中国仪器网

欢迎您: 请登录 免费注册 仪器双拼网址:yiqi.com
官方微信
中国仪器网

离子溅射仪

赛默飞世尔科技
中国仪器网>产品中心>实验室常用设备>制样/消解设备> 离子溅射仪
离子溅射仪
离子溅射仪概述

离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。离子溅射镀膜要求试样干燥清洁。为了使试样表面清洁,必要时将试样与阴极换位,利用火花放电清洁表面。然后试样复原,再进行溅射镀膜。显然,开始正式溅射镀膜时,要换一个新的阴极。以免清洁试样表面时,沉积在阴极表面的杂质污物,再沉积在试样表面。由于溅射时,溅射室中所填充的气体和阴极溅射原子的作用不同,因而有中性溅射和反应溅射两种。现在离子溅射镀膜,多半是在反应气体存在下进行的,化合物沉积膜的稳定性和光学常数,依赖于气体的类型和阴极材料。离子溅射仪常用的反应气体为氧气,常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。

实验室常用设备

离子溅射仪解决方案

展开更多选项
对比
溅射设备 MVS

溅射设备 MVS

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: MVS-sputter
  • 产地:美国
  • 溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代最早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项专利,包括:多腔室PECVD沉积系统 主要产品 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品碳热丝化学气相沉积设备 掺氟纳米硅(微晶硅)材料P型宽带隙非晶硅材料 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜(与日本Asahi公司合作)公司生产制造的80多台设备已销往全世界23个国家和地区。公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括:材料器件非晶硅(a-Si:H)薄膜硅太阳电池纳米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶体管氮化硅(SiNx),氧化硅(SiOx),氮氧化硅(SiON)成像器件氧化锌(AZO),铟锡氧化物(ITO), 二氧化锡(SnO2)X光探测器MVSystems公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想,以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。

对比
驰奔GC系列小型离子溅射仪

驰奔GC系列小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京驰奔
  • 型号: GC系列
  • 产地:
  • 【简介】 驰奔-E系列扫描电镜,高真空模式或高分辨模式,要求样品必须导电良好,否则样品表面荷电造成图像缺陷和分辨率恶化。对于非导电样品,表面导电膜层制备,最常使用溅射金属导电膜层。常用贵金属如Au、Pt、Au/Pd合金,获的细小晶粒的精细膜层。 驰奔GC系列离子溅射仪,可满足各种材料的溅射镀膜、各种扫描电镜额溅射镀膜。为客户提供正确解决方案。【特点】 ● 多种靶材可供可选 ● 两种普通直流和磁控溅射模式可选 ● 大型玻璃工作室,溅射过程中真空稳定,溅射电流稳定,溅射膜层均匀。 ● 可以实现冷溅射,无样品热损伤。 ● 可选择旋转样品台、可倾斜旋转台。确保极度粗糙表面,球形颗粒获得良好镀膜。【技术指标】真空样品室: 直径:160mm,高:120mm样品台及工作距离:高配旋转样品台,简配固定样品台,高度手动调节溅射面积: Ф50mm,最大放置真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar离子电流表: 最大电流:50mA/100mA高压:-1200V/ -3000V定时器: 最长时间:1~3600S真空度手动控制:微型真空气阀,可连接φ3mm软管可通入气体: 多种、机械泵: 2L/S (120L/min)

对比
驰奔DESK-V小型离子溅射仪

驰奔DESK-V小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京驰奔
  • 型号: DESK-V
  • 产地:美国
  • DESK-V TSC型小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用专利的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。主要功能:1、离子溅射镀膜2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点:主要特点:1、大的溅射样品室,获得更稳定的真空环境,镀膜质量更高。2、对样品无热损伤的冷溅射。3、样品等离子刻蚀功能,一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。4、基于PLC的强大控制系统,全部触摸屏操作,可手动、半自动控制、全自动控制。5、具有高压真空互锁安全机制6、标准的操作软件,实时监控各部件状态,方便技术支持,节约用户费用。性能指标:标准配置样品室: φ150mm X 150mm(H) 耐热玻璃真空室靶: 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM(随机)φ50mmX0.1mm样品台: φ50mm 旋转样品台溅射电流: 0-100mA真空规: 皮拉尼溅射气体: 空气或氩气真空泵: 85L/Min 机械泵选配膜厚监控: 石英晶体膜厚监控器样品台: φ75mm 旋转样品台 φ100mm旋转样品台(选此台,膜厚监控器无法安装) 旋转倾斜样品台 (选择此台,无法实现样品刻蚀功能)蒸碳附件: 碳棒或碳丝绳

