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Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
品牌:英国Quorum
型号:Q150V Plus
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日立离子溅射仪 MC1000
品牌:日立
型号:MC1000
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磁控溅射靶源
品牌:美国PVD
型号:CKJS
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单靶等离子溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:GSL-1100X-SPC-16
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双靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-2HD-1000
- 产品品牌
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日立离子溅射仪 MC1000
- 品牌:日立
- 型号: MC1000
- 产地:日本
产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点:1. 操作方便且有记忆功能,chuangLCD触摸屏控制技术,可存储五种处理方案;2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀;3.
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小型离子溅射仪
- 品牌:北京中科科仪
- 型号: SBC-12
- 产地:海淀区
仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标: 玻璃处理室:∮100毫米,高度130毫米 试样台尺寸:∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸:∮58毫米 真空系统:直联旋片真空泵1升/秒 真空检测:皮氏计 真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒
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ETD-2000C离子溅射蒸发仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000C
- 产地:海淀区
ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。
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日立离子溅射仪 MC1000
- 品牌:日立
- 型号: MC1000
- 产地:日本
产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点:1. 操作方便且有记忆功能,chuangLCD触摸屏控制技术,可存储五种处理方案;2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀;3.
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三靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-3HD-1000
- 产地:沈阳
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想
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单靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-16-1HD
- 产地:沈阳
VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。单靶磁控溅射仪配备有一个靶枪,可选择强磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜,强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、一个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性
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掩膜版
- 品牌:沈阳科晶
- 型号:
- 产地:沈阳
适用于镀膜设备的配套使用不锈钢材质,需要根据客户的实验要求加工定制。
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磁控溅射
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-CKJS-450-B1
- 产地:沈阳
高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。1、真空度高。 2、可制备多种薄膜,金属、半导体、绝缘体等,应用广泛。 3、体积小,操作简便。 4、清理安装便捷。 5、控制可选一体化触摸屏控制 产品名称 GSL-CKJS-450-B1磁控溅射 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环
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磁控溅射
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-CKJS-560-B2
- 产地:沈阳
高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。1、真空度高。 2、可制备多种薄膜,金属、半导体、绝缘体等,应用广泛。 3、体积小,操作简便。 4、清理安装便捷。 5、控制可选一体化触摸屏控制 产品名称 GSL-CKJS-450-B1磁控溅射 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环
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薄膜电池制备系统
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VGB-600-3HD
- 产地:沈阳
VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作,用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该系统配置三个靶枪,一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头,用于各类靶材的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究薄膜电池、固态电解质及OLED等,与普通磁控溅射相比可以做Li靶材及锂基材料靶材的镀膜实验,是新能源
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双靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-2HD-1000
- 产地:沈阳
VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想
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单靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-1HD
- 产地:沈阳
VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD双靶磁控溅射仪配备有一个靶枪,可选择强磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜,强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。1、可选一个靶枪,配套射频电源用于非导电靶材的溅射
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三靶磁控溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-600-3HD
- 产地:沈阳
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。1、配置三个靶枪,一个配套射频电源用
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单靶等离子溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16
- 产地:沈阳
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300Å,特别适用于SEM样品表面的镀膜。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态; 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;陶瓷密封高压头比通常采用橡胶密封的更经久耐用。GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪体积小,操作
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等离子三靶溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: GSL-1100X-SPC-16-3
- 产地:沈阳
GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理(直流二极溅射镀膜是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理 气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。)设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备。GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。该设备
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3靶等离子溅射仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: VTC-16-3HD
- 产地:沈阳
VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片极限尺寸为2″,放置样品的直径为Ø50mm,加热温度达500℃。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材,不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台,能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜,适用于实验室制备复膜的样品。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪采用PLC控制面板对设备进行控制,操作方便直观。该机设备小巧,占用实验室空间少,操作简单,应用广泛。因此被广泛应用于各大高
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小型离子溅射仪
- 品牌:北京和同创业
- 型号: JS-1600
- 产地:
仪器简介: 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%2、真空室:直径:160mm,高:110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm4.工作真空: 2×10-110-1 mbar5.离子电流表:最大电流:50mA6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压:-1600DVC8.机械泵:2升/每
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磁控溅射仪JS-1600M
- 品牌:北京和同创业
- 型号: JS-1600M
