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Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
品牌:英国Quorum
型号:Q150V Plus
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Q150R ES PLUS 离子溅射/碳蒸发一体化镀膜仪
品牌:英国Quorum
型号:Q150R ES PLUS
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超高真空磁控溅射系统
品牌:美国PVD
型号:COS 440
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双靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-2HD-1000
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三靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-3HD-1000
- 产品品牌
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日立离子溅射仪 MC1000
- 品牌:日立
- 型号: MC1000
- 产地:日本
产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点:1. 操作方便且有记忆功能,chuangLCD触摸屏控制技术,可存储五种处理方案;2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀;3.
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小型离子溅射仪
- 品牌:北京中科科仪
- 型号: SBC-12
- 产地:海淀区
仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标: 玻璃处理室:∮100毫米,高度130毫米 试样台尺寸:∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸:∮58毫米 真空系统:直联旋片真空泵1升/秒 真空检测:皮氏计 真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒
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ETD-2000C离子溅射蒸发仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000C
- 产地:海淀区
ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。
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日立离子溅射仪 MC1000
- 品牌:日立
- 型号: MC1000
- 产地:日本
产品简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的精细高端需求而设计,适合微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点:1. 操作方便且有记忆功能,chuangLCD触摸屏控制技术,可存储五种处理方案;2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀;3.
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Q150R ES PLUS 离子溅射/碳蒸发一体化镀膜仪
- 品牌:英国Quorum
- 型号: Q150R ES PLUS
- 产地:英国
Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头,集两种功能于一体。溅射插入头装有磁控系统,可使溅射处理期间产生的高能电子偏转,从而远离样品。这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响,且确保溅射成膜中的精细颗粒结构;碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源,蒸发电流可控,确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选,用于需要减慢速度但可控性更好的蒸发过程。
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Q150T ES PLUS 高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪
- 品牌:英国Quorum
- 型号: Q150T ES PLUS
- 产地:英国
Q150T ES PLUS集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式。溅射插入头装有磁控系统,可使溅射处理期间产生的高能电子偏转,从而远离样品,这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响,且确保溅射成膜中的精细颗粒结构;碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。
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小型离子溅射仪
- 品牌:北京和同创业
- 型号: JS-1600
- 产地:
仪器简介: 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%2、真空室:直径:160mm,高:110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm4.工作真空: 2×10-110-1 mbar5.离子电流表:最大电流:50mA6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压:-1600DVC8.机械泵:2升/每
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磁控溅射仪JS-1600M
- 品牌:北京和同创业
- 型号: JS-1600M
- 产地:
一、产品应用:JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标:1.本系统装配了水冷却磁控靶,靶面直径为50mm2.主机规格:L360mm*W300mm*H380mm3.靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.1mm4.真空样品室: 直径:160mm,高:120mm5.溅射面积: Ф50mm 6.真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar7.离子
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小型离子溅射仪
- 品牌:北京中科科仪
- 型号: SBC-12
- 产地:海淀区
仪器简介:本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标: 玻璃处理室:∮100毫米,高度130毫米 试样台尺寸:∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸:∮58毫米 真空系统:直联旋片真空泵1升/秒 真空检测:皮氏计 真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空 工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒
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裕隆时代LJ-16小型离子溅射仪
- 品牌:北京裕隆
- 型号: LJ-16
- 产地:海淀区
产品描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代公司精心设计制造,是专用于扫描电镜(SEM)的样品喷金镀膜系统,能够极为有效的提高电镜观测效果。产品特点: 操作简便,性能优越,质量稳定,功能丰富相比上一代产品,LJ-16小型离子溅射仪有大幅度的性能提升:◆换装新一代真空泵,大幅降低仪器噪音和废气污染◆配置高质量真空系统和微调阀,结合自动控制电路,预置真空和电流,无需反复调节。可自选所需电离气体(空气或氩气),以获得理想的镀膜效果。◆棱角成型工艺制成高强度玻璃室,防止轻易磕碰损坏和“崩边”。◆标配Φ58mm x
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ETD-2000Ⅲ 离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000Ⅲ
- 产地:
仪器简介:ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真空室内设计安装了三个靶。旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备,及非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下:- 靶(上部电极):直径:45mm,厚度:0.12mm - 真空样品室: 直径:160mm,高:120mm - 溅射面积: Ф45mm,三区域 - 真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表:
