离子溅射仪离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。离子溅射镀膜要求试样干燥清洁。为了使试样表面清洁,必要时将试样与阴极换位,利用火花放电清洁表面。然后试样复原,再进行溅射镀膜。离子溅射仪常用的反应气体为氧气,常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。
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Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
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Hitachi Q150V Plus 高真空离子溅射仪
品牌:日立
型号: Q150V Plus
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溅射设备 MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS-sputter
- 产地:美国
溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体
离子溅射仪招标信息
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[公开招标]预算455.23万元 中国海洋大学采购小型超纯水仪
中国海洋大学公开招标小型超纯水仪、电流放大器,小型磁控离子溅射仪、旋转粘度计,光学接触角测试仪、高温烘箱,高精密分析天平、表面电位计,光固化3D打印机、超临界干燥仪,项目编号:HYHAQD2024-0164
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