- 产地:
一、产品应用:JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标:1.本系统装配了水冷却磁控靶,靶面直径为50mm2.主机规格:L360mm*W300mm*H380mm3.靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.1mm4.真空样品室: 直径:160mm,高:120mm5.溅射面积: Ф50mm 6.真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar7.离子
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小型离子溅射仪
- 品牌:北京中科科仪
- 型号: SBC-12
- 产地:海淀区
仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标: 玻璃处理室:∮100毫米,高度130毫米 试样台尺寸:∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸:∮58毫米 真空系统:直联旋片真空泵1升/秒 真空检测:皮氏计 真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒
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裕隆时代LJ-16小型离子溅射仪
- 品牌:北京裕隆
- 型号: LJ-16
- 产地:海淀区
产品描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代公司精心设计制造,是专用于扫描电镜(SEM)的样品喷金镀膜系统,能够极为有效的提高电镜观测效果。产品特点: 操作简便,性能优越,质量稳定,功能丰富相比上一代产品,LJ-16小型离子溅射仪有大幅度的性能提升:◆换装新一代真空泵,大幅降低仪器噪音和废气污染◆配置高质量真空系统和微调阀,结合自动控制电路,预置真空和电流,无需反复调节。可自选所需电离气体(空气或氩气),以获得理想的镀膜效果。◆棱角成型工艺制成高强度玻璃室,防止轻易磕碰损坏和“崩边”。◆标配Φ58mm x
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ETD-2000C 溅射蒸碳仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000C
- 产地:
仪器简介:ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下:- 仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H) - 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H) - 靶(上部电极): 50mm×0.1mm(D×H) - 样品台: 50mm (D) - 操作真空: 4×10-1mba
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000Ⅲ
- 产地:
仪器简介:ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备,及非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下:- 靶(上部电极):直径:45mm,厚度:0.12mm - 真空样品室: 直径:160mm,高:120mm - 溅射面积: Ф45mm,三区域 - 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表:
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ETD-2000/3000小型离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000/3000
- 产地:
仪器简介:ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下: 1、靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.12mm 2、真空样品室: 直径:160mm,高:120mm 3、溅射面积: Ф50mm,最大放置 4、真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表: 最大电流:50mA(100mA) 6、定时器: 最
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ETD-800型全自动离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-800
- 产地:
ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备;操作简便,放入样品后可一键搞定;数字式计数器满足jing准定时要求,特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜;外观时尚小巧,机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。
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ETD-900 型离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-900
- 产地:
ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。
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ETD-900C型溅射蒸碳仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-900C
- 产地:
ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点,可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。
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微型高真空磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-600MS
- 产地:
ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。配置参数如下:仪器尺寸:480mmWx320mmDx240H工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH真空系统:涡轮分子泵,抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真空测量:采用复合真空计检测真空极限真空度:优于5X10-4Pa工作真空度:5X10-1Pa(溅射真空度手动调节)溅射工作气体:氩气工作电压:0-800V溅射电流:0-500mA电源:230V/
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ETD-2000C离子溅射蒸发仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000C
- 产地:海淀区
ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。
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ETD-650MS 高真空磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-650MS
- 产地:海淀区
ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(强/弱磁靶)、光纤旋转台(定制)、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统、膜厚监测系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 真空系统:涡轮分子泵,抽速为300L/s 前级机械泵:抽速为4L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量:采用复合真空计监测真空
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ETD-3000 小型离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-3000
- 产地:海淀区
ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;高压输出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵
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SD-900M 磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: SD-900M
- 产地:海淀区
SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配有高位定性的飞跃真空泵
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SD-900 离子溅射仪喷金仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: SD-900
- 产地:海淀区
SD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,离子溅射仪,喷金仪旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵
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ETD-800 全自动小型离子溅射仪 博远微纳
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-800
- 产地:海淀区
ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致,机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备;操作简便,放入样品后可一键搞定;数字式计数器满足极ng准定时要求,特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜;膜厚均匀稳定;
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ETD-900C 溅射蒸发仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-900C
- 产地:海淀区
ETD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点,可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵
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SD-800C 热蒸发镀膜仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-800C
- 产地:海淀区
SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。
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300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
- 品牌:合肥科晶
- 型号: VTC-2RF
- 产地:
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W(包括真空泵)等离子源一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料)磁控溅射头一个2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体
- 离子溅射仪
- 仪器网导购专场为您提供离子溅射仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选离子溅射仪的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。