离子溅射仪

离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。离子溅射镀膜要求试样干燥清洁。为了使试样表面清洁，必要时将试样与阴极换位，利用火花放电清洁表面。然后试样复原，再进行溅射镀膜。显然，开始正式溅射镀膜时，要换一个新的阴极。以免清洁试样表面时，沉积在阴极表面的杂质污物，再沉积在试样表面。由于溅射时，溅射室中所填充的气体和阴极溅射原子的作用不同，因而有中性溅射和反应溅射两种。现在离子溅射镀膜，多半是在反应气体存在下进行的，化合物沉积膜的稳定性和光学常数，依赖于气体的类型和阴极材料。常用的反应气体为氧气，常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。