对比
驰奔DESK-V TSC高真空小型离子溅射仪

驰奔DESK-V TSC高真空小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京驰奔
  • 型号: Desk-V TSC
  • 产地:美国
  • DESK-V TSC型小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用专利的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。主要功能:1、精细、超精细离子溅射导电膜制备;专业级金属膜层试验。2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点:1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样,抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。2、镀膜质量更高,可获得精细晶粒膜层,膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。3、对样品无热损伤的冷溅射。4、样品等离子刻蚀功能,一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。5、基于PLC的强大控制系统,全部触摸屏操作,可手动、半自动控制、全自动控制。6、真空高压互锁安全机制7、标准的操作软件,实时监控各部件状态,方便技术支持,节约用户费用。性能指标:标准配置样品室: φ150mm X 150mm(H) 不锈钢真空室,带观察窗靶: 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM(随机)φ50mmX0.1mm样品台: φ50mm 旋转样品台溅射电流: 0-100mA真空规: 皮拉尼+热电偶溅射气体: 氩气真空泵: 85L/Min 机械泵 Pfeiffer 70 lps涡轮分子泵 15分钟抽到5E-6Pa 极限真空。获得超高真空环境,提高镀膜质量选配膜厚监控: 石英晶体膜厚监控器样品台: φ75mm 旋转样品台 φ100mm旋转样品台(选此台,膜厚监控器无法安装) 旋转倾斜样品台 (选择此台,无法实现样品刻蚀功能)蒸碳附件: 碳棒或碳丝绳

对比
小型热蒸发镀膜仪

小型热蒸发镀膜仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-80AF
  • 产地:
  • 配置参数如下:2 仪器尺寸 : 400mm×320mm×450mm(L×W×H)2 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 170mm×200mm(D×H)2 操作真空: 2×10-2mbar2 工作电压: 0-10V /AC可调2 蒸碳电流 0-80A2 真空泵: 2升两级机械旋转泵

对比
磁控溅射仪

磁控溅射仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-650MS
  • 产地:
  • 配置参数如下:2 仪器尺寸:600mm W x 450mm D x 750mm H2 工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mm Dia x 200mm H 2 真空系统: 涡轮分子泵,抽速为300L/s 前级机械泵:抽速为2L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 2 真空测量:采用复合真空计监测真空2 极限真空度: 优于5×10-5Pa2 工作真空度:溅射真空度手动调整2 工作气体:溅射工作气体:氩气2 工作电压:0-800V 2 溅射电流:0-1000mA2 靶材:ф60-80mm弱磁靶2 电源:230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培)选配项:气体质量流量计 冷水机根据用户要求进行功能改装

对比
微型高真空磁控溅射仪

微型高真空磁控溅射仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-600MS
  • 产地:
  • ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。配置参数如下:仪器尺寸:480mmWx320mmDx240H工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH真空系统:涡轮分子泵,抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真空测量:采用复合真空计检测真空极限真空度:优于5X10-4Pa工作真空度:5X10-1Pa(溅射真空度手动调节)溅射工作气体:氩气工作电压:0-800V溅射电流:0-500mA电源:230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培)靶材:D60-80mm多种弱磁靶选配项:气体质量流量计,冷水机,可根据用户要求进行功能改装

对比
ETD-900C型溅射蒸碳仪

ETD-900C型溅射蒸碳仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-900C
  • 产地:
  • ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点,可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。

对比
ETD-900 型离子溅射仪

ETD-900 型离子溅射仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-900
  • 产地:
  • ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。

对比
ETD-800型全自动离子溅射仪

ETD-800型全自动离子溅射仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-800
  • 产地:
  • ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备;操作简便,放入样品后可一键搞定;数字式计数器满足精准定时要求,特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜;外观时尚小巧,机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。

对比
ETD-2000/3000小型离子溅射仪

ETD-2000/3000小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-2000/3000
  • 产地:
  • 仪器简介:ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下: 1、靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.12mm 2、真空样品室: 直径:160mm,高:120mm 3、溅射面积: Ф50mm,最大放置 4、真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表: 最大电流:50mA(100mA) 6、定时器: 最长时间:900S 7、微型真空气阀: 可连接φ3mm软管 8、可通入气体: 多种 9、最高电压: -1600(-3000)DCV 10、机械泵: 2L/S主要特点:特点: 1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态; 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室 压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果; 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟 罩“崩边”现象; 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用; 5. 根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均 匀纯净。

对比
ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪

ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-2000Ⅲ
  • 产地:
  • 仪器简介:ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备,及非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下:- 靶(上部电极):直径:45mm,厚度:0.12mm - 真空样品室: 直径:160mm,高:120mm - 溅射面积: Ф45mm,三区域 - 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表: 最大电流:50mA - 定时器: 最长时间:900S - 微型真空气阀: 可连接φ3mm软管 - 可通入气体: 多种 - 最高电压: -1600(-3000)DCV - 机械泵: 2L/S主要特点:特点:1. 配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态; 2. 溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果; 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象; 4. 陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用; 5. 根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。