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ETD-2000/3000小型离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000/3000
- 产地:
仪器简介:ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。技术参数:配置参数如下: 1、靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.12mm 2、真空样品室: 直径:160mm,高:120mm 3、溅射面积: Ф50mm,最大放置 4、真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表: 最大电流:50mA(100mA) 6、定时器: 最
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ETD-800型全自动离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-800
- 产地:
ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备;操作简便,放入样品后可一键搞定;数字式计数器满足jing准定时要求,特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜;外观时尚小巧,机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。
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ETD-900 型离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-900
- 产地:
ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。
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ETD-900C型溅射蒸碳仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-900C
- 产地:
ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点,可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。
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微型高真空磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-600MS
- 产地:
ETD-600MS微型磁控溅射仪是我公司研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试需求。配置参数如下:仪器尺寸:480mmWx320mmDx240H工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mmDx200mmH真空系统:涡轮分子泵,抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真空测量:采用复合真空计检测真空极限真空度:优于5X10-4Pa工作真空度:5X10-1Pa(溅射真空度手动调节)溅射工作气体:氩气工作电压:0-800V溅射电流:0-500mA电源:230V/
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ETD-2000C离子溅射蒸发仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-2000C
- 产地:海淀区
ETD-2000C既有溅射功能,同时也具备热蒸发功能,一机多用,转换方便,经济实惠。
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ETD-650MS 高真空磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-650MS
- 产地:海淀区
ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(强/弱磁靶)、光纤旋转台(定制)、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统、膜厚监测系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 真空系统:涡轮分子泵,抽速为300L/s 前级机械泵:抽速为4L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 真空测量:采用复合真空计监测真空
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ETD-3000 小型离子溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-3000
- 产地:海淀区
ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;高压输出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵
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SD-900M 磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: SD-900M
- 产地:海淀区
SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配有高位定性的飞跃真空泵
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SD-900 离子溅射仪喷金仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: SD-900
- 产地:海淀区
SD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,离子溅射仪,喷金仪旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵
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ETD-800 全自动小型离子溅射仪 博远微纳
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-800
- 产地:海淀区
ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致,机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备;操作简便,放入样品后可一键搞定;数字式计数器满足极ng准定时要求,特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜;膜厚均匀稳定;
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ETD-900C 溅射蒸发仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-900C
- 产地:海淀区
ETD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点,可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。 配有高位定性的飞跃真空泵
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SD-800C 热蒸发镀膜仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-800C
- 产地:海淀区
SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。
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离子溅射仪EMS150 R
- 品牌:美国EMS
- 型号: EMS150R
- 产地:美国
EMS150R 镀膜仪新一代镀膜仪-EMS150R 型镀膜仪(真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪)采用zui*技术 研制而成,彩色触摸液晶屏,快速的参数输入,数种碳丝匹配,友好的用户界面,带给你不一般的操作感受! 提供3个版本的仪器:l EMS150R S-喷金仪/离子溅射仪(适用于真空喷镀非氧化型金属,如金,铂,钯等)l EMS150R E-喷碳仪/碳蒸镀仪(适用于真空喷镀碳膜,特别适用于SEM,用碳丝或碳绳)l EMS150R ES-真空镀膜仪(离子溅射仪和碳蒸镀
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离子溅射仪EMS150T
- 品牌:美国EMS
- 型号: EMS150T
- 产地:美国
EMS150T 镀膜仪EMS150T镀膜仪的机壳是整体成型的,结构坚固耐用,配有气冷的70L/S的涡轮分子泵,自动进气控制保证了溅射期间**的真空水平,真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能,可在设备不工作时维持腔室的真空度,从而保证高真空的性能。 EMS150T镀膜仪系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、ding级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让用户真正领略至臻wan美的镀膜品质!
