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ES01-PV 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪(光伏专用)
品牌:北京赛凡
型号:ES01-PV
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ES01 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪
品牌:北京赛凡
型号:ES01
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Bruker 椭偏仪 FilmTek 2000M TSV
品牌:德国布鲁克
型号:FilmTek 2000M TSV
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光谱椭偏仪
品牌:沈阳科晶
型号:SE-VM
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光谱椭偏仪
品牌:沈阳科晶
型号:SE-Glass
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HORIBA 研究级经典型椭偏仪 UVISEL Plus
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA UVISEL
- 产地:日本
椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材料的反射率及透过率。
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EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM12-PV
- 产地:
EM12是采用先进的测量技术,针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EM12-PV融合多项量拓科技ZL技术,采用一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件,使得仪器操作简单安全。
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上海致东全光谱椭偏仪
- 品牌:上海致东
- 型号: SE-SEMI-XYZ Auto tage
- 产地:浦东新区
上海致东全光谱椭偏仪
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自动椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-2型
- 产地:津南区
仪器简介:产品特点: 仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率,具有精度高、灵敏度高以及自动控制等特点。光源采用氦氖激光器,功率稳定波长精度高。 仪器采用USB接口与电脑连接,配套软件功能齐全,具有多样数据采集及处理方式,适用于不同用户的需要。技术参数:规格与主要技术指标: 测量范围:1nm-4000nm 折射率范围:1-10 测量最小值:≤1nm 入射角:20°- 90°精度≤0.05° 度盘刻度:每格1度 允许样品尺寸:φ10-φ140mm,厚度≤16mm 偏振器方位角范围:0°- 180° 外形尺寸:
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椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-1 型
- 产地:津南区
仪器简介:在近代科学技术的许多领域中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此,更加精确和迅速的测定给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要。在实际工作中可以利用各种传统的方法测定光学参数,如:布儒斯特角法测介质膜的折射率,干涉法测膜厚,其它测膜厚的方法还有称重法、X射线法、电容法、椭偏法等。由于椭圆偏振法具有灵敏度高、精度高、非破坏性测量等优点,因而,椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸多领域得到广泛应用。技术参数:规格与主要技术指标: 测量范围:薄膜厚度范围:1nm-300nm; 折射率范围:1-1
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椭偏在线监测装备
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PMS
- 产地:沈阳
椭偏在线监测装备针对LCD、OLED等新型平板显示量光学薄膜质量控制需要,专门设计的在线薄膜测量系统。可适用于空气、N2、真空等环境条件,自动实现玻璃基板上各种膜系结构厚度分布、光学常数分布的全片快速扫描测量。椭偏在线监测装备广泛应用于工业中新型光电器件行业所涉及的PI配向膜、光刻胶薄膜、ITO薄膜、有机发光薄膜、有机/无机封装薄膜大基片各种膜系结构厚度分布、光学常数分布的在线式全片快速扫描测量。1、支持产线大基片自定义多点扫描测量并输出报告 2、支持ZD193-2500nm全波段分析测量 3、支持多
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光伏椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-PV
- 产地:沈阳
SE-PV光伏椭偏仪是一款光伏行业领域专用型光谱椭偏仪,针对光伏行业绒面单晶硅或多晶硅太阳能电池表面减反膜测量定制开发,快速实现薄膜物性表征分析。光伏椭偏仪广泛应用于光伏绒面单晶硅或多晶硅表面减反膜椭偏测量应用,实现单层到多层薄膜的薄膜、光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。1、光伏专用光谱椭偏测量技术,材料定制库,一键快速调用 2、配置可倾斜、大角度样件台,调节绒面单晶硅ZJ反射可测反射信息量 3、配置进口高功率、高寿命光源,增加经减反绒面后的可测反射信息量 4、光伏专用散射矩阵算法描述光与锥形表面
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-i
- 产地:沈阳
光谱椭偏仪SE-Vi是一款集成式原位光谱椭偏仪,针对有机/无机镀膜工艺研究的需要开发的原位薄膜在线监测中的定制化开发,快速实现光学薄膜原位表征分析。光谱椭偏仪广泛应用于金属薄膜、有机薄膜、无机薄膜的物理/化学气相沉积,ALD沉积等光学薄膜工艺过程中实际原位在线监测并实时反馈测量物性数据。 产品型号 SE-i 光谱椭偏仪 技术参数 1、自动化程度:固定变角 2、应用定位:原位定制型 3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S等光谱 4、分析光谱:380
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-Glass
- 产地:沈阳
光谱椭偏仪SE-Glass 是一款针对玻璃盖板行业定制的专用型光谱椭偏仪,针对玻璃盖板光学镀膜行业通过集成微光斑+可视化调平系统仪消除透明基底背反测量定制开发,快速实现玻璃盖板上多层薄膜物性表征分析。光谱椭偏仪SE-Glass 广泛应用于玻璃基底山减反膜、调光膜、导电膜等薄膜的膜厚,光学常数测量,WM适用于玻璃盖板、光学薄膜等镀膜检测应用。1、针对手机玻璃盖板光学镀膜工艺定制开发专用光谱椭偏仪 2、旋转补偿器测量技术和光学建模技术 3、微光斑集成设计消除玻璃/膜片基底背反影响 4、可视化样品台调平模块
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全自动椭偏检测机台
- 品牌:沈阳科晶
- 型号:
- 产地:沈阳
全自动椭偏检测机台作为一种小型椭偏集成机台,通过整体高度模块化,电、气路集成技术,实现不同椭偏测量模块在线/离线式整体椭偏测量解决方案。全自动椭偏检测机台广泛应用于科学研究中各种各向同性,异性薄膜材料的膜厚、光学常数以及一维、二维纳米光栅的结构表征;工业领域新型光电器件行业所涉及的薄膜(配向膜、光刻胶、ITO、发光薄膜、封装薄膜)全片离线化快速扫描测量。1、支持实验室研究整体椭偏集成控制测量技术 2、支持产线大基片离线自定义多点扫描测量并输出报告 3、支持多椭偏方案,多组合集成 4、支持测头模块以及样
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-Mapping
- 产地:沈阳
SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。1、全基片椭偏绘制化测量解决方案 2、支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量 3、配置Mapping模块,全基片自定义多
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-L
- 产地:沈阳
SE-L光谱椭偏仪是一款全自动高精度光谱椭偏仪,集众多科技ZL技术,采用行业前沿创新技术,配置全自动测量模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析。SE-L光谱椭偏仪广泛应用于半导体薄膜结构:介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜,激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件、平板显示、光伏太阳能、功能性涂料、生物和化学工程、块状材料分析等领域。1、高精度自动测量光学椭偏测量解决方案 2、全自动变角、调焦等控制平台,一键快速测量 3、软件交互式界
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-VE
- 产地:沈阳
SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。 高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。 广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析
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光谱椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SE-VM
- 产地:沈阳
SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。 高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。 广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析
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全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: ME-L
- 产地:沈阳
ME-L是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于半导体薄膜结构,半导体周期性纳米结构,新材料,新物理现象研究,平板显示,光伏太阳能,功能性涂料,生物和化学工程,块状材料分析以及各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。 双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块,
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天津拓普 TPY-2自动椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-2
- 产地:南开区
TPY-2 自动椭圆偏振测厚仪采用消光法自动控制,自动测量薄膜厚度和折射率,具有精度和灵敏度更高等特点。
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天津拓普 TPY-1椭圆偏振测厚仪
- 品牌:天津拓普
- 型号: TPY-1
- 产地:南开区
TPY-1 椭圆偏振测厚仪采用消光法手动调节,自动测量薄膜厚度和折射率,精度高、灵敏度高、方便测量。
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HORIBA 研究级经典型椭偏仪 UVISEL Plus
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA UVISEL
- 产地:日本
椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材料的反射率及透过率。
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HORIBA 真空紫外椭偏仪 UVISEL 2 VUV
- 品牌:日本堀场
- 型号: UVISEL 2 VUV
- 产地:日本
专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
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EMPro 多入射角激光椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EMPro
- 产地:
EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EMPro采用了量拓科技多项ZL技术。 特点:
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ES01 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ES01
- 产地:
ES01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度全自动光谱椭偏仪,系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见到红外。 ES01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES01系列光谱椭偏仪适合于对样品进行实时和非实时检测。 特点: 原子层量级的检测灵敏度
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ESS03 波长扫描时式 多入射角光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ESS03
- 产地:
ES0S3是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式高精度多入射角光谱椭偏仪,此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。 ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。 ESS03系列多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,膜层厚度、表面微粗糙度等)和光学参数(如,折射率n、消光系数k、复介电常数ε等),也可用于测量块状材料的光学参数。 ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
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EM12 精致型多入射角激光椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM12
- 产地:
EM12是采用先进的测量技术,针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EM12采用了量拓科技多项ZL技术。 特点:
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EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM13
- 产地:
EM13LD 系列是采用先进的测量技术,针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的多入射角激光椭偏仪。 EM13LD系列采用半导体激光器作为光源,可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k;亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。 EM13LD系列采用了量拓科技多项ZL技术。
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ES01-PV 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ES01-PV