对比
ETD-2000C 溅射蒸碳仪

ETD-2000C 溅射蒸碳仪

  • 品牌: 北京博远
  • 型号: ETD-2000C
  • 产地:
  • 仪器简介:ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下:- 仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) - 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H) - 靶(上部电极): 50mm×0.1mm(D×H) - 样品台: 50mm (D) - 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar - 工作电压: 0-1600V (DC)可调 - 溅射电流: 0-50mA - 溅射定时: 1-9999S - 蒸碳电流 0-10A(AC) - 真空泵: 2升两级机械旋转泵(极限真空2×10-2mbar)主要特点:在 ETD-2000离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

对比
裕隆时代LJ-16小型离子溅射仪

裕隆时代LJ-16小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京裕隆
  • 型号: LJ-16
  • 产地:
  • 产品描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代公司精心设计制造,是专用于扫描电镜(SEM)的样品喷金镀膜系统,能够极为有效的提高电镜观测效果。产品特点: 操作简便,性能优越,质量稳定,功能丰富相比上一代产品,LJ-16小型离子溅射仪有大幅度的性能提升:◆换装新一代真空泵,大幅降低仪器噪音。◆标配样品室真空表和溅射电流表,实时显示和监控仪器状态。◆特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象。◆配置溅射电流控制器和微型真空气阀。结合自动控制电路,轻松控制真空室压强、电离电流,并可任意选择所需电离气体,以获得最佳镀膜效果。◆标配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸纯金靶,溅射范围更大,可同时溅射6个样品,靶材使用时间更长。◆预设参数,一键操作即可完成溅射功能。工作状态喷镀效果应用案例:喷金前后图像对比样品为水泥,由于导电性不好,可以看到,(上图)喷金前5000倍的图像已经略显模糊。在相同的实验条件下,样品用LJ-16小型离子溅射仪喷金后,图像轻松放大45000倍(下图),并可见非常清晰的水泥晶体结构。可见LJ-16离子溅射仪能够极为有效的提高扫描电镜图像质量,为您的科研工作提供极大帮助。技术参数名称规格名称规格玻璃处理室内径Ф 115mm x 高度130mm真空保护20PA配有微量充气阀调节工作真空试样台尺寸内径Ф 40mm, 可同时放六个样品杯工作媒介气体空气或氩气,配有氩气专用进气和微量充气调节金靶尺寸Ф58mm X 0.12mm 定时开关控制溅射时间,范围为10~110S真空系统直联旋片真空泵 2L/秒可用靶材金靶,铂靶,镍靶真空检测皮氏计产品尺寸400mm X 500mm X 400mm(带玻璃罩)工作电源220 VAC 50Hz客户服务裕隆时代拥有一支涉及众多领域高素质的应用支持团队,向客户提供完整的实验室解决方案和良好的售后服务。我们承诺24小时内对客户需求做出反应。专业勤奋的销售队伍,随时为您提供咨询服务。经验丰富的专家队伍,为您答疑解惑,拓展您的应用领域,提升客户应用水平。勤勉敬业的售后团队,向您提供专业及时的售后服务,解决您的后顾之忧。裕隆时代,您最好的选择!

对比
裕隆时代LJ-16T高真空镀膜机

裕隆时代LJ-16T高真空镀膜机

  • 品牌: 北京裕隆
  • 型号: LJ-16T
  • 产地:
  • LJ-16T高真空热蒸发镀膜仪(镀膜机)产品描述:LJ-16T高真空热蒸发镀膜仪(镀膜机),由裕隆时代公司精心设计制作,是专为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备。可以在高纯氩气保护下进行多种离子处理,也可真空蒸碳和真空蒸金属。用于样品的外貌观察,尤其对成份定量分析更为适宜。采用分子泵系统,特别适于对真空要求高,真空环境好的用户选用。应用领域:离子喷涂、离子溅射、离子清洗、真空蒸碳、真空蒸金属等工作。技术参数? 仪器尺寸:480mmWx320mmDx240mmH? 工作腔室:硼硅酸盐玻璃160mmDiax120mmH?真空系统:涡轮分子泵,抽速为70L/s 旋转机械泵:抽速为2L/s两级旋转机械泵,带防返油电磁阀及油污过滤器? 真空测量:采用复合真空计监测真空? 极限真空度:10-4mbar两级? 工作真空度:10-1mbar(溅射真空度手动调整)? 工作气体:溅射工作气体:氩气?溅射电流:0-20mA(磁控溅射靶0-100mA)? 微调真空气阀:可连接φ3mm软管? 电源:230伏/50Hz(包括泵最大电流为6安培)

