的要求:a,大于每分钟160L b,极限压力:200mtorr或者0.27mbar c,可以选择数字真空表 d,针阀控制气体流量 e,采用三通阀门快速控制进气、密封等离子腔室、排气气体:多种气体可以用于等离子清洗,例如氮气、氩气、空气、混合气体,主要取决于处理何种材料。警示:不能使用可燃性气体。外形尺寸:200mmx250mmx210mm8、净重:(不含泵)8kg可选真空计(点击图片查看详细资料)可选本公司生产研发的电阻真空计此款真空计是以Pirani电阻规在不同真空环境下体现的热传导特性为原理而研发的一款低真空测量仪器,特别适应于从常压到0.1Pa非腐蚀性气体环境的真空度测量。等离子清洗及刻蚀的方法 质保期一年质保期,终身维护操作视频等离子清洗器

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等离子清洗机

等离子清洗机

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: 950
  • 产地:美国
  • 仪器简介:SolarusTM(型号950)高级等离子清洗系统 SOLARUS - 全新先进等离子体清洗系统,去除碳氢化合物对TEM和SEM样本载台或样品的污染。Solarus是新一代等离子系统,其改造的新概念和最新技术令它具有更佳的性能,操作简便和良好的清洗效果。与市面上其他任何等离子清洗体系统相比,Solarus能提供最有效的清洗效果。 SOLARUS具有明确的区别特点: 1. 专用化学气体H2/O2(专利申请)。 这一独特优势,化学清洗时能减少溅射损伤所有样品,甚至可以清洗多孔碳膜。与传统Ar/O2气体清洗相比,使用H2/O2气体清洗还可以进一步延长样品的冷冻状态保持时间。 2. 交互式触摸屏提供预先编程的气体配比,优化工艺参数,具有更好的一致性和可重复性。 3. 实时RF自动匹配和可变RF电源(10W-65W) 能确保在任何清洗条件下,提供最适宜的等离子体功率,损坏最小。 4. 质量流量控制器(MFC)提供准确的气体控制量,使等离子体清洗机性能长期稳定,具有H2, O2和 Ar三个独立的组分通道。 5. 通过前面两个插口多功能腔体能接受两个透射电镜样品杆,同时打开顶部的盖子能装入多种扫描样品。 6. 涡轮泵系统不停运行使整体循环速度提高几倍。 泵 - 50秒 VS竞争对手的3分钟;通风 - 5秒VS竞争对手的6分钟。 7. 多语言系统操作指令包括英语、德语、法语、中文、韩语、日语。 Solarus独特的设计提供更好的性能和更高的生产量: 1. 改进温和清洁,没有溅射; 2. 优异的重复性; 3. 清洁参数适应性更多,可适用于更多种类的材料; 4. 更快的清洗速率使得其有更高的清洗数量。 等离子体清洗机的优点: - 增强成像能力(低电压) - 化学微量分析时提高精度 - EDX和EBSD 有更长时间的读取和获取次数 STEM和EELS分析必须使用较小尺寸探针

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CIF CPC-A等离子清洗机

CIF CPC-A等离子清洗机

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CIF CPC-A
  • 产地:美国
  • 等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。产品特点● 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠; ● 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确; ● 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定; ● 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈; ● 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换; ● 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单; ● 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程; ● 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;技术参数● 舱体的尺寸2758X110(直径)mm(295X150(直径)) ● 舱体容积:2.6L(5.2L) ● 射频频率:40KHz ● 设定时间 0-99分59秒 ● 气体稳定时间:1分钟 ● 等离子激发方式:电容式 ● 整机重量:15kg(20kg) ● 射频功率:10-200W无极可调 等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学 生物学等不同领域,主要用于以下实验: ● 材料研究,表面改性达到亲水的效果; ● 材料研究,用于材料表面的改性,达到一个疏水的效果,俗称的荷叶效果; ● 材料老化的实验,主要以氧离子进行相关的工艺设计; ● 材料的键合,通过仪器处理,增加材料表面的亲和性,已达到快速键合的效果 ● 器械的消毒,消毒效果完美; ● 用于相关的镀膜实验。

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DIENER PLASMA ATTO 等离子清洗机

DIENER PLASMA ATTO 等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: ATTO
  • 产地:德国
  • 10.5 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型,配有 PC 和 PCCE 控制系统,主要用于以下领域:小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术等离子设备 Atto,配有手动控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统,用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻等离子设备 Atto,配有外部 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统,用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统等离子设备 Atto,配有内置式 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统,用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统系列Atto 手动控制Atto 外部PC控制Atto 集成PC控制控制系统手动型、通过模拟计时器测定工艺时间PC-控制系统 (Microsoft Windows XP)PC-控制系统 (Microsoft Windows CE)体积10.5L真空腔室玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm样品支架1个样品支架气源2 个由针型阀控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道高频电流发生器40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配真空泵5 m3/h外尺寸宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm电源电压AC220V