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双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD
- 品牌:合肥科晶
- 型号: VTC-600-2HD
- 产地:
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。技术参数结构(点击图片查看详细资料)输入电源220VAC50/60Hz,单相2000W(包括泵)溅射电源安装有两个溅射电源
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三靶射频磁控溅射镀膜仪
- 品牌:合肥科晶
- 型号: VTC-3RF
- 产地:合肥
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC50/60Hz,单相800W(包括真空泵)等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)可选配300W射频电源(自动匹配)注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离
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非接触式掩膜对准机
- 品牌:上海孚光精仪
- 型号: fp-aligner
- 产地:德国
这款非接触式掩膜对准机mask aligner 能够适合6英寸,8英寸,12英寸晶圆掩膜对准,是欧洲进口的高精度紫外曝光机. 非接触式掩膜对准机mask aligner全面满足科学研究,工艺级生产等多领域的应用。完全采用非接触式100%标定系统,对晶圆和掩膜没有伤害,大大提高间隙精度非接触式掩膜对准机mask aligner适合各种电子元器件,包括半导体,LED,LD,MEMS,传感器等。Alignment Scope Objectives separation
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磁控溅射仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-650MS
- 产地:
配置参数如下:2 仪器尺寸:600mm W x 450mm D x 750mm H2 工作腔室:硼硅酸盐玻璃180mm Dia x 200mm H 2 真空系统: 涡轮分子泵,抽速为300L/s 前级机械泵:抽速为2L/s,带防返油电磁阀及油污过滤器 2 真空测量:采用复合真空计监测真空2 极限真空度: 优于5×10-5Pa2 工作真空度:溅射真空度手动调整2 工作气体:溅射工作气体:氩气2 工作电压:0-800V 2 溅射电流:0-1000mA2 靶材:ф60-80mm弱磁靶2 电源:230V/50Hz
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小型热蒸发镀膜仪
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-80AF
- 产地:
配置参数如下:2 仪器尺寸 : 400mm×320mm×450mm(L×W×H)2 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 170mm×200mm(D×H)2 操作真空: 2×10-2mbar2 工作电压: 0-10V /AC可调2 蒸碳电流 0-80A2 真空泵: 2升两级机械旋转泵
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驰奔DESK-V TSC高真空小型离子溅射仪
- 品牌:北京驰奔
- 型号: Desk-V TSC
- 产地:美国
DESK-V TSC型小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用ZL的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。主要功能:1、精细、超精细离子溅射导电膜制备;专业级金属膜层试验。2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点:1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样,抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。2、镀膜质量更高,可获得精细晶粒膜层,膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。
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驰奔DESK-V小型离子溅射仪
- 品牌:北京驰奔
- 型号: DESK-V
- 产地:美国
DESK-V TSC型小型离子溅射仪,采用磁控溅射方式,广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用ZL的阳极保护栅网,实现镀膜过程中样品表面保持常温状态,没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能,可选配蒸碳附件。主要功能:1、离子溅射镀膜2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点:主要特点:1、大的溅射样品室,获得更稳定的真空环境,镀膜质量更高。2、对样品无热损伤的冷溅射。3、样品等离子刻蚀功能,一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。4、基于PLC的强大控制系统,全部触摸
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驰奔GC系列小型离子溅射仪
- 品牌:北京驰奔
- 型号: GC系列
- 产地:
【简介】 驰奔-E系列扫描电镜,高真空模式或高分辨模式,要求样品必须导电良好,否则样品表面荷电造成图像缺陷和分辨率恶化。对于非导电样品,表面导电膜层制备,最常使用溅射金属导电膜层。常用贵金属如Au、Pt、Au/Pd合金,获的细小晶粒的精细膜层。 驰奔GC系列离子溅射仪,可满足各种材料的溅射镀膜、各种扫描电镜额溅射镀膜。为客户提供正确解决方案。【特点】 ● 多种靶材可供可选 ● 两种普通直流和磁控溅射模式可选 ● 大型玻璃工作室,溅射过程中真空稳定,溅射电流稳定,溅射膜层均匀。 ● 可以实现冷溅射,无样品
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溅射设备 MVS
- 品牌:美国MVSystems
- 型号: MVS-sputter
- 产地:美国
溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体
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超高分辨多靶材离子溅射仪
- 品牌:英国Cressington
- 型号: Cressington 208HR
- 产地:英国
Cressington 208HR SPUTTER COATER 超高分辨溅射镀膜仪分子泵超高分辨镀膜,电镜放大倍率可到30-60万倍也不会看到镀膜颗粒,非常适合于现阶段超高分辨场发射电镜或双束电镜,电子探针等,如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等, 日立电镜的SU80000, SU8200, S4800, 9000系列等, 日本电子 7600F, 7800F等, 蔡司的Merlin, Ultra, Gemini, Auriga系列等。分子泵超高分辨镀膜,放大倍率可到
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[公开招标]预算455.23万元 中国海洋大学采购小型超纯水仪
中国海洋大学公开招标小型超纯水仪、电流放大器,小型磁控离子溅射仪、旋转粘度计,光学接触角测试仪、高温烘箱,高精密分析天平、表面电位计,光固化3D打印机、超临界干燥仪,项目编号:HYHAQD2024-0164
- 离子溅射仪
- 仪器网导购专场为您提供离子溅射仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选离子溅射仪的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。