对比
非接触式掩膜对准机

非接触式掩膜对准机

  • 品牌:
  • 型号: fp-aligner
  • 产地:德国
  • 这款非接触式掩膜对准机mask aligner 能够适合6英寸,8英寸,12英寸晶圆掩膜对准,是欧洲进口的高精度紫外曝光机. 非接触式掩膜对准机mask aligner全面满足科学研究,工艺级生产等多领域的应用。完全采用非接触式100%标定系统,对晶圆和掩膜没有伤害,大大提高间隙精度非接触式掩膜对准机mask aligner适合各种电子元器件,包括半导体,LED,LD,MEMS,传感器等。Alignment Scope Objectives separation 15 ~ 75mm Total magnification 100X Illuminator for observation Red LED (l=633 nm) X, Y Movement range of stage ±5 mm Adjustment ±5° Utility Power source for main body and mercury lamp AC 100V 50/60Hz 15A Vacuum source Below 21.3 Kpa (-80 Kpa from atmospheric pressure) Exposure Unit Lens Integrator lens Mercury lamp 250W ultra-high pressure vapor mercury lamp Effective exposure area Max 100 mm Intensity distribution ±5% or less Intensity of illumination 20 mW/cm2 (405 nm) Exposure time control Digital timer and rotary solenoid Mercury Lamp Lighting Unit AC 110V

对比
三靶射频磁控溅射镀膜仪

三靶射频磁控溅射镀膜仪

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: VTC-3RF
  • 产地:
  • VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W(包括真空泵)等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)可选配300W射频电源(自动匹配)注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间(点击图片查看详细资料)磁控溅射头三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)真空腔体真空腔体:256mmODx250mmIDx276mmH,采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm.采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体(如下图)真空度:<1.0×10-2Torr(采用双极旋片真空泵),<5×10-5torr(采涡旋分子泵)载样台载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热载样台尺寸:直径50mm(最大可放置2英寸的基片)旋转速度:0-20rpm样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃控温精度+/-10℃真空泵我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售薄膜测厚仪(可选) 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10?LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据质保和质量认证一年质保期,终生维护CE认证外形尺寸 使用注意事项这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内

对比
双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD

双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: VTC-600-2HD
  • 产地:
  • VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。技术参数结构(点击图片查看详细资料)输入电源220VAC50/60Hz,单相2000W(包括泵)溅射电源安装有两个溅射电源直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜射频(RF)电源:600W,可制作氧化物和金属膜同时可选配300W的射频电源磁控溅射头仪器中安装有2个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层,可通入冷却水对靶材降温其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材靶材尺寸要求:金属靶:直径为50mm,最大厚度1.5mm 陶瓷靶:直径为50mm,最大厚度6mm仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员联系真空腔体真空腔体:300mmDiax300mmh,采用不锈钢制作观察窗口:100mm腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易载样台载样台尺寸:140mm(最大可放置4"的基底)载样台可以旋转,其速度为:1-20rpm(可调)载样台最高可加热温度为500℃,控温精度为+/-1.0°C气体流量控制器仪器内部安装有2个质量流量计量程为:0-200sccm气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作真空泵系统配有一套分子泵系统(德国制作),采用一键式操作 薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10?LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸L1300mm×W660mm×H1200mm重量160kg质保期一年质保期,终生维护

对比
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF

300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: VTC-2RF
  • 产地:
  • VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W(包括真空泵)等离子源一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料)磁控溅射头一个2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸:直径为50mm,最大厚度6.35mm一个快速挡板安装在法兰上(手动操作,见图左3)溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)同时可选配1英寸溅射头真空腔体真空腔体:160mmODx150mmIDx250mmH,采用高纯石英制作密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体真空度:10-3Torr(采用双极旋片真空泵)10-5torr(采涡旋分子泵)载样台载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热载样台尺寸:直径50mm(最大可放置2英寸的基片)旋转速度:1-20rpm样品的最高加热温度为700℃,(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃控温精度+/-10℃真空泵我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监控薄膜的厚度,分辨率为0.10?LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸质保和质量认证一年质保期,终生维护CE认证使用注意事项这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95%N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内

对比
等离子薄膜溅射仪

等离子薄膜溅射仪

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: GSL1100X-SPC-12
  • 产地:
  • 产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12 产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析,尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵,分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定(含采购商ISO14000环境体系要求),不会造成环境污染; 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求,不会对接触产品的人员健康造成损害! 主要特点:抽速快,操作简便,真空度高,安全可靠 技术参数: ●试样处理室 (1)钟罩:内径250mm×高度340mm (2)玻璃处理室: 玻璃罩 A:内径88mm×高度140mm 玻璃罩 B:内径88mm×高度57mm (3)试样台:直径40mm(最大) (4)试样旋转:电动 (5)挡板:电动 (6)蒸发加热器:可同时安装两个加热器 ●真空系统 (1)抽气系统:由分子泵、机械泵组成的高真空机组 (2)真空检测:热偶计、冷规 (3)常用真空度:1.3×10-2 ~6×10-3Pa (4)操作:手动 ●处理电源 (1)高压电源:DC3千伏10mA连续可变,用表指示。 (2)低压电源:AC10V100A连续可变,电流用表指示。 (3)电源要求:AC220V 50HZ 10A ●气体要求 氩气纯度99.9%(对样品有特殊要求时可使用) ●冷却要求 本系统采用F100/110F―普通轴承风冷涡轮分子泵,其冷却方式为风扇强制风冷和通水冷却两种,当工作环境低于32℃时,可采用风冷冷却,当工作环境温度高于32℃时,则必须采用水冷。 重量:约150公斤 体积:L800mm×W560mm×H1340mm 可选配件:氧化铝坩埚,石英坩埚,真空泵等 具体信息请点击查看:www.kjmti.com

