光刻胶用色浆均一性解决方案
公司推出的探针电子束光刻机P-SPL21,利用探针在近光刻胶表面发射低能电子的原理实现光刻效果。该系统的主要特点在于: (1)几乎无邻近效应,能实现3-5nm线宽的超精细光刻结构; (2)用于发射...
X33型号载体名称出品公司载体用途VBI0302X33Invitrogen配套毕赤酵母载体描述:SeveralPichiapastorisstrainsareavailabletoallowyouto...
风淋室检验规则-风淋室行业规范
GB 17403-1998 巧克力厂卫生规范
麻醉气体回收系统
英国EM R公司出品的PMMA系列光刻胶技术资料(1%-17%电子束曝光阻剂)
用BID-2010Plus 分析性气体
光刻胶产品样册
第十二期 光刻胶——光刻图形转移工艺的重要媒介
光刻胶产品彩页
光刻胶 AR Flyer
Pharma MiniLab a small scale compounder
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