原速 原子层沉积系统(ALD)的仪器原理、仪器型号、应用领域等
ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统...
用原子层沉积系统在硅片上沉积氧化铪HfO2和Al2O3,以及砷As参杂多晶硅研究
用原子层沉积系统生长SrTiO3以提高其电学特性
ALD原子层沉积系统资料
蓬勃发展的冻干行业
用户论文:Microtribological properties of molecularly
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