对比
意力博通溅射仪ETD-3000

意力博通溅射仪ETD-3000

  • 品牌: 北京意力博通
  • 型号: ETD-3000
  • 产地:
  • ETD-3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用;5.根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。配置参数如下:2主机规格:L360mm*W300mm*H380mm2靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.1mm2真空样品室:直径:160mm,高:120mm2溅射面积:Ф50mm2真空指示表:最高真空度:≤4X10-2mbar2离子电流表:最大电流:100mA2定时器:最长时间:3600S2微型真空气阀:可连接φ3mm软管2可通入气体:多种2最高电压:-3000DCV2机械泵:2L/S

对比
意力博通溅射仪ETD-2000C

意力博通溅射仪ETD-2000C

  • 品牌: 北京世友创业
  • 型号: ETD-2000C
  • 产地:
  • ETD-2000C溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。特点:在ETD-2000/3000离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。型号ETD-2000c仪器尺寸400mm×300mm×400mm(L×W×H)靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)真空样品室硼硅酸盐玻璃160mm×110mm(D×H)样品台50mm(D)操作真空4×10-1mbar至2×10-2mbar工作电压0-1600V(DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-9999S蒸碳电流0-10A(AC)真空泵2升机械旋转泵

对比
意力博通溅射仪ETD-2000

意力博通溅射仪ETD-2000

  • 品牌: 北京世友创业
  • 型号: ETD-2000
  • 产地:
  • ETD-2000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用;5.根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-2000主机规格L360mm*W300mm*H380mm靶(上部电极)金:直径:50mm,厚度:0.1mm真空样品室直径:160mm,高:120mm溅射面积Ф50mm真空指示表最高真空度:≤4X10-2mbar离子电流表最大电流:50mA(100mA)定时器最长时间:3600S微型真空气阀可连接φ3mm软管可通入气体多种最高电压-1600DCV机械泵2L/S

对比
意力博通溅射仪ETD-900C

意力博通溅射仪ETD-900C

  • 品牌: 北京世友创业
  • 型号: ETD-900C
  • 产地:
  • ETD-900C是一款具有溅射和蒸发两种功能的镀膜设备,由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖组成,由电缆将两个机箱中的控制部件连接起来,通过面板上的按键状态,经溅射机箱中的CPU判别操作项,以确定允许与否(具体操作见说明书)。设备使用简便,性能可靠,蒸发材料为碳绳,溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm×300mm×400mm(L×W×H)靶(上部电极)50mm×0.1mm(D×H)真空样品室硼硅酸盐玻璃160mm×110mm(D×H)样品台50mm(D)工作电压0-1200V(DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-3600S蒸碳电流0-50A(AC)真空泵2升机械旋转泵

对比
意力博通溅射仪ETD-900

意力博通溅射仪ETD-900

  • 品牌: 北京世友创业
  • 型号: ETD-900
  • 产地:
  • ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:1.配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;2.溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果;3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;4.根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-900主机规格L360mm*W300mm*H380mm靶(上部电极)金:直径:50mm,厚度:0.1mm真空样品室直径:160mm,高:120mm溅射面积Ф50mm真空指示表最高真空度:≤4X10-2mbar离子电流表最大电流:50mA(100mA)定时器最长时间:3600S微型真空气阀可连接φ3mm软管可通入气体多种最高电压-1600DCV机械泵2L/S

对比
意力博通溅射仪ETD-800

意力博通溅射仪ETD-800

  • 品牌: 北京世友创业
  • 型号: ETD-800
  • 产地:
  • ETD-800型全自动离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。主机规格L307mm*W260mm*H260mm电源规格220V/50HZ110V60HZ可选靶(上部电极)金:直径:50mm,厚度:0.1mm真空样品室直径:160mm,高:120mm定时器最长时间:3600S机械泵2L/S

对比
小型离子溅射仪

小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京中科科仪
  • 型号: SBC-12
  • 产地:
  • 仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标: 玻璃处理室:∮100毫米,高度130毫米 试样台尺寸:∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸:∮58毫米 真空系统:直联旋片真空泵2升/秒 真空检测:皮氏计 真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

对比
小型离子溅射仪器

小型离子溅射仪器

  • 品牌: 韩国Seron
  • 型号: HC-21
  • 产地:韩国
  • 仪器简介:HC-21离子溅射镀膜机是为普通扫描电镜设计的一款性能优越的经济型产品,可以溅射金,银,铜,铝等靶材。 技术参数:1.溅射系统 : 顶部电极发射系统 2. 工作真空度: ~10 -1 Pa (~10 -3 Torr) 3. 高压电源: DC 0 ~ 1.2 kV (连续可调) 4. 靶材: 57mm dia金靶盘 (标准) or碳 5. 真空监测: 皮拉尼真空计 6. 时间控制范围: 0.1sec, sec, min, hour 7. 离子流: Air / Ar / N 8.电源 : 220VAC, 单项 9. 外形尺寸(mm) : 300(H)X430(W)X320(D) ;玻璃样品室尺寸: 120(Dia)X110 (H) 10.重量 (kg) : 15主要特点:1.方便操作的自动真空系统 2. 高速镀膜减少敏感样品热损伤High speed coating for reduce heat damage to sensitive specimens. 3. 各种形貌的镀膜质量非常均匀All shapes, size coating uniformly 4. 集成化的设计.