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Diener PICO 等离子清洗机

Diener PICO 等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: PICO
  • 产地:德国
  • Pico 等离子设备能够以不同的形式进行整合,例如以模块系统的形式。在下文中您可以大致了解能够与 Pico 等离子系统一同使用的最常见的选装件。Pico 等离子系统主要应用于以下领域:小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术规格,参数:系列Pico系列控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积4~15L真空腔室圆形不锈钢件,配有盖子(大约Φ 150 mm, 长 320 mm 或者长 600 mm)或者矩形不锈钢件,配有铰链的门(约宽 160 mm x 高 160 mm x 深 325 mm 或者 600 mm)配有盖子的圆形铝材,或者配有铰链的门(大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm)配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP),或者配有铰链的门(大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm)配有盖子的圆形硼硅玻璃 (UHP),或者配有铰链的门(大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm)电极单层或多层RIE样品支架(选项:水冷型)、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron(适用于腐蚀性气体版本)计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 200 W;0 -1000 W13.56 MHz: 功率 0 - 50 W;0 - 100 W;0 - 300 W2.45 GHz: 功率 0 - 300 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵KASHIYAMA电源台式设备为 230 V,立式设备为 400 V/3 相位其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装,包括培训。可应要求提供的其他选项。

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Diener ZEPTO Plasma 等离子清洗机

Diener ZEPTO Plasma 等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: ZEPTO
  • 产地:德国
  • 2.6 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ZEPTO 为手动型,配有 PC 和 PCCE 控制系统,主要用于以下领域:小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术系列Zepto控制系统手动型PCCE 控制系统 (Microsoft Windows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积1.7~2.6L真空腔室圆形石英玻璃 (UHP),配有盖子(大约Φ 105 mm, 长 200 mm 或者长 300 mm)圆形硼硅玻璃 (UHP),配有盖子(大约Φ105 mm, 长 200 mm 或者长 300 mm)电极单层或多层样品支架铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计Pirani计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 100 W13.56 MHz: 功率 0 - 50 W真空泵KASHIYAMA其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装,包括培训。可应要求提供的其他选项。

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Diener PlasmaBeam 等离子表面处理装置

Diener PlasmaBeam 等离子表面处理装置

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Diener PlasmaBeam
  • 产地:德国
  • Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机 PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果:PlasmaBeam清洗过的区域,喷水后没有残留水滴。更多应用请来电咨询:021-61552797底材:铝底材:塑料参数:型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反应气休/冷却气体无油空压机无油空压机无油空压机气体压力5-8bar5-8bar5-8bar气体流量2m3/h2m3/h4m3/h离子束手柄单只直径32mm长度270mm重量0.6kg电缆长度3m,Φ19mm(可订制)处理的最大宽度为12mm两只其它参数同前操作模式手动控制/远程控制MS-Windows控制无有无电源AC230V/6A/50~60Hz尺寸(mm)W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

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Diener FEMTO 微波等离子清洗机

Diener FEMTO 微波等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: FEMTO
  • 产地:德国
  • 德国Diener electronic成立于1993年,是世界低温等离子工业的领导者,是一家专门研发和制造低温低压等离子清洗机、等离子射频电源和大气(常压)等离子清洗机的高科技企业。 用途: Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器,以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有成本低廉、操作灵活的特点,主要适合于高科技生产单位的以下场合: 半导体开发、集成电路开发、真空电子行业、生命科学实验等等。 Diener等离子清洗/刻蚀机具有以下特点: 可以更灵活地操作,简便地改变处理气体的种类和处理程序;不会对操作人员的身体造成任何伤害;其成本对于等离子处理方法来说是微不足道的。 Femto A Femto C Femto D Femto B Femto E应用:表面清洁(e.g. before bonding, soldering or gluing)表面活化(e.g. before printing, varnishing or gluing)表面蚀刻(e.g. microstructuring of silicon or etching of PTFE)表面涂层(e.g. deposition of hydrophobic / hydrophilic layers)应用领域:REM, TEM考古汽车制造业橡胶制造业微机械制造传感器检测灭菌纺织业医疗器械制造业塑料制造业研发部门电子半导体行业规格、参数:系列Femto控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积1.9~6L真空腔室圆形不锈钢件,配有盖子(大约 Φ 100 mm, 长 278 mm 或者长 600 mm)矩形不锈钢件,配有铰链的门(约宽 103 x 深 285 x 高 103)配有盖子的圆形铝材,或者配有铰链的门(大约Φ 95 mm, 长 280 mm 或者长 600 mm)配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP),或者配有铰链的门(大约 Φ 95 mm, 长 280 mm 或者长 600 mm)配有盖子的硼硅玻璃 (UHP) 或者配有铰链的门(大约Φ 95 mm,长 280 mm 或者长 600 mm)电极单层或多层RIE样品支架(选项:水冷型)、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron(适用于腐蚀性气体版本)计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 100 W;0 - 1000 W13.56 MHz;功率 0 - 50 W;0 - 300 W12.45 GHz: 功率 0 - 100 W;0 - 300 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵KASHIYAMA电源供电电源: 台式设备为 230 V,立式设备为 400 V/3 相位

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