- 产地:
ES01-PV是针对光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的高性能光谱椭偏仪。 ES01-PV用于测量和分析光伏领域中多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),典型样品包括:绒面单晶和多晶太阳电池上的单层减反膜(如SiNx,SiO2,TiO2,Al2O3等)和多层减反膜(如,SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx /Al2O3等),以及薄膜太阳电池中的多层纳米薄膜。 特点
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EMPro-PV 型多入射角激光椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EMPro-PV
- 产地:
EMPro-PV是针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EMPro-PV融合多项量拓科技ZL技术,采用一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品,并实现二者的轻松转换。一键式多线程操作软件,使得仪器操作简单安全。 特点:
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ESS01 波长扫描式 自动变角度光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ESS01
- 产地:
ESS01是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的波长扫描式、高精度自动变入射角度光谱椭偏仪,此系列仪器波长范围覆盖紫外、可见、近红外到远红外。 ESS01采用宽光谱光源结合单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。 ESS01系列光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚层厚度、表面为粗糙度等)和光学参数(如,折射率n、消光系数k、复介电常数ε等),也可用于测量块状材料的光学参数。 ESS01适合多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。 技术
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ES03 快速摄谱式 多入射角光谱椭偏仪
- 品牌:北京赛凡
- 型号: ES03
- 产地:
ES03是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度多入射角光谱椭偏仪,仪器波长范围从紫外到近红外。 ES03多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚度)和物理参数(如,折射率n、消光系数k),也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES03系列适合于对样品进行实时和非实时的检测。 特点: 原子层量级的检测灵敏度 国际先进的采样方法、
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EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪(光伏专用)
- 品牌:北京赛凡
- 型号: EM12-PV
- 产地:
EM12是采用先进的测量技术,针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度,以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。 EM12-PV融合多项量拓科技ZL技术,采用一体化样品台技术,兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件,使得仪器操作简单安全。
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HORIBA 一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE
- 品牌:日本堀场
- 型号: HORIBA Auto SE
- 产地:日本
一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE——新型的全自动薄膜测量分析工具。采用工业化设计,操作简单,可在几秒钟内完成全自动测量和分析,并输出分析报告。是用于快速薄膜测量和器件质量控制理想的解决方案。
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HORIBA 智能型多功能椭偏仪 Smart SE
- 品牌:日本堀场
- 型号: Smart SE
- 产地:日本
多功能性设计,配置灵活,具备多角度测量能力,可方便实现在线与离线配置切换。是一款针对单层和多层薄膜进行简单,快速,精确表征和分析的工具。
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HORIBA 在线椭偏仪 In-situ series
- 品牌:日本堀场
- 型号: In-situ series
- 产地:日本
在镀膜或刻蚀的过程中,实时监测样品膜的膜厚以及光学常数(n,k)变化。
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薄膜厚度测量系统
- 品牌:上海孚光精仪
- 型号: FR-Prob
- 产地:德国
这款薄膜厚度测量系统平台是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪,可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器,可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪,比如标准吸收/透过率,反射率的测量,薄膜的测量,薄膜温度和厚度的测量。这个薄膜厚度测量系统由如下5个模块组成:核心模块----光谱仪;外壳模块----各种精密精美的仪器外壳;工作面积模块----测量工作区域;光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件;测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪我们提供多种光谱仪类型
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上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
- 品牌:上海致东
- 型号: SR-PV-1400x1200
- 产地:浦东新区
由椭圆仪校正 量测色度坐标 量测时间1-3s ,精确度高 国内自行研发,价格合理 量测膜厚(N.K)值 .量测穿透率(T%).反射率(R%) FFT for very thick layer (up to 50 um)
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上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
- 品牌:上海致东
- 型号: 全光谱椭圆偏光测厚仪
- 产地:浦东新区
上海致东全光谱椭圆偏光测厚仪
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上海致东HIT异质结光学评价专用机
- 品牌:上海致东
- 型号: OLED、TFT-LCD、Touch Panel
- 产地:浦东新区
针对HIT(异质结)太阳能电池片加以客制化定制量测ITO,n+aSi,aSi,膜厚以及(n,k),反射率(R%)以及穿透率(T%),4PP... SR , R% (Spectroscopic Reflectometer) SE (Spectroscopic Ellipsmeter) 4PP ,Ω/cm2(Four Point Probe) ST,T%(Spectroscopic Transmittance)
- 椭偏仪/椭圆偏振仪
- 仪器网导购专场为您提供椭偏仪/椭圆偏振仪功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选椭偏仪/椭圆偏振仪的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。