对比
Cressington 离子溅射仪

Cressington 离子溅射仪

  • 品牌: 英国Cressington
  • 型号: Cressington 108
  • 产地:英国
  • 英国Cressington高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜SEM,透射电镜TEM,电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高导电率的电极薄膜制备,溢鑫科创Yi Xin Technology是Cressington在中国唯一官方授权代表,全权负责此产品在国内产品销售,售后服务,市场推广和授权等工作。 Cressington 108 SPUTTER COATERCressington 108/108Auto离子溅射仪是用于电镜样品前处理,制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统主要优势功能:自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪(选件)(分辨率优于0.1nm,-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd,靶材更换快速方便。技术规格:样品仓尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高强度不锈钢结构样品台:可放置12个标准SEM样品座,高度可在 60mm内调节溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,最大180A,配有过流保护溅射控制:微处理器控制,安全互锁,可调,最大电流40mA,程序化数字控制溅射头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩模拟计量:真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A厚度监测器: MTM-10高精度厚度监测器(选配)控制方式:自动气体换气和泄气功能,自动处理排序,带有“暂停”控制的数字定时器(0-300s),自动放气电源:200-240 VAC, 50/60Hz功率:1000VA (包括镀碳机和真空系统)氩气: 纯度优于99.9%,压力调节0.5-0.6 bar, 6mm连接软管备注:为保证销售渠道正规,配套方案先进及统一的市场管理和售后服务,英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理,中国官方授权总代为:溢鑫科创Yi Xin Technology,详细信息请参考英国原厂官方网站。

对比
超高分辨多靶材离子溅射仪

超高分辨多靶材离子溅射仪

  • 品牌: 英国Cressington
  • 型号: Cressington 208HR
  • 产地:英国
  • Cressington 208HR SPUTTER COATER 超高分辨溅射镀膜仪分子泵超高分辨镀膜,电镜放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒,非常适合于现阶段超高分辨场发射电镜或双束电镜,电子探针等,如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等, 日立电镜的SU80000, SU8200, S4800, 9000系列等, 日本电子 7600F, 7800F等, 蔡司的Merlin, Ultra, Gemini, Auriga系列等。分子泵超高分辨镀膜,放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒,适用于现阶段超高分辨场发射或双束电镜使用如FEI Nova,Megglen,Verios,Helios等; Hitachi SU8000,SU8200,S4800,9000等; JEOL 7600F 7800F等; ZEISS Merlin,Ultra,Auriga; 为了答谢广大中国电镜工作者对于英国Cressington产品信赖和支持,以及对于溢鑫科创工作的配合和支持,我司和英国原厂特举办回馈优惠活动:凡在2015年12月30日前购置超高分辨208HR镀膜系统,将赠送超高分辨膜厚监控仪MTM-20以及高性能旋转倾斜行星样品台。专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品,在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤,对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得208HR拥有广泛多种镀层靶材选择全自动化设计自动的换气与泄气功能,溅射电流和电压通过磁控头的传感线监控,蒸发源作为反馈回路中的一部分被控制保证了均匀一致的膜厚,和最佳的导电喷镀效果。超高精度膜厚监控设计使用可选MTM-20全自动高分辨膜厚监控仪可优化设计镀膜条件达到0.1nm膜厚可控效果多用途样品托设计独立的旋转,水平和倾斜 3轴移动设计优化了多样品以及不规则样品的均匀一直镀膜可变的样品室几何设计为了优化镀层结构样品室几何设计可用于调整喷镀速度从1.0纳米每秒到0.002纳米每秒广泛的操作气体压力独立的电压,电流以及压力回路控制系统允许可操作氩气压力从0.2-0.005mbar真空度紧凑型时尚桌面式设计节能,紧凑设计消除了对于楼层空间要求,水要求和专业电气连接要求镀膜不同多样样品超高分辨208HR镀膜系统现在针对喷镀不同电镜样品提供了最理想的解决方案。为了减小喷镀晶粒尺寸影响,208HR提供一套全系列的镀膜靶材材料和前所未有的膜厚镀层控制条件。为了更小优化充电效果,208HR的特殊样品台设计和大范围的操作压力提供了高精度的镀膜一致性和统一性。 高低样品室的配置也提供了更为方便的工作距离调整。可调式旋转倾斜水平样品台 超高分辨全自动膜厚监控仪 MTM-20208HR超高分辨镀膜仪技术规格:样品仓尺寸: 150mm 直径, 可调高度: 165mm - 250mm,高强度不锈钢结构溅射管头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩喷镀靶材:铬,铂/钯 标配, 金,钨,铜,铝,铱,银等选配,其他材料按客户需求提供溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,最大180A,配有过流保护,数字化可选电流(20,40,60 或80毫安)样品台:可放置12个标准EM样品座,0到90度倾斜可调的旋转水平样品座,石英晶体探头模拟计量:真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 100mA控制方式: 全自动喷镀控制,自动卸真空自动进气功能,使用可编程电压控制和计时数字计时 (0 300秒)以及暂停设计;全自动真空监测系统真空系统: 标配无油分子泵真空以及机械泵真空系统,泵抽速达到每秒80L,1.5分钟内抽到真空度到1 x 10-4 mbar, 极限真空优于5 x 10-6 mbar,附带减震台的桌面式真空泵设计,全金属耦合系统全自动超高分辨膜厚监控仪技术规格:MTM-20 基于微处理控制,4位显示系统,6MHZ晶体监探器,每秒5次实时监控 MTM-20膜厚监控范围: 0到999.9纳米分辨率: 优于0.1纳米密度范围:0.50到30.00gm/cm3安装环境要求:电源:200-240 VAC, 50/60Hz 功率:550VA氩气要求:99.99% 纯氩气,压力设定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口设备尺寸:宽600mm, 深600mm,高450mm, 重量40kG 备注:为保证销售渠道正规,配套方案先进及统一的市场管理和售后服务,英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理,中国官方授权总代为:溢鑫科创Yi Xin Technology,详细信息请参考英国原厂官方网址。

对比
离子溅射仪专用膜厚监控仪

离子溅射仪专用膜厚监控仪

  • 品牌: 英国Cressington
  • 型号: MTM-10 / 20
  • 产地:英国
  • The MTM High Resolution Thickness Monitor will fit any of the Cressington sputter and carbon coating systems as well as other thin film vacuum coating systems which allow for a vacuum feedthrough of 10 mm diameter a on a plate thickness of 9 mm. General Specifications: Microprocessor based, 4-digit display, push-button zero 6MHz crystal with lifetime check 5 times per second update rate Thickness Range: 0.0 - 999.9nm (pos/neg) Resolution: 0.1nm for carbon Density Range: 0.50 - 30.00g/cm Tooling Factor Range: 0.25 - 8.0 Processor Function: Four sets of values can be stored in memory under Density and four under Tooling for both the MTM-10 and MTM20 MTM-20 Controller: MTM-20 only: Programmable thickness termination function with termination interface cable on 108 auto, 208HR and DC-100 Termination facility range 0-999.9nm General Specifications: Microprocessor based, 4-digit display, push-button zero 6MHz crystal with lifetime check 5 times per second update rate Thickness Range: 0.0 - 999.9nm (pos/neg) Resolution: 0.1nm for carbon Density Range:0.50 - 30.00g/cm

对比
透射专用超高真空镀碳仪

透射专用超高真空镀碳仪

  • 品牌: 英国Cressington
  • 型号: Cressington 208C
  • 产地:英国
  • 英国Cressington是业内最知名的电镜和电子探针配套的高性能真空镀膜仪供应商,也是此类仪器配套方案的先驱者。自从上世纪六十年代开始,伴随着商业扫描电镜的普及,Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用,并获得科研工作者的一致好评。208C High Vacuum Turbo CARBON COATER for TEM,FESEM透射专用分子泵超高真空镀碳仪 主要优势:超高真空条件下使用超纯的碳棒获得超高质量镀膜处理, 特别适合TEM(Cs), STEM 和高端场发射电镜系统;反馈控制可以得到均匀一致镀厚,电压控制的碳棒具有多次蒸发能力;可选择操作方法优化镀膜过程,繁忙条件下可进行自动蒸发控制; 超高分辨膜厚监测仪保证超高质量可重复的镀膜效果; 无油分子涡轮真空系统快速地使150mm样品室达到要求的真空度; 无须水冷却系统, 无须加热或冷却, 制样周期短, 操作方便。208C样品室: 样品室的组件设计方式可适应多种附件使用; 独特的标准化高/低真空压力调节通过精密针阀完成; 高真空用于最高质量地镀膜,如用于TEM制样; 低真空用于TEM栅网辉光放电清洁及扫描电镜观察中形貌复杂样品的镀膜; 旋转-倾斜台特别为TEM样品处理设计, 可放置25 x75mm的玻片或同时对多个样品进行移植镀膜处理。 备注:为保证销售渠道正规,配套方案先进及统一的市场管理和售后服务,英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理,中国官方授权总代为:溢鑫科创Yi Xin Technology,详细信息请参考英国原厂官方网址:

对比
电镜专用高真空镀碳仪

电镜专用高真空镀碳仪

  • 品牌: 英国Cressington
  • 型号: Cresstington 108C
  • 产地:英国
  • 108C Carbon/A Auto CARBON COATER 电镜专用高真空镀碳仪 英国Cressington是业内最知名的电镜和电子探针配套的高性能真空镀膜仪供应商,也是此类仪器配套方案的先驱者。自从上世纪六十年代开始,伴随着商业扫描电镜的普及,Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用,并获得科研工作者的一致好评。Features优势说明:源自1973年英国先进的电镜配套镀膜工艺,60多年专业技术及全球5000名科研工作者的信赖; 独特的受反馈控制的碳棒蒸发系统可以在膜厚为20nm左右进行多次蒸发,无须切削或调整碳棒形状;108C中使用的高纯碳棒可以在高倍下得到高质量的镀膜效果,以便进行电镜成像和能谱仪X射线EDS或EBSD分析; 使用新型的蒸发装置:电流和电压通过磁控头传感监控,蒸发源作为反馈回路一部分被控制,该蒸发装置使常规碳棒具有优良的镀膜稳定性和重现性; 自动模式下,蒸发源按程序设定进行镀膜,手动模式下,独特的设计允许以脉冲或连续方式操作,并通过旋钮控制输出电压 Specification技术规格: 样品仓尺寸 120 mm x 120mm, 高强度不锈钢结构 样品台 可放置12个标准SEM样品座,高度可在 60mm内调节 溅镀材料 Bradley 型高纯度碳棒, 无需削减或调整溅镀优点 基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,最大180A,配有过流保护 模拟计量 真空Atm - 0.001mb,电流: 0 - 200A 控制方式 自动蒸镀控制,使用可编程电压控制和计时;可选择手动操作或自动控制数字计时 (0 30秒),数字电压设定 (0.1 to 6.0V) 膜厚监控仪MTM-10高精度膜厚监控仪(选配) 工作电压220V, 50/60HZ 适用配套FEI, Phenom, Zeiss, JEOL, Hitachi, Tescan等扫描电镜系统 备注:为保证销售渠道正规,配套方案先进及统一的市场管理和售后服务,英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理,中国官方授权总代为:溢鑫科创Yi Xin Technology

对比
离子溅射仪

离子溅射仪

  • 品牌: 英国Cressington
  • 型号: Cressington 108Auto
  • 产地:英国
  • 英国Cressington高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜SEM,透射电镜TEM和电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高质量的电极薄膜制备,溢鑫科创Yi Xin Technology是Cressington在中国唯一官方授权代表,全权负责此产品在国内产品销售,售后服务,市场推广和授权等工作。 Cressington 108 Auto/ Manual SPUTTER COATER Cressington 108/108Auto离子溅射仪是用于电镜样品前处理,制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统主要优势功能:自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备MTM-10高分辨膜厚监控仪(选件)(分辨率优于0.1nm,-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd,靶材更换快速方便。技术规格:样品仓尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高强度不锈钢结构样品台:可放置12个标准SEM样品座,高度可在 60mm内调节溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,最大180A,配有过流保护 溅射控制:微处理器控制,安全互锁,可调,最大电流40mA,程序化数字控制溅射头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩模拟计量:真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A厚度监测器: MTM-10高精度厚度监测器(选配)控制方式:自动气体换气和泄气功能,自动处理排序,带有“暂停”控制的数字定时器(0-300s),自动放气电源:200-240 VAC, 50/60Hz 功率:1000VA (包括镀碳机和真空系统)氩气: 纯度优于99.9%,压力调节0.5-0.6 bar, 6mm连接软管 备注:为保证销售渠道正规,配套方案先进及统一的市场管理和售后服务,英国cressington在各个国家都只设唯一授权代理,中国官方授权总代为:溢鑫科创Yi Xin Technology,详细信息请参考英国原厂官方网站信息。

对比
ZB-YQ1700小型离子溅射仪

ZB-YQ1700小型离子溅射仪

  • 品牌: 北京中兴百瑞
  • 型号: ZB-YQ1700
  • 产地:
  • 此款小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合SEM 制样必备的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空,在 20Pa 真空保护。同时,配有专用进气口和微量充气调节装置,以方便空气或氩气等工作气体充入。产品编号ZB-YQ1700产品名称小型离子溅射仪玻璃处理室Φ100mm、高度130mm试样台尺寸Φ40mm可同时放6个样品杯金靶尺寸Φ58mm真空系统直联旋片真空泵2L/S真空检测皮氏计真空保护20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作气体空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节

离子溅射仪招标信息

对比栏隐藏对比栏已满,您可以删除不需要的栏内商品再继续添加!
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
离子溅射仪 中国仪器网离子溅射仪产品导购专场为您提供离子溅射仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的离子溅射仪产品,同时离子溅射仪产品导购专场还为您提供精品优选离子溅射仪产品和离子溅